公开(公告)号：US20100144145A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12631152

申请日：2009-12-04

申请人： Satoru TAKAHATA ,  Yukio OZAKI ,  Reizo NUNOZAWA

发明人： Satoru TAKAHATA ,  Yukio OZAKI ,  Reizo NUNOZAWA

IPC分类号： H01L21/203 ,  B05C11/00

CPC分类号： H01L21/67276 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  G05B19/4063 ,  G05B19/41875 ,  G05B2219/31437 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/22

摘要： When a step is delayed, an operator can be rapidly informed of the delay. A substrate processing apparatus comprises a process system configured to process a substrate, a control unit configured to control the process system for performing a plurality of steps, and a manipulation unit configured to monitor progresses of the steps. While the control unit waits for completion of a predetermined one of the steps after the control unit controls the process system to start the predetermined step, if a time elapsing from the start of the predetermined step exceeds an allowable time previously allocated to each of the steps, the control unit transmits an alarm message to the manipulation unit so as to report that the allowable time is exceeded.

摘要翻译： 当一个步骤被延迟时，可以迅速地通知操作者延迟。 基板处理装置包括被配置为处理基板的处理系统，被配置为控制用于执行多个步骤的处理系统的控制单元和被配置为监视步骤的进行的操作单元。 当控制单元在控制单元控制处理系统开始预定步骤之后等待完成预定的一个步骤时，如果从预定步骤的开始经过的时间超过先前分配给每个步骤的允许时间 控制单元向操作单元发送报警信息，以报告超过允许时间。

公开(公告)号：US09437465B2

公开(公告)日：2016-09-06

申请号：US12631152

申请日：2009-12-04

申请人： Satoru Takahata ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa

发明人： Satoru Takahata ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa

IPC分类号： H01L21/203 ,  H01L21/67 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  G05B19/4063 ,  G05B19/418

CPC分类号： H01L21/67276 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  G05B19/4063 ,  G05B19/41875 ,  G05B2219/31437 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/22

摘要： When a step is delayed, an operator can be rapidly informed of the delay. A substrate processing apparatus comprises a process system configured to process a substrate; a control unit configured to control the process system for performing a plurality of steps; and a manipulation unit configured to monitor a progress of each of the plurality of steps, wherein when a time elapsed after the control unit goes into a hold state exceeds an allowable time previously allocated to the one of the plurality of steps while waiting for a completion of the one of the plurality of steps started by the process system, the control unit transmits an alarm message to the manipulation unit so as to inform the manipulation unit that the allowable time is exceeded, terminates the hold state, and performs a recovery action.

摘要翻译： 当一个步骤被延迟时，可以迅速地通知操作者延迟。 衬底处理设备包括被配置为处理衬底的工艺系统; 控制单元，被配置为控制所述处理系统以执行多个步骤; 以及操作单元，被配置为监视所述多个步骤中的每一个的进度，其中当所述控制单元进入保持状态之后经过的时间超过预先分配给所述多个步骤中的所述一个步骤的允许时间，同时等待完成 在由处理系统启动的多个步骤中的一个步骤中，控制单元向操作单元发送报警消息，以通知操作单元超过允许时间，终止保持状态，并执行恢复动作。

公开(公告)号：US08904955B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US12389431

申请日：2009-02-20

申请人： Makoto Nomura ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

发明人： Makoto Nomura ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

IPC分类号： C23C16/00 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67276

摘要： A substrate processing apparatus includes a control unit executing a first recipe for substrate processing. After the substrate processing is completed through the execution of the first recipe, if a predetermined time is elapsed in a state that a next substrate to be processed is not carried into the process chamber, a second recipe is executed for maintaining a process chamber where the substrate is processed.

