利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

108 条记录 (耗时 0.039 秒)

    Ultra-thin Polymeric Adhesion Layer
    82.
    发明申请
    Ultra-thin Polymeric Adhesion Layer 有权
    超薄聚合物粘合层

    公开(公告)号：US20090155583A1

    公开(公告)日：2009-06-18

    申请号：US12326709

    申请日：2008-12-02

    申请人： Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    发明人： Frank Y. Xu ,  Edward Brian Fletcher

    IPC分类号： B05D5/10

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0388 ,  Y10T428/261 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/2848 ,  Y10T428/2852 ,  Y10T428/287

    摘要： An imprint lithography imprinting stack includes a substrate and a polymeric adhesion layer adhered to the substrate. The polymeric adhesion layer includes polymeric components with an extended backbone length of at least about 2 nm. The backbones of the polymeric components may be substantially aligned in a planar configuration on the surface of the substrate, such that a thickness of the polymeric adhesion layer is less than about 2 nm.

    摘要翻译： 压印平版印刷叠层包括基底和粘合到基底上的聚合粘合层。 聚合物粘合层包括具有至少约2nm的延伸骨架长度的聚合物组分。 聚合物组分的主链可以基本上在衬底的表面上以平面构型对准，使得聚合物粘合层的厚度小于约2nm。

    Room temperature curable resin
    86.
    发明授权
    Room temperature curable resin 失效
    室温固化树脂

    公开(公告)号：US06204343B1

    公开(公告)日：2001-03-20

    申请号：US09319353

    申请日：1999-06-03

    申请人： Dieter Barucha ,  Dean M. Moren ,  Manfred Stepputtis ,  Frank Y. Xu

    发明人： Dieter Barucha ,  Dean M. Moren ,  Manfred Stepputtis ,  Frank Y. Xu

    IPC分类号： C08L6100

    CPC分类号： C08G65/3322 ,  C08F283/00 ,  C08F290/06

    摘要： A curable composition for electrical applications, the curable composition comprising (i) a compound having at least two &agr;,&bgr;-unsaturated groups and an equivalent weight of less than 250 g/mol, (ii) a catalyst capable of initiating a Michael reaction and (iii) a Michael donor having an equivalent weight of less than 250 g/mol, and a package for using this composition in electical splices.

    摘要翻译： 一种用于电气应用的可固化组合物，所述可固化组合物包含（i）具有至少两个α，β-不饱和基团和当量重量小于250g / mol的化合物，（ii）能够引发迈克尔反应的催化剂和 （iii）当量重量小于250g / mol的迈克尔供体，以及一种在电接头中使用该组合物的包装。

    Single phase fluid imprint lithography method
    89.
    发明授权
    Single phase fluid imprint lithography method 有权
    单相流体压印光刻法

    公开(公告)号：US08211214B2

    公开(公告)日：2012-07-03

    申请号：US12026022

    申请日：2008-02-05

    申请人： Frank Y. Xu ,  Niyaz Khusnatdinov

    发明人： Frank Y. Xu ,  Niyaz Khusnatdinov

    IPC分类号： B01D19/00

    CPC分类号： B01D19/0005 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

    摘要： The present invention is directed toward a method for reducing pattern distortions in imprinting layers by reducing gas pockets present in a layer of viscous liquid deposited on a substrate. To that end, the method includes varying a transport of the gases disposed proximate to the viscous liquid. Specifically, the atmosphere proximate to the substrate wherein a pattern is to be recorded is saturated with gases that are either highly soluble, highly diffusive, or both with respect to either the viscous liquid, the substrate, the template, or a combination thereof. Additionally, or in lieu of saturating the atmosphere, the pressure of the atmosphere may be reduced.

    摘要翻译： 本发明涉及通过减少存在于沉积在基底上的粘性液体层中的气穴来减少压印层中的图案失真的方法。 为此，该方法包括改变靠近粘性液体设置的气体的输送。 具体地说，其中待记录图案的衬底附近的气氛相对于粘性液体，衬底，模板或其组合而被高度可溶，高度扩散或两者的气体饱和。 另外，或者代替饱和气氛，可以降低气氛的压力。

    NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FORMATION OF FUNCTIONAL NANOPARTICLES USING DUAL RELEASE LAYERS
    90.
    发明申请
    NANOIMPRINT LITHOGRAPHY FORMATION OF FUNCTIONAL NANOPARTICLES USING DUAL RELEASE LAYERS 有权
    NANOIMPRINT LITHOGRAPHY使用双重释放层形成功能纳米颗粒

    公开(公告)号：US20120114559A1

    公开(公告)日：2012-05-10

    申请号：US13289601

    申请日：2011-11-04

    申请人： Vikramjit Singh ,  Frank Y. Xu ,  Sidlgata V. Sreenivasan

    发明人： Vikramjit Singh ,  Frank Y. Xu ,  Sidlgata V. Sreenivasan

    IPC分类号： A61K9/14 ,  A61K49/00 ,  B44C1/22 ,  B82Y5/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  A61K9/51 ,  A61K9/5192 ,  B82Y5/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y15/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/701 ,  Y10S977/712 ,  Y10S977/713

    摘要： Functional nanoparticles may be formed using at least one nanoimprint lithography step. In one embodiment, sacrificial material may be patterned on a multilayer substrate including one or more functional layers between removable layers using an imprint lithography process. At least one of the functional layers includes a functional material such as a pharmaceutical composition or imaging agent. The pattern may be further etched into the multilayer substrate. At least a portion of the functional material may then be removed to provide a crown surface exposing pillars. Removing the removable layers releases the pillars from the patterned structure to form functional nanoparticles such as drug or imaging agent carriers.

    摘要翻译： 可以使用至少一个纳米压印光刻步骤形成功能纳米颗粒。 在一个实施例中，牺牲材料可以使用压印光刻工艺在多层衬底上图案化，包括可移除层之间的一个或多个功能层。 至少一个功能层包括诸如药物组合物或成像剂的功能材料。 可以将图案进一步蚀刻到多层基板中。 然后可以去除功能材料的至少一部分以提供暴露柱的冠表面。 去除可移除的层从图案化结构释放柱以形成功能性纳米颗粒，例如药物或成像剂载体。