公开(公告)号：US09122173B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13398890

申请日：2012-02-17

申请人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： A positioning system to position a table within a base frame of a lithographic apparatus, the positioning system including first and second actuators and a controller. The first actuator exerting an actuation force on the table. The first actuator being connected to a balance mass constructed and arranged to absorb a reaction force of the first actuator. The controller and second actuator constructed and arranged to exert a compensation force and/or torque to compensate a torque caused by the actuation force exerted by the first actuator on the balance mass.

摘要翻译： 一种定位系统，用于将平台定位在光刻设备的基架内，所述定位系统包括第一和第二致动器以及控制器。 第一执行器在桌子上施加致动力。 第一致动器连接到构造和布置成吸收第一致动器的反作用力的平衡块。 控制器和第二致动器构造和布置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第​​一致动器施加在平衡块上的致动力引起的扭矩。

公开(公告)号：US20130050670A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13589775

申请日：2012-08-20

申请人： Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/52 ,  G06F19/00

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2223/5446 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A position measurement system includes a first part and a second part for determining a position of a first member relative to a second member by providing a position signal representing a position of the first part relative to the second part, and a computational unit comprising an input terminal for receiving the position signal. The computational unit is configured to, in use, apply a conversion to the position signal to obtain a signal representing a position of the first member relative to the second member; and apply an adjustment to the conversion to at least partly compensate for a drift of the first part or the second part or both. The adjustment is based on a predetermined drift characteristic of the first part or the second part or both respectively. The predetermined drift characteristic includes one or more base shapes of the first part and/or the second part.

摘要翻译： 位置测量系统包括第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一部件相对于第二部件的位置，以及计算单元，包括输入 端子用于接收位置信号。 计算单元被配置为在使用中将转换应用于位置信号以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号; 并且对所述转换应用调整以至少部分地补偿所述第一部分或所述第二部分或两者的漂移。 该调整基于第一部分或第二部分或两者的预定漂移特性。 预定漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基本形状。

公开(公告)号：US20100149516A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12616312

申请日：2009-11-11

申请人： Erik Roelof LOOPSTRA ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Erik Roelof LOOPSTRA ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： Embodiments of the invention provide a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, an active air mount to support the projection system, the active air mount including at least one actuator, and a feed-forward device, the feed-forward device being configured to provide on the basis of a set-point signal of a movable object, a feed-forward signal to the at least one actuator, wherein the feed-forward signal is designed to decrease a disturbance effect on the projection system due to movement of the movable object.

摘要翻译： 本发明的实施例提供了一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底台，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，用于支撑投影系统的主动空气支架，主动空气支架包括至少一个 致动器和前馈装置，所述前馈装置被配置为基于可移动物体的设定点信号提供到所述至少一个致动器的前馈信号，其中所述前馈信号 被设计成由于可移动物体的移动而减小对投影系统的干扰效应。

公开(公告)号：US08922756B2

公开(公告)日：2014-12-30

申请号：US13589775

申请日：2012-08-20

申请人： Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： H01L23/544 ,  G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7019 ,  H01L21/682 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2223/5446 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A position measurement system includes a first part and a second part for determining a position of a first member relative to a second member by providing a position signal representing a position of the first part relative to the second part, and a computational unit comprising an input terminal for receiving the position signal. The computational unit is configured to, in use, apply a conversion to the position signal to obtain a signal representing a position of the first member relative to the second member; and apply an adjustment to the conversion to at least partly compensate for a drift of the first part or the second part or both. The adjustment is based on a predetermined drift characteristic of the first part or the second part or both respectively. The predetermined drift characteristic includes one or more base shapes of the first part and/or the second part.

摘要翻译： 位置测量系统包括第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一部件相对于第二部件的位置，以及计算单元，包括输入 端子用于接收位置信号。 计算单元被配置为在使用中将转换应用于位置信号以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号; 并且对所述转换应用调整以至少部分地补偿所述第一部分或所述第二部分或两者的漂移。 该调整基于第一部分或第二部分或两者的预定漂移特性。 预定漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基本形状。

公开(公告)号：US20110194088A1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：US13002840

申请日：2009-07-13

申请人： Hans Butler ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Marco Hendrikus Hermanu Oude Nijhuis ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Hans Butler ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Marc Wilhelmus Maria Van der Wijst ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Marco Hendrikus Hermanu Oude Nijhuis ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70833 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70483

摘要： A projection system (PS) is provided that includes a sensor system (20) that measures at least one parameter that relates to the physical deformation of a frame (10) that supports the optical elements (11) within the projection system (PS), and a control system (30) that, based on the measurements from the sensor system (20), determines an expected deviation of the position of the beam of radiation projected by the projection system (PS) that is caused by the physical deformation of the frame (10).

摘要翻译： 提供了一种投影系统（PS），其包括测量与投影系统（PS）内的支撑光学元件（11）的框架（10）的物理变形有关的至少一个参数的传感器系统（20） 以及控制系统（30），其基于来自所述传感器系统（20）的测量，确定由所述投影系统（PS）投射的辐射束的位置对由所述投影系统（PS）的物理变形引起的预期偏差 框架（10）。

公开(公告)号：US09310700B2

公开(公告)日：2016-04-12

申请号：US13810384

申请日：2011-07-18

申请人： Adrianus Hendrik Koevoets ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Sander Frederik Wuister

发明人： Adrianus Hendrik Koevoets ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Sander Frederik Wuister

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/32 ,  G03B27/02 ,  G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70875 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70783

摘要： In an embodiment, a lithography method is disclosed that includes providing a providing a first heat load to a first area of an object, and providing a second heat load to a second area of the object, wherein the second heat load is configured to ensure a deformation of the first area of the object caused by providing both the first heat load and the second heat load is smaller than a deformation of the first area of the object caused by providing only the first heat load.

