利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

178 条记录 (耗时 0.045 秒)

    Magnetic storage system
    82.
    发明授权
    Magnetic storage system 失效
    磁存储系统

    公开(公告)号：US06356406B1

    公开(公告)日：2002-03-12

    申请号：US08074485

    申请日：1993-06-11

    申请人： Hisashi Takano ,  Yoshibumi Matsuda ,  Mikio Suzuki

    发明人： Hisashi Takano ,  Yoshibumi Matsuda ,  Mikio Suzuki

    IPC分类号： G11B552

    CPC分类号： G11B5/4938 ,  G11B5/00 ,  G11B5/488 ,  G11B5/49 ,  G11B17/34

    摘要： A multi-pattern is formed to have a plurality of read/write elements on a plane. A medium is formed on a single crystal of Si substrate. A motion of the head relative to the medium is made a simple harmonic motion to form linear recorded bits. This allows fabricating a storage system which provides features of small size, high recording density, high transfer rate, and short access time all at once. The recording density accomplished by the small storage system is extremely high, and may be as high as 10 gigabits per square inch.

    摘要翻译： 多图案形成为在平面上具有多个读/写元件。 在Si衬底的单晶上形成介质。 头相对于介质的运动被做成简单的谐波运动以形成线性记录位。 这允许制造一个提供小尺寸，高记录密度，高传输速率和短访问时间的特征的存储系统。 由小存储系统实现的记录密度非常高，可以高达10吉比特/平方英寸。

    Process for producing a magnetic recording medium
    83.
    发明授权
    Process for producing a magnetic recording medium 有权
    磁记录介质的制造方法

    公开(公告)号：US06340505B1

    公开(公告)日：2002-01-22

    申请号：US09469278

    申请日：1999-12-22

    申请人： Mikio Suzuki ,  Noriyuki Miyamoto ,  Emi Shimaoka ,  Kimie Takagi

    发明人： Mikio Suzuki ,  Noriyuki Miyamoto ,  Emi Shimaoka ,  Kimie Takagi

    IPC分类号： H05H102

    CPC分类号： C23C16/5096 ,  C23C16/26 ,  G11B5/85

    摘要： A hydrogenated or fluorinated carbon protective film is formed on a disk through a plasma CVD method by use of a hydrocarbon-containing reaction gas as a raw material, where the disk comprises a non-magnetic substrate on which a non-magnetic undercoat film and a magnetic film are successively formed, wherein the protective film has a thickness of 2.2 g/cm3 or more.

    摘要翻译： 通过使用含烃反应气体作为原料，通过等离子体CVD法在盘上形成氢化或氟化碳保护膜，其中盘包括非磁性基底，在其上具有非磁性底涂层和 依次形成磁性膜，其中保护膜的厚度为2.2g / cm 3以上。

    Process for producing 2,2'-Bis(hydroxymethyl) alkanoic acid
    84.
    发明授权
    Process for producing 2,2'-Bis(hydroxymethyl) alkanoic acid 失效
    制备2,2'-双（羟甲基）链烷酸的方法

    公开(公告)号：US6072082A

    公开(公告)日：2000-06-06

    申请号：US246964

    申请日：1999-02-09

    申请人： Hideshi Saito ,  Mikio Suzuki ,  Shoji Sakamoto ,  Toshiharu Yokoyama ,  Kouji Maeda

    发明人： Hideshi Saito ,  Mikio Suzuki ,  Shoji Sakamoto ,  Toshiharu Yokoyama ,  Kouji Maeda

    IPC分类号： C07C51/235 ,  C07C45/75 ,  C07C51/285 ,  C07C51/43 ,  C07C51/48 ,  C07C59/105 ,  C07C51/16 ,  C07C59/10

    CPC分类号： C07C51/285 ,  C07C45/75 ,  C07C51/48

    摘要： A process for producing 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid of the present invention, comprises:a 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanal production step (A1) of reacting aliphatic aldehyde having two hydrogen atoms bonded to .alpha.-carbon atom thereof, with formaldehyde in the presence of a water-soluble base;a 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid production step (B) of subjecting the thus obtained aqueous solution (a) containing 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanal and the base to oxidation treatment; andan alkanoic acid recovery step (C) of separating 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid from the thus obtained aqueous solution (b) containing the 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid and the base,in the alkanoic acid recovery step (C), a mineral acid being added to the aqueous solution (b) in an amount of not more than one equivalent based on the base in the aqueous solution (b) to convert the base into a salt thereof,water in the aqueous solution (b) being replaced with an organic solvent to form an organic solvent solution, and after removing the mineral acid salt precipitated from the organic solvent solution, 2,2'-bis(hydroxymethyl)alkanoic acid being crystallized from the organic solvent solution.

