公开(公告)号：US20080272313A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：US12158451

申请日：2006-12-19

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhemus Van Herpen ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Hendrik Roelof Stapert

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhemus Van Herpen ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Hendrik Roelof Stapert

IPC分类号： G01N21/64

CPC分类号： G01N21/648 ,  G01N21/6428

摘要： The present invention relates to a luminescence sensor (10), such as a luminescence biosensor or a luminescence chemical sensor, comprising at least one aperture (1) having a first lateral dimension larger than the diffraction limit of excitation radiation (3) in a medium the at least one aperture (1) is filled with and a second lateral dimension below the diffraction limit of excitation radiation (3) in a medium the at least one aperture (1) is filled with. The invention furthermore relates to a method for the detection of luminescence radiation (5), e.g. fluorescence radiation, generated by at least one optically variable molecule (2), e.g. fluorophore, in the at least one aperture (1). The excitation radiation (3) is preferably polarised to suppress the excitation radiation (3) in the apertures (1). The luminescence sensor (10) according to the present invention is able to detect relatively low concentrations of optically variable molecules (2), e.g. fluorophores.

摘要翻译： 本发明涉及一种发光传感器（10），例如发光生物传感器或发光化学传感器，其包括至少一个孔（1），其具有比介质中的激发辐射（3）的衍射极限大的第一横向尺寸 所述至少一个孔（1）在所述至少一个孔（1）填充的介质中填充有低于激发辐射（3）的衍射极限的第二横向尺寸。 本发明还涉及用于检测发光辐射（5）的方法，例如， 由至少一个光学可变分子（2）产生的荧光辐射，例如。 在所述至少一个孔（1）中的荧光团。 激发辐射（3）优选地被极化以抑制孔（1）中的激发辐射（3）。 根据本发明的发光传感器（10）能够检测相对低浓度的光学可变分子（2），例如， 荧光团

公开(公告)号：US07397538B2

公开(公告)日：2008-07-08

申请号：US11602475

申请日：2006-11-21

申请人： Wilhelmus Josephus Box ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Niels Machiel Driessen ,  Hendrikus Gijsbertus Schimmel

发明人： Wilhelmus Josephus Box ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Niels Machiel Driessen ,  Hendrikus Gijsbertus Schimmel

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70858

摘要： The invention relates to a radiation system for generating a beam of radiation. The radiation system includes an extreme ultraviolet source constructed and arranged to generate extreme ultraviolet radiation, a contamination barrier constructed and arranged to trap contamination from the radiation source, and a temperature sensor constructed and arranged to sense a temperature of the contamination barrier.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生辐射束的辐射系统。 辐射系统包括构造和布置成产生极紫外辐射的极紫外光源，被构造和布置以捕获来自辐射源的污染物的污染屏障，以及构造和布置成感测污染屏障的温度的温度传感器。

公开(公告)号：US07332731B2

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：US11294347

申请日：2005-12-06

申请人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： A61N5/06

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70008

摘要： A radiation system for providing a projection beam of radiation is disclosed. The radiation system includes an extreme ultraviolet source for providing extreme ultra violet radiation, and a contamination barrier that includes a plurality of closely packed foil plates for trapping contaminant material coming from the radiation source. The contamination barrier encloses the extreme ultraviolet radiation source.

摘要翻译： 公开了一种用于提供投影辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于提供极端紫外辐射的极紫外光源，以及包括多个紧密堆积的箔片的污染屏障，用于捕获来自辐射源的污染物质。 污染屏障包围着极紫外线辐射源。

公开(公告)号：US07106832B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US11031535

申请日：2005-01-10

申请人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： G21K3/00

CPC分类号： G03F7/70916

摘要： Particles emitted by a radiation source, and moving from the radiation source towards a processing system for processing the radiation from the radiation source, are filtered out of radiation propagating through a predetermined cross section of the radiation as emitted by the radiation source by a filter system. The filter system includes a plurality of foils and a transporter for transporting the foils along a trajectory which extends within the beam so that the foils intercept the particles within the beam. The transporter is arranged to transport the foils by a substantially translatory movement of the foils along at least a part of the trajectory.

