公开(公告)号：US08475702B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US12840114

申请日：2010-07-20

申请人： Yohko Furutono

发明人： Yohko Furutono

IPC分类号： G01B15/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

摘要： According to one embodiment, first image information of a mold is acquired by irradiating the mold with first light, the mold having an uneven pattern with a shape corresponding to a pattern to be transferred onto a substrate to be processed. The position of the uneven pattern of the mold is adjusted by applying stress to the mold. Second image information is acquired by irradiating the mold whose position is adjusted with the first light. Stress information of the mold whose position is adjusted is measured by comparing the first image information with the second image information. The position adjustment is repeated until the measurement result satisfies a desired condition, and a pattern is formed on the substrate by using the mold whose position is adjusted.

摘要翻译： 根据一个实施例，通过用第一光照射模具来获得模具的第一图像信息，该模具具有不均匀图案，其形状对应于要转印到待处理基板上的图案。 通过对模具施加应力来调节模具的不均匀图案的位置。 通过用第一光照射位置调整的模具来获取第二图像信息。 通过将第一图像信息与第二图像信息进行比较来测量调整位置的模具的应力信息。 重复位置调整直到测量结果满足期望的条件，并且通过使用调整位置的模具在基板上形成图案。

公开(公告)号：US20110109012A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：US12884562

申请日：2010-09-17

申请人： Yohko FURUTONO ,  Yoshihisa KAWAMURA

发明人： Yohko FURUTONO ,  Yoshihisa KAWAMURA

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： According to one embodiment, a pattern forming method for imprinting an imprinting surface having recess and protrusion of a template onto an imprint material provided on a target substrate is disclosed. The method includes filling a recess portion of the recess and protrusion with the imprint material. A photo-deformable layer is interposed between at least one of a location between the imprinting surface and the imprint material and a location between the target substrate and the imprint material during the filling. A configuration of the photo-deformable layer is deformable by light irradiation. The method includes curing the imprint material while the recess portion is filled with the imprint material. The method includes releasing the cured imprint material from the imprinting surface by irradiating the photo-deformable layer with light and by deforming the photo-deformable layer. The light has an intensity varying within a plane parallel to the imprinting surface.

摘要翻译： 根据一个实施例，公开了一种用于将具有模板凹陷和突起的压印表面压印到设置在目标基板上的压印材料上的图案形成方法。 该方法包括用压印材料填充凹部和突起的凹部。 可光致变形层插入在压印表面和压印材料之间的位置中的至少之一以及在填充期间在目标衬底和压印材料之间的位置。 可光致变形层的结构可通过光照射而变形。 该方法包括在凹陷部分填充有压印材料的同时固化压印材料。 该方法包括通过用光照射光变形层和通过变形光变形层来从压印表面释放固化的压印材料。 光的强度在平行于压印表面的平面内变化。

公开(公告)号：US08550801B2

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：US13230554

申请日：2011-09-12

申请人： Yohko Furutono ,  Shinji Mikami ,  Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Yohko Furutono ,  Shinji Mikami ,  Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： B29C59/022 ,  B29C35/0888 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： In one embodiment, an imprint apparatus includes a template holding part configured to hold a template for imprint. The apparatus further includes a template moving part configured to move the template to press the template onto a light curing resin on a transfer target substrate or to demold the template from the light curing resin. The apparatus further includes a light source configured to irradiate the light curing resin with light to cure the light curing resin. The apparatus further includes a demold control part configured to control a demold speed or a demold angle of the template, based on a position of a shot region from which the template is to be demolded, when demolding the template from the light curing resin.

摘要翻译： 在一个实施例中，压印装置包括被配置为保持用于印记的模板的模板保持部分。 该装置还包括模板移动部件，其构造成移动模板以将模板按压在转印目标基板上的光固化树脂上，或者从光固化树脂脱模模板。 该装置还包括配置成用光照射光固化树脂以固化光固化树脂的光源。 该设备还包括脱模控制部件，当脱模模板从光固化树脂脱模时，该脱模控制部件被配置为基于模板从其脱模的喷射区域的位置来控制模板的脱模速度或脱模角度。

公开(公告)号：US20130078821A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：US13418030

申请日：2012-03-12

申请人： Yohko FURUTONO

发明人： Yohko FURUTONO

IPC分类号： H01L21/312 ,  B29C59/16

CPC分类号： G03F9/7038 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7084

摘要： In an imprint method according to embodiments, light that hardens a resist is irradiated to a light irradiation region near an alignment mark in order to prevent the resist from being filled in the alignment mark of a template, when the alignment process between the template and a substrate is performed. After the alignment process is completed, the resist is filled in the template pattern and the alignment mark, and then, light that hardens the resist is irradiated onto the template.

摘要翻译： 在根据实施例的压印方法中，为了防止光刻胶填充在模板的对准标记中，将抗蚀剂硬化的光照射到对准标记附近的光照射区域，当模板和 衬底被执行。 在对准处理完成之后，将抗蚀剂填充在模板图案和对准标记中，然后将抗蚀剂硬化的光照射到模板上。

公开(公告)号：US20120061882A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13230554

申请日：2011-09-12

申请人： Yohko Furutono ,  Shinji Mikami ,  Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

发明人： Yohko Furutono ,  Shinji Mikami ,  Masayuki Hatano ,  Tetsuro Nakasugi

IPC分类号： B29C35/08

CPC分类号： B29C59/022 ,  B29C35/0888 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： In one embodiment, an imprint apparatus includes a template holding part configured to hold a template for imprint. The apparatus further includes a template moving part configured to move the template to press the template onto a light curing resin on a transfer target substrate