公开(公告)号：US08388908B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12789186

申请日：2010-05-27

申请人： Iuliu I. Blaga ,  Stevan B. Jovanovich ,  Boris Kobrin ,  Ezra Van Gelder

发明人： Iuliu I. Blaga ,  Stevan B. Jovanovich ,  Boris Kobrin ,  Ezra Van Gelder

IPC分类号： G01N15/06 ,  G01N33/00 ,  G01N33/48

CPC分类号： F16K99/0015 ,  B01L3/502707 ,  B01L3/50273 ,  B01L3/502738 ,  B01L7/52 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0864 ,  B01L2300/0867 ,  B01L2300/0883 ,  B01L2300/0887 ,  B01L2400/0481 ,  B01L2400/0638 ,  B33Y80/00 ,  F16K99/0001 ,  F16K2099/0073 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2224 ,  Y10T137/87716 ,  Y10T156/10 ,  Y10T436/11 ,  Y10T436/2575

摘要： This invention provides fluidic devices, in particular microfluidic devices, with diaphragm valves having low failure rates. Low failure rates are achieved by inhibiting sticking of the diaphragm to functional surfaces such as valve seats, valve chamber and fluidic channels and conduits. One way to implement this is to provide exposed surfaces facing the diaphragm, particularly valve seats, with a low energy material, such as a noble metal, a perfluorinated polymer, a self-assembled monolayer, hard diamond, diamond-like carbon or a metal oxide. In other embodiments, the valves are provided with ridges and the diaphragm is adhered to the fluidic or actuation layer with an adhesive material.

摘要翻译： 本发明提供具有低故障率的隔膜阀的流体装置，特别是微流体装置。 通过抑制膜片到诸如阀座，阀室和流体通道和管道的功能表面的粘附来实现低故障率。 实现这一点的一种方法是提供面向隔膜，特别是阀座的暴露表面，其具有低能材料，例如贵金属，全氟化聚合物，自组装单层，硬金刚石，类金刚石碳或金属 氧化物。 在其他实施例中，阀设置有脊，并且隔膜用粘合剂材料粘附到流体或致动层。

公开(公告)号：US08192920B2

公开(公告)日：2012-06-05

申请号：US12386899

申请日：2009-04-24

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/26 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/2014

摘要： Embodiments of the invention relate to lithography method useful for patterning at sub-micron resolution. This method comprised of deposition and patterning self-assembled monolayer resists using rolling applicator and rolling mask exposure apparatus. Typically the application of these self-assembled monolayers involves contacting substrate materials with a rotatable applicator in the shape of cylinder or cone wetted with precursor materials. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact with self-assembled monolayer. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating mask surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及用于以亚微米分辨率进行图案化的光刻方法。 该方法包括使用滚动涂布器和滚动掩模曝光装置沉积和图案化自组装单层抗蚀剂。 通常，这些自组装单层的应用包括使基材与可旋转的涂布器接触，其以前体材料润湿的圆柱体或锥体的形状。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案衬底的掩模与自组装单层接触。 近场光刻可以使用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转掩模表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。

公开(公告)号：US08182982B2

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：US12384167

申请日：2009-04-01

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/00

CPC分类号： G03B27/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of rotationally symmetric disk materials, like magnetic and optical disks, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cone. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the disk is in contact or close proximity with the disk. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cone surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及用于旋转对称盘材料（如磁性​​和光盘）的纳米图案化的方法和装置，其中可旋转掩模用于对辐射敏感材料成像。 通常，可旋转掩模包括锥体。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案盘的掩模与盘接触或接近。 近场光刻可以利用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转锥形表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。

公开(公告)号：US20110210480A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：US13066473

申请日：2011-04-14

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： B29C59/16

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H04L9/32

摘要： Embodiments of the invention relate to methods of anti-counterfeiting for nanostructures and nanostructured devices. Specifically we describe a method of embedding a coded micro- or nanopatterns in nanostructures fabricated using Near-field rolling mask lithography, where areas of such features can be embedded into a transparent cylindrical or conic frame, or fabricated on the surface of flexible film laminated on the surface of the frame. Alternatively, specific coded nanofeatures distribution can be created using modulation of intensity or wavelength of the light source along the width or length of such cylinder or cone, or modulation of flexible film thickness or contact pressure between the rotatable mask and a substrate.