    摘要翻译： 制备本发明的2,2'-双（羟甲基）链烷酸的方法包括：使具有两个氢原子的脂族醛键合到α - （羟甲基）链烷酸的2,2'-双（羟甲基）链烷醛生产步骤（A1） 碳原子与甲醛在水溶性碱存在下反应; 将由此得到的含有2,2'-双（羟甲基）链烷醛和碱的水溶液（a）进行氧化处理的2,2'-双（羟甲基）链烷酸制备步骤（B） 和从这样得到的含有2,2'-双（羟甲基）链烷酸和碱的水溶液（b）中分离出2,2'-双（羟甲基）链烷酸的链烷酸回收步骤（C） 链烷酸回收步骤（C），将无机酸以水溶液（b）中的碱为基准添加到水溶液（b）中的量不超过1当量，将碱转化成其盐，将水 在水溶液（b）被有机溶剂代替以形成有机溶剂溶液后，从有机溶剂溶液中除去沉淀的无机酸盐后，从有机溶剂中结晶出2,2'-双（羟甲基）链烷酸 溶剂溶液。

    Optically active beta-aminoalkoxyborane complex
    87.
    发明授权
    Optically active beta-aminoalkoxyborane complex 失效
    光学活性β-氨基烷氧基硼烷络合物

    公开(公告)号：US5808098A

    公开(公告)日：1998-09-15

    申请号：US848169

    申请日：1997-04-29

    申请人： Hiroshi Kashihara ,  Mikio Suzuki ,  Yoshio Ohara

    发明人： Hiroshi Kashihara ,  Mikio Suzuki ,  Yoshio Ohara

    IPC分类号： C07F5/02 ,  C07B53/00 ,  C07C20060101 ,  C07C29/143 ,  C07C67/31 ,  C07C215/28 ,  C07D207/08 ,  C07D211/22 ,  C07D215/14

    CPC分类号： C07D207/08 ,  C07B53/00 ,  C07C215/28 ,  C07C29/143 ,  C07C67/31 ,  C07D215/14 ,  C07F5/022 ,  C07B2200/07 ,  C07C2101/14 ,  C07C2102/10 ,  C07C2103/24 ,  C07C2103/26

    摘要： 1. An optically active .beta.-aminoalkoxyborane complex of the formula (I): ##STR1## wherein R.sup.1 is C.sub.1 -C.sub.8 alkyl, C.sub.3 -C.sub.7 cycloalkyl, C.sub.7 -C.sub.11 aralkyl or C.sub.6 -C.sub.10 aryl, R.sup.2 is hydrogen, C.sub.1 -C.sub.8 alkyl, C.sub.3 -C.sub.7 cycloalkyl or C.sub.7 -C.sub.11 aralkyl, or R.sub.1 and R.sup.2 together form (CH.sub.2).sub.n wherein n is 3 or 4, and Ar is naphthyl, anthryl or phenanthryl, which may be substituted by from 1 to 3 substituents selected from the group consisting of halogen, nitro, C.sub.1 -C.sub.6 alkyl, C.sub.3 -C.sub.7 cycloalkyl, C.sub.2 -C.sub.6 alkenyl, C.sub.2 -C.sub.6 alkynyl, C.sub.7 -C.sub.11 aralkyl, C.sub.6 -C.sub.10 aryl, C.sub.1 -C.sub.6 alkoxy and styrene polymer substituents.

    摘要翻译： 1.式（I）的光学活性β-氨基烷氧基硼烷络合物：其中R 1是C 1 -C 8烷基，C 3 -C 7环烷基，C 7 -C 11芳烷基或C 6 -C 10芳基，R 2是氢，C 1 -C 8烷基，C 3 -C 7环烷基或C 7 -C 11芳烷基，或者R 1和R 2一起形成（CH 2）n，其中n为3或4，Ar为萘基，蒽基或菲基，其可被1至3个取代基取代 选自卤素，硝基，C 1 -C 6烷基，C 3 -C 7环烷基，C 2 -C 6烯基，C 2 -C 6炔基，C 7 -C 11芳烷基，C 6 -C 10芳基，C 1 -C 6烷氧基和苯乙烯聚合物取代基。