摘要翻译： 由辐射源发射并从辐射源朝向用于处理来自辐射源的辐射的处理系统移动的颗粒被从辐射源通过辐射源发射的预定横截面传播的辐射滤出，该辐射源由过滤系统 。 过滤器系统包括多个箔片和运送器，用于沿着在光束内延伸的轨迹传送箔片，使得箔片截取光束内的颗粒。 输送器布置成通过沿着轨迹的至少一部分的箔片的基本上平移的运动来运输箔片。

公开(公告)号：US20120040853A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US13131333

申请日：2009-11-17

申请人： Anke Pierik ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Marius Losif Boamfa ,  Richard Joseph Marinus Schroedes ,  Hendrik Roelof Stapert ,  Danielle Elisa Willemine Clout

发明人： Anke Pierik ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Marius Losif Boamfa ,  Richard Joseph Marinus Schroedes ,  Hendrik Roelof Stapert ,  Danielle Elisa Willemine Clout

IPC分类号： C40B30/04

CPC分类号： C12Q1/6851 ,  C12Q2565/519 ,  C12Q2565/101 ,  C12Q2561/113

摘要： The present invention provides method allowing for real time detection of a multitude of target nucleic acids of interest in one reaction (multiplexing) using dyes that are specific for double stranded nucleic acids.

摘要翻译： 本发明提供允许使用对双链核酸特异性的染料的一次反应（多重）中实时检测大量目标核酸的方法。

公开(公告)号：US20120035075A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13264187

申请日：2010-04-13

申请人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Anke Pierik ,  Richard Joseph Marinus Schroeders ,  Marius Iosif Boamfa

发明人： Derk Jan Wilfred Klunder ,  Anke Pierik ,  Richard Joseph Marinus Schroeders ,  Marius Iosif Boamfa

IPC分类号： C40B30/04 ,  B23P11/00 ,  B01L3/00 ,  C40B60/14 ,  C40B60/12

CPC分类号： B01L3/5027 ,  B01J2219/00608 ,  B01L7/52 ,  B01L9/52 ,  B01L9/527 ,  B01L2200/025 ,  B01L2200/141 ,  B01L2300/0609 ,  B01L2300/0636 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0819 ,  B01L2300/0858 ,  B01L2300/0887 ,  G01N2035/00158 ,  Y10T29/49826

摘要： The invention relates to real-time array PCR cartridges. The cartridge (100) has a fluid chamber (101) for a fluid bath (102) and a first support element (200) for fixing a microarray (103) in the fluid chamber (101). Thereby the first support element (200) fixes the microarray (103) in such a way that a change of a size of the microarray (103) due to thermal expansion of the microarray (103) is possible without inducing substantial mechanical stress to the cartridge (100). Thereby the cartridge materials chosen independently from thermal expansion coefficients of different microarrays that are to be inserted and fixed into the cartridge (100).

摘要翻译： 本发明涉及实时阵列PCR盒。 盒（100）具有用于流体槽（102）的流体室（101）和用于将微阵列（103）固定在流体室（101）中的第一支撑元件（200）。 因此，第一支撑元件（200）以这样的方式固定微阵列（103），使得由于微阵列（103）的热膨胀而导致的微阵列（103）的尺寸变化是可能的，而不会对盒子造成实质的机械应力 （100）。 由此，盒材料独立于不同微阵列的热膨胀系数而被选择，其将被插入和固定到盒（100）中。

公开(公告)号：US20100141909A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12519077

申请日：2007-11-27

申请人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailòvitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer ,  Denis Alexandrovich Glushkov

发明人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailòvitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer ,  Denis Alexandrovich Glushkov

IPC分类号： G03B27/54 ,  G21K5/04

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： A radiation system for generating a beam of radiation that defines an optical axis is provided. The radiation system includes a plasma produced discharge source for generating EUV radiation. The discharge source includes a pair of electrodes constructed and arranged to be provided with a voltage difference, and a system for producing a plasma between the pair of electrodes so as to provide a discharge in the plasma between the electrodes. The radiation system also includes a debris catching shield for catching debris from the electrodes. The debris catching shield is constructed and arranged to shield the electrodes from a line of sight provided in a predetermined spherical angle relative the optical axis, and to provide an aperture to a central area between the electrodes in the line of sight.

