公开(公告)号：US20100055582A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12550427

申请日：2009-08-31

申请人： Yuki MIZUKAWA ,  Ryoji GOTO ,  Junichi ITO ,  Hideki TAKAKUWA ,  Shinichi KANNA

发明人： Yuki MIZUKAWA ,  Ryoji GOTO ,  Junichi ITO ,  Hideki TAKAKUWA ,  Shinichi KANNA

IPC分类号： G03F1/00 ,  C07D207/46

CPC分类号： C07D207/46 ,  C09B23/04 ,  C09B57/007 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/022 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105

摘要： A colored curable composition is provided which has good developability, has excellent color purity, can be formed into a thin film, and has a high absorption coefficient. The colored curable composition includes at least one of specific dipyrromethene metal complex compounds and tautomers thereof. Also, a colored curable composition suitable for forming a color filter which is used in a liquid crystal display device or a solid-state imaging device, and a color filter using the colored curable composition and a method of producing the same are provided.

摘要翻译： 提供了具有良好显影性，色纯度优异，可形成薄膜，吸收系数高的着色固化性组合物。 着色固化性组合物包括特定的二吡咯亚甲基金属络合物及其互变异构体中的至少一种。 此外，提供了适用于形成用于液晶显示装置或固态成像装置的滤色器的着色固化性组合物和使用该着色固化性组合物的滤色器及其制造方法。

公开(公告)号：US20090136878A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：US12271510

申请日：2008-11-14

申请人： Shinichi KANNA

发明人： Shinichi KANNA

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L83/00 ,  C08L81/00 ,  C08G77/00

CPC分类号： C08L25/14 ,  C08L27/12 ,  C08L33/10 ,  C08L33/16 ,  C08L33/20 ,  C08L33/26 ,  C08L35/06 ,  C08L43/04 ,  C08L83/06 ,  C08L101/04 ,  C09D7/65 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/092 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A topcoat composition to be applied on a resist film is provided, the topcoat composition including: (A) an alkali-soluble resin; (B) a compound containing at least one of an Si atom and an F atom, and increasing a contact angle on a surface of the topcoat film; and (C) a solvent.

摘要翻译： 提供涂覆在抗蚀剂膜上的面漆组合物，所述面漆组合物包括：（A）碱溶性树脂; （B）含有Si原子和F原子中的至少一种的化合物，并且增加面涂层表面的接触角; 和（C）溶剂。

公开(公告)号：US20090136870A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：US12363303

申请日：2009-01-30

申请人： Toshiaki FUKUHARA ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Toshiaki FUKUHARA ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

公开(公告)号：US07504194B2

公开(公告)日：2009-03-17

申请号：US11636633

申请日：2006-12-11

申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146

摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin showing an increase in the solubility in an alkali developer by the action of an acid; (B) a compound being capable of generating an acid when irradiated with an actinic ray or a radiation; (C) a resin having a silicon-containing repeating unit of a specific structure and being stable to acids but insoluble in an alkali developer; and (D) a solvent; and a pattern making method using the same.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用显示在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有特定结构的含硅重复单元并且对酸稳定但不溶于碱显影剂的树脂; 和（D）溶剂; 和使用该图案的图案制作方法。

公开(公告)号：US20080305433A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12193302

申请日：2008-08-18

申请人： Hiromi KANDA ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

发明人： Hiromi KANDA ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

IPC分类号： G03C1/053

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A positive resist composition comprising: (A) a resin which comes to have an enhanced solubility in an alkaline developing solution by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation; (C) a fluorine-containing compound containing at least one group selected from the groups (x) to (z); and (F) a solvent, and a method of pattern formation with the composition: (x) an alkali-soluble group; (y) a group which decomposes by an action of an alkaline developing solution to enhance a solubility in an alkaline developing solution; and (z) a group which decomposes by an action of an acid.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）通过酸的作用在碱性显影液中具有增强的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; （C）含有选自（x）〜（z）中的至少一种基团的含氟化合物; 和（F）溶剂，以及组合物的图案形成方法：（x）碱溶性基团; （y）通过碱性显影液的作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的基团; 和（z）通过酸的作用分解的基团。

公开(公告)号：US20080187860A1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：US11964454

申请日：2007-12-26

申请人： Hideaki TSUBAKI ,  Shinichi KANNA

发明人： Hideaki TSUBAKI ,  Shinichi KANNA

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A pattern forming method, including: (A) coating a substrate with a positive resist composition of which solubility in a positive developer increases and solubility in a negative developer decreases upon irradiation with actinic rays or radiation, so as to form a resist film; (B) exposing the resist film; and (D) developing the resist film with a negative developer; a positive resist composition for multiple development used in the method; a developer for use in the method; and a rinsing solution for negative development used in the method.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括：（A）用正性显影剂中的溶解度增加的正性抗蚀剂组合物涂覆基材，并且在用光化学辐射或辐射照射时，在负极显影剂中的溶解度降低，以形成抗蚀剂膜; （B）曝光抗蚀膜; 和（D）用负极显影剂显影抗蚀膜; 该方法中使用的用于多重显影的正性抗蚀剂组合物; 用于该方法的开发人员; 以及用于该方法的负显影用冲洗液。