摘要翻译： 本发明的实施方案涉及用于纳米结构和纳米结构设备的防伪方法。 具体来说，我们描述了一种在使用近场轧制掩模光刻制造的纳米结构中嵌入编码的微型或纳米图案的方法，其中这些特征的区域可以嵌入透明圆柱形或圆锥形框架中，或者在层压在柔性膜的表面上制造 框架的表面。 或者，可以使用沿着这种圆柱体或锥体的宽度或长度的光源的强度或波长的调制或可旋转掩模和基底之间的柔性膜厚度或接触压力的调制来产生特定的编码纳米尺度分布。

公开(公告)号：US06540928B1

公开(公告)日：2003-04-01

申请号：US09658023

申请日：2000-09-08

申请人： Boris Kobrin ,  Edward Ostan

发明人： Boris Kobrin ,  Edward Ostan

IPC分类号： B81C100

CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y40/00 ,  C25D5/022 ,  C25D7/123 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  H01F41/309 ,  Y10T29/49032

摘要： A method and apparatus for fabricating an electroplating mask for the formation of a miniature magnetic pole tip structure. The method incorporates a silylation process to silylate photoresist after creating a photoresist cavity or trench in the electroplating mask. The silylation process is performed after a dry etch of the photoresist. Alternatively, silylation is performed after a lithographic patterning of the trench. As a result of chemical biasing, the vertical side walls of the photoresist layer shift inward creating a narrower trench. The resulting structure formed after electroplating has a width of less than 0.3 micrometers. This structure can be used as a magnetic pole of a thin film head (“TFH”) for a data storage device.

摘要翻译： 一种用于制造用于形成微型磁极尖端结构的电镀掩模的方法和装置。 该方法包括在形成电镀掩模中的光致抗蚀剂腔或沟槽之后使硅烷化光刻胶的甲硅烷基化过程。 在光刻胶的干蚀刻之后进行甲硅烷基化处理。 或者，在沟槽的光刻图案化之后进行甲硅烷基化。 作为化学偏压的结果，光致抗蚀剂层的垂直侧壁向内移动，形成较窄的沟槽。 电镀后形成的结构的宽度小于0.3微米。 该结构可以用作数据存储装置的薄膜头（“TFH”）的磁极。

公开(公告)号：US20140212533A1

公开(公告)日：2014-07-31

申请号：US13756348

申请日：2013-01-31

申请人： Boris Kobrin ,  Ian McMackin

发明人： Boris Kobrin ,  Ian McMackin

IPC分类号： B29C33/38

CPC分类号： B29C33/38 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/3857 ,  B29C33/3878 ,  B29C33/3885 ,  G03F1/70 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005

摘要： Aspects of the present disclosure describe cylindrical molds that may be used to produce cylindrical masks for use in lithography. A structured porous layer may be deposited on an interior surface of a cylinder. A radiation-sensitive material may be deposited over the porous layer in order to fill pores formed in the layer. The radiation-sensitive material in the pores may be cured by exposing the cylinder with a light source. The uncured resist and porous layer may be removed, leaving behind posts on the cylinder's interior surface. It is emphasized that this abstract is provided to comply with the rules requiring an abstract that will allow a searcher or other reader to quickly ascertain the subject matter of the technical disclosure. It is submitted with the understanding that it will not be used to interpret or limit the scope or meaning of the claims.

摘要翻译： 本公开的方面描述了可用于生产用于光刻的圆柱形掩模的圆柱形模具。 结构化多孔层可以沉积在圆柱体的内表面上。 辐射敏感材料可以沉积在多孔层上以便填充形成在层中的孔。 孔中的辐射敏感材料可以通过用光源暴露圆筒来固化。 可以除去未固化的抗蚀剂和多孔层，留下柱体内表面上的柱。 要强调的是，该摘要被提供以符合要求抽象的规则，允许搜索者或其他读者快速确定技术公开的主题。 提交它的理解是，它不会用于解释或限制权利要求的范围或含义。

公开(公告)号：US20130208251A9

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：US12384219

申请日：2009-04-01

申请人： Boris Kobrin ,  Boris Volf ,  Igor Landau

发明人： Boris Kobrin ,  Boris Volf ,  Igor Landau

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/703 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/704

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in contact or close proximity with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及在大面积基板的纳米图案中有用的方法和装置，其中使用可旋转掩模来对辐射敏感材料成像。 通常，可旋转掩模包括圆筒。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案化衬底的掩模与衬底接触或接近。 近场光刻可以使用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转圆柱表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。

公开(公告)号：US08425789B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US12587078

申请日：2009-10-01

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： H01L21/0337

摘要： In anisotropic etching of the substrates, ultra-thin and conformable layers of materials can be used to passivate sidewalls of the etched features. Such a sidewall passivation layer may be a Self-assembled monolayer (SAM) material deposited in-situ etching process from a vapor phase. Alternatively, the sidewall passivation layer may be an inorganic-based material deposited using Atomic Layer Deposition (ALD) method. SAM or ALD s layer deposition can be carried out in a pulsing regime alternating with sputtering and/or etching processes using process gasses with or without plasma. Alternatively, SAM deposition is carried out continuously, while etch or sputtering turns on in a pulsing regime. Alternatively, SAM deposition and etch or sputtering may be carried out continuously. Both types of suggested passivation materials give advantage over state-of-the-art methods in ability to carefully control thickness and uniformity of the layers, thus enable anisotropic etching process for high aspect ratio nanosize features.