摘要翻译： 提供了一种用于产生限定光轴的辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。 放电源包括一对构造和布置成具有电压差的电极，以及用于在一对电极之间产生等离子体的系统，以便在电极之间的等离子体中提供放电。 辐射系统还包括用于从电极捕获碎屑的碎片捕获屏蔽。 碎片捕捉屏蔽被构造和布置成屏蔽电极与相对于光轴以预定球面角度提供的视线，并为视线中的电极之间的中心区域提供孔。

公开(公告)号：US07706057B2

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：US12230384

申请日：2008-08-28

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20

CPC分类号： G02B1/10 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

摘要： A multi-layer mirror includes a multi-layer stack. The multi-layer stack includes a plurality of alternating layers with a multi-layer stack top layer and a spectral filter top layer arranged on the multi-layer stack. The spectral filter top layer includes a first spectral purity enhancement layer that includes a first material m1 and has a first layer thickness d1, an intermediate layer that includes a second material m2 and has a second layer thickness d2. The intermediate layer is arranged on the multi-layer stack top layer. The first material is selected from SiN, Si3N4, SiO2, ZnS, Te, diamond, CsI, Se, SiC, amorphous carbon, MgF2, CaF2, TiO2, Ge, PbF2, ZrO2, BaTiO3, LiF or NaF. The second material includes a material different from the first material, and d1+d2 has a thickness between 1.5 and 40 nm.

摘要翻译： 多层反射镜包括多层堆叠。 多层堆叠包括多层交叠层，多层叠层顶层和布置在多层堆叠上的光谱过滤器顶层。 光谱过滤器顶层包括第一光谱纯度增强层，其包括第一材料m1并且具有第一层厚度d1，包括第二材料m2并具有第二层厚度d2的中间层。 中间层布置在多层堆叠顶层上。 第一种材料选自SiN，Si3N4，SiO2，ZnS，Te，金刚石，CsI，Se，SiC，无定形碳，MgF2，CaF2，TiO2，Ge，PbF2，ZrO2，BaTiO3，LiF或NaF。 第二材料包括与第一材料不同的材料，并且d1 + d2具有在1.5和40nm之间的厚度。

公开(公告)号：US07696493B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US11637937

申请日：2006-12-13

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005

摘要： The invention relates to a radiation system for generating electromagnetic radiation. The radiation system includes a pair of electrodes constructed and arranged to generate plasma of a first substance and a pinch in the plasma. The radiation system also includes a plasma recombination surface that is arranged proximate to the pinch, and is configured to neutralize a plurality of plasma particles.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生电磁辐射的辐射系统。 辐射系统包括一对电极，其构造和布置成产生等离子体中的第一物质的等离子体和夹持物。 辐射系统还包括等离子体复合表面，该等离子体复合表面被布置成接近于夹紧，并且被配置为中和多个等离子体颗粒。

公开(公告)号：US20090072168A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：US12289884

申请日：2008-11-06

申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch IVANOV ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch IVANOV ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70925

摘要： A cleaning arrangement is configured to clean an EUV optic of an EUV lithographic apparatus. The partial radical pressure ranges between 0.1-10 Pa. The cleaning arrangement can be configured inside a cleaning cocoon of the lithographic apparatus for offline cleaning. It can also be configured at particular positions inside the apparatus to clean nearby optics during production. In the pressure range of 0.1-10 Pa the penetration of atomic hydrogen into the optical devices is high, while the recombination to molecular hydrogen and hydrogen consumption is limited.

摘要翻译： 清洁装置被配置为清洁EUV光刻设备的EUV光学元件。 部分自由基压力范围在0.1-10Pa之间。清洁装置可以被配置在光刻设备的清洁茧内用于离线清洁。 它也可以配置在设备内的特定位置，以便在生产过程中清洁附近的光学元件。 在0.1-10Pa的压力范围内，原子氢进入光学器件的渗透率很高，而分子氢和氢消耗的复合受到限制。