公开(公告)号：US20080171287A1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：US12046204

申请日：2008-03-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition, which comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) contains at least one of: (C1) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having an alicyclic structure; and (C2) a resin containing a repeating unit having at least one of a fluorine atom and a silicon atom in a side chain and a repeating unit having an unsubstituted alkyl group in a side chain; and a pattern forming method.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：（A）在酸性作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）含有以下中的至少一种：（C1）具有氟原子和硅原子中的至少一个并具有脂环结构的树脂; 和（C2）含有侧链中具有氟原子和硅原子中的至少一个的重复单元的树脂和在侧链具有未取代的烷基的重复单元; 和图案形成方法。

公开(公告)号：US07335454B2

公开(公告)日：2008-02-26

申请号：US10317110

申请日：2002-12-12

申请人： Shinichi Kanna ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kunihiko Kodama ,  Tomoya Sasaki

发明人： Shinichi Kanna ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kunihiko Kodama ,  Tomoya Sasaki

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

摘要： A positive resist composition comprising (A) a fluorine group-containing resin, which has a structure substituted with a fluorine atom in the main chain and/or side chain of polymer skeleton and a group that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) an acid generator capable of generating an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and the acid generator of (B) is a compound selected from a sulfonium salt containing no aromatic ring and a compound having a phenacylsulfonium salt structure.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）在聚合物骨架的主链和/或侧链中具有被氟原子取代的结构的含氟基树脂和通过酸的作用而分解的基团以增加 在碱显影剂中的溶解度和（B）能够在光化射线或辐射照射时能产生酸的酸发生剂，（B）的酸产生剂是选自不含芳环的锍盐和具有 苯甲酰锍盐结构。

公开(公告)号：US20070172769A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US11656527

申请日：2007-01-23

申请人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

发明人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A pattern forming method which uses a positive resist composition comprises: (A) a fluorine-free resin capable of increasing its solubility in an alkaline developer under action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (C) a fluorine-containing resin having at least one group selected from the group consisting of (X) an alkali-soluble group, (XI) a group capable of decomposing under action of an alkali developer and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer and (XII) a group capable of decomposing under action of an acid and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer; and (D) a solvent, the method comprising: (i) a step of applying the positive resist composition to a substrate to form a resist coating; (ii) a step of exposing the resist coating to light via an immersion liquid; (iii) a step of removing the immersion liquid remaining on the resist coating; (iv) a step of heating the resist coating; and (v) a step of developing the resist coating.

摘要翻译： 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法包括：（A）能够在酸的作用下增加其在碱性显影剂中的溶解度的无氟树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; （C）具有选自（X）碱溶性基团（XI）中的至少一种基团的含氟树脂，（XI）能够在碱性显影剂的作用下分解的基团和增加树脂的溶解度（C ）和（XII）能够在酸的作用下分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团; 和（D）溶剂，所述方法包括：（i）将正性抗蚀剂组合物施加到基材以形成抗蚀剂涂层的步骤; （ii）通过浸没液体使抗蚀剂涂层曝光的步骤; （iii）去除残留在抗蚀剂涂层上的浸渍液体的步骤; （iv）加热抗蚀剂涂层的步骤; 和（v）开发抗蚀剂涂层的步骤。

公开(公告)号：US07214467B2

公开(公告)日：2007-05-08

申请号：US10455459

申请日：2003-06-06

申请人： Shinichi Kanna ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Tomoya Sasaki

发明人： Shinichi Kanna ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Tomoya Sasaki

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

摘要： The photosensitive resin composition of the present invention is an excellent photosensitive resin composition: exhibiting significant transmissibility at the use of an exposure light source of 160 nm or less, more specifically F2 excimer laser light, where line edge roughness and development time dependence are small and a problem of footing formation is improved; and comprising a resin which decomposes by an action of acid to increase the solubility in alkali developer, in which the resin contains a specific repeat unit; a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation, in which the compound includes at least two kinds of compounds selected from the group consisting of specific compounds (B1), (B2), (B3) and (B4).

摘要翻译： 本发明的感光性树脂组合物是优异的感光性树脂组合物，其在使用160nm以下的曝光光源，更具体地是2/2准分子激光的情况下显示显着的透射性，其中线边 粗糙度和开发时间依赖性小，基础形成问题得到改善; 并且包含通过酸的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的树脂，其中树脂含有特定的重复单元; 其中化合物包括选自特定化合物（B1），（B2），（B3）和（B3）中的至少两种化合物， （B4）。