摘要翻译： 在一个实施例中，公开了一种光刻方法，其包括提供向物体的第一区域提供第一热负荷并且向物体的第二区域提供第二热负荷，其中第二热负荷被配置为确保 通过提供第一热负荷和第二热负荷而引起的物体的第一区域的变形小于由仅提供第一热负荷引起的物体的第一区域的变形。

公开(公告)号：US08300208B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US12616312

申请日：2009-11-11

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： Embodiments of the invention provide a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, an active air mount to support the projection system, the active air mount including at least one actuator, and a feed-forward device, the feed-forward device being configured to provide on the basis of a set-point signal of a movable object, a feed-forward signal to the at least one actuator, wherein the feed-forward signal is designed to decrease a disturbance effect on the projection system due to movement of the movable object.

摘要翻译： 本发明的实施例提供了一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底台，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，用于支撑投影系统的主动空气支架，主动空气支架包括至少一个 致动器和前馈装置，所述前馈装置被配置为基于可移动物体的设定点信号提供到所述至少一个致动器的前馈信号，其中所述前馈信号 被设计成由于可移动物体的移动而减小对投影系统的干扰效应。

公开(公告)号：US20110001254A1

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：US12820492

申请日：2010-06-22

申请人： Yvonne Wendela Kruijt-Stegeman ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Gerard Van Schothorst ,  Johan Frederik Dijksman ,  Carolus Johannes Catharina Schoormans ,  Adrianus Hendrik Koevoets ,  Catharinus De Schiffart ,  Sander Frederik Wuister

发明人： Yvonne Wendela Kruijt-Stegeman ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Gerard Van Schothorst ,  Johan Frederik Dijksman ,  Carolus Johannes Catharina Schoormans ,  Adrianus Hendrik Koevoets ,  Catharinus De Schiffart ,  Sander Frederik Wuister

IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C59/00

CPC分类号： G03F9/7042 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint lithography apparatus is disclosed that includes an imprint template holder arranged to hold an imprint template, and a plurality of position sensors configured to measure change of the size and/or shape of the imprint template, wherein the position sensors are mechanically isolated from the imprint template. Also disclosed is a lithography method that includes using an imprint template to imprint a pattern onto a substrate, and measuring changes of the size and/or shape of the imprint template while imprinting the pattern onto the substrate.

摘要翻译： 公开了一种压印光刻设备，其包括布置成保持压印模板的压印模板保持器和被配置为测量压印模板的尺寸和/或形状的变化的多个位置传感器，其中位置传感器与 印记模板 还公开了一种光刻方法，其包括使用压印模板将图案印刷到基板上，以及在将图案压印到基板上的同时测量压印模板的尺寸和/或形状的变化。

公开(公告)号：US20120147355A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13398890

申请日：2012-02-17

申请人： Hans BUTLER ,  Martinus Agnes Willem CUIJPERS ,  Christiaan Alexander HOOGENDAM ,  Robertus Johannes Marinus DE JONGH ,  Michael Jozef Mathijs RENKENS ,  Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Maurice Willem Jozef Etiënne WIJCKMANS ,  Robertus Leonardus TOUSAIN ,  Ronald Petrus Hendricus FAASSEN ,  Adrianus Hendrik KOEVOETS

发明人： Hans BUTLER ,  Martinus Agnes Willem CUIJPERS ,  Christiaan Alexander HOOGENDAM ,  Robertus Johannes Marinus DE JONGH ,  Michael Jozef Mathijs RENKENS ,  Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST ,  Maurice Willem Jozef Etiënne WIJCKMANS ,  Robertus Leonardus TOUSAIN ,  Ronald Petrus Hendricus FAASSEN ,  Adrianus Hendrik KOEVOETS

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： A positioning system to position a table within a base frame of a lithographic apparatus, the positioning system including first and second actuators and a controller. The first actuator exerting an actuation force on the table. The first actuator being connected to a balance mass constructed and arranged to absorb a reaction force of the first actuator. The controller and second actuator constructed and arranged to exert a compensation force and/or torque to compensate a torque caused by the actuation force exerted by the first actuator on the balance mass.

摘要翻译： 一种定位系统，用于将平台定位在光刻设备的基架内，所述定位系统包括第一和第二致动器以及控制器。 第一执行器在桌子上施加致动力。 第一致动器连接到构造和布置成吸收第一致动器的反作用力的平衡块。 控制器和第二致动器构造和布置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第​​一致动器施加在平衡块上的致动力引起的扭矩。

公开(公告)号：US08144310B2

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：US12409919

申请日：2009-03-24

申请人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： A positioning system to position a table within a base frame of a lithographic apparatus, the positioning system including first and second actuators and a controller. The first actuator exerting an actuation force on the table. The first actuator being connected to a balance mass constructed and arranged to absorb a reaction force of the first actuator. The controller and second actuator constructed and arranged to exert a compensation force and/or torque to compensate a torque caused by the actuation force exerted by the first actuator on the balance mass.

摘要翻译： 一种定位系统，用于将平台定位在光刻设备的基架内，所述定位系统包括第一和第二致动器以及控制器。 第一执行器在桌子上施加致动力。 第一致动器连接到构造和布置成吸收第一致动器的反作用力的平衡块。 控制器和第二致动器构造和布置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第​​一致动器施加在平衡块上的致动力引起的扭矩。