摘要翻译： 基板处理装置包括执行用于基板处理的第一配方的控制单元。 在通过执行第一配方完成基板处理之后，如果在未处理下一个待处理基板的状态下经过预定时间，则执行第二配方以维持处理室 底物被处理。

公开(公告)号：US20100055808A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12537455

申请日：2009-08-07

申请人： Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

发明人： Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

IPC分类号： H01L21/66 ,  B05C11/00

CPC分类号： H01L22/34 ,  G05B19/418 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67288 ,  H01L22/26 ,  Y02P90/14 ,  Y02P90/20

摘要： A substrate processing apparatus for executing a predetermined process on a substrate loaded into a process chamber by running a recipe containing a plurality of steps is provided. The recipe includes a process step of processing the substrate, and a leak check step executed before the process step to check whether a leak occurs inside the process chamber, and the substrate processing apparatus includes a main control unit configured to execute the process step while keeping an error that occurs in the leak check step.

摘要翻译： 提供了一种用于通过运行包含多个步骤的配方在装载到处理室中的基板上执行预定处理的基板处理装置。 配方包括处理基板的处理步骤和在处理步骤之前执行的检查在处理室内是否发生泄漏的泄漏检查步骤，并且基板处理装置包括主控制单元，其被配置为在保持处理步骤的同时执行处理步骤 泄漏检查步骤中发生的错误。

公开(公告)号：US08443484B2

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：US12222653

申请日：2008-08-13

申请人： Yukio Ozaki ,  Teruo Yoshino ,  Satoru Takahata ,  Reizo Nunozawa

发明人： Yukio Ozaki ,  Teruo Yoshino ,  Satoru Takahata ,  Reizo Nunozawa

IPC分类号： A47L5/38

CPC分类号： H01L21/67017 ,  H01L21/67757

摘要： To automatically purge a transfer chamber by means of inert gas. There is provided a substrate processing apparatus including a controller that performs control so that a transfer chamber 102 connected to a processing chamber 202 for processing a substrate is purged by gas, the controller having a switching unit that switches a function of exhausting the gas in the transfer chamber 102 in a set direction, and a function of circulating the gas through the transfer chamber 102 in an inert gas atmosphere.

摘要翻译： 用惰性气体自动吹扫传送室。 提供了一种基板处理装置，其包括执行控制的控制器，使得连接到用于处理基板的处理室202的传送室102被气体清除，该控制器具有切换单元，该切换单元切换排气中的气体的功能 传送室102在设定方向上，并且具有使气体在惰性气体气氛中循环通过传送室102的功能。

公开(公告)号：US20090229634A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12389431

申请日：2009-02-20

申请人： Makoto Nomura ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

发明人： Makoto Nomura ,  Yukio Ozaki ,  Reizo Nunozawa ,  Satoru Takahata

IPC分类号： B08B5/00

CPC分类号： H01L21/67276

摘要： A substrate processing apparatus comprises a control unit executing a first recipe for substrate processing. After the substrate processing is completed through the execution of the first recipe, if a predetermined time is elapsed in a state that a next substrate to be processed is not carried into the process chamber, a second recipe is executed for maintaining a process chamber where the substrate is processed.

摘要翻译： 基板处理装置包括执行用于基板处理的第一配方的控制单元。 在通过执行第一配方完成基板处理之后，如果在未处理下一个待处理基板的状态下经过预定时间，则执行第二配方以维持处理室 底物被处理。

公开(公告)号：US20090044749A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：US12222653

申请日：2008-08-13

申请人： Yukio Ozaki ,  Teruo Yoshino ,  Satoru Takahata ,  Reizo Nunozawa

发明人： Yukio Ozaki ,  Teruo Yoshino ,  Satoru Takahata ,  Reizo Nunozawa

IPC分类号： B05C11/00 ,  C23C16/52

CPC分类号： H01L21/67017 ,  H01L21/67757

摘要： To automatically purge a transfer chamber by means of inert gas. There is provided a substrate processing apparatus including a controller that performs control so that a transfer chamber 102 connected to a processing chamber 202 for processing a substrate is purged by gas, the controller having a switching unit that switches a function of exhausting the gas in the transfer chamber 102 in a set direction, and a function of circulating the gas through the transfer chamber in an inert gas atmosphere.

摘要翻译： 用惰性气体自动吹扫传送室。 提供了一种基板处理装置，其包括执行控制的控制器，使得连接到用于处理基板的处理室202的传送室102被气体清除，该控制器具有切换单元，该切换单元切换排气中的气体的功能 传送室102在设定方向上，并且在惰性气体气氛中使气体循环通过传送室。