摘要翻译： 在基板的各向异性蚀刻中，可以使用超薄和适形的材料层来钝化蚀刻特征的侧壁。 这种侧壁钝化层可以是从气相沉积的原位蚀刻工艺的自组装单层（SAM）材料。 或者，侧壁钝化层可以是使用原子层沉积（ALD）方法沉积的基于无机的材料。 SAM或ALD层沉积可以在脉冲状态下与溅射和/或蚀刻工艺交替进行，使用具有或不具有等离子体的工艺气体。 或者，SAM的沉积是在脉冲状态下进行蚀刻或溅射的。 或者，SAM沉积和蚀刻或溅射可以连续进行。 两种类型的建议的钝化材料都有优于现有技术的方法，以便仔细地控制层的厚度和均匀性，因此能够实现高纵横比纳米尺度特征的各向异性蚀刻工艺。

公开(公告)号：US20110126911A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US12949623

申请日：2010-11-18

申请人： Boris Kobrin ,  Iuliu I. Blaga ,  William Nielsen ,  Shize D. Qi ,  Ezra Van Gelder

发明人： Boris Kobrin ,  Iuliu I. Blaga ,  William Nielsen ,  Shize D. Qi ,  Ezra Van Gelder

IPC分类号： F17D1/00 ,  B32B9/04 ,  B32B37/14 ,  B29C47/00 ,  B32B38/06 ,  B32B38/10 ,  F15C1/04 ,  F16K31/48

CPC分类号： F16K99/0001 ,  B01F11/0071 ,  B01F13/0059 ,  B32B7/02 ,  B32B9/04 ,  B33Y80/00 ,  F16K99/0015 ,  F16K99/0059 ,  F16K2099/008 ,  F16K2099/0084 ,  F16K2099/0094 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2213 ,  Y10T137/86453 ,  Y10T137/87249 ,  Y10T156/1039 ,  Y10T428/31504

摘要： This invention provides composite plastic articles and methods of making them. The articles can be fluidic or microfluidic devices having fluidic conduits and, optionally, pneumatic conduits that regulate flow in the fluidic conduits. The articles comprise a first substrate coated with a layer of a material that comprises, or onto which have been introduced, reactive groups. For example, the substrate can be a plastic coated with an oxide or a siloxane onto which hydroxyl groups have been introduced. These articles are covalently bonded with other articles comprising reactive groups on their surfaces, for example, polysiloxanes treated to have silanol groups. Certain articles have specified locations on their surfaces that are not bonded to the other piece. For example, the coating can be removed from these locations before bonding. Such locations can be useful as functional elements of various devices, such as valve seats in valves of microfluidic devices.

摘要翻译： 本发明提供复合塑料制品及其制造方法。 制品可以是具有流体导管的流体或微流体装置，以及可选地调节流体管道中的流动的气动导管。 制品包括涂覆有材料层的第一基材，其包含或已经引入反应性基团的材料层。 例如，基底可以是涂覆有已经引入羟基的氧化物或硅氧烷的塑料。 这些制品与其表面上包含反应性基团的其它制品共价键合，例如被处理为具有硅烷醇基团的聚硅氧烷。 某些物品在其表面上指定了未粘结到另一件的位置。 例如，可以在粘合之前从这些位置去除涂层。 这样的位置可以用作各种装置的功能元件，例如微流体装置的阀中的阀座。

公开(公告)号：US20090297989A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12384167

申请日：2009-04-01

申请人： Boris Kobrin

发明人： Boris Kobrin

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/00

CPC分类号： G03B27/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/7035 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855

摘要： Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of rotationally symmetric disk materials, like magnetic and optical disks, where a rotatable mask is used to image a radiation-sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cone. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the disk is in contact or close proximity with the disk. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cone surface comprises metal nano holes or nanoparticles.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及用于旋转对称盘材料（如磁性​​和光盘）的纳米图案化的方法和装置，其中可旋转掩模用于对辐射敏感材料成像。 通常，可旋转掩模包括锥体。 纳米图案技术利用近场光刻技术，其中用于图案盘的掩模与盘接触或接近。 近场光刻可以利用弹性体相移掩模，或者可以采用表面等离子体激元技术，其中旋转锥形表面包括金属纳米孔或纳米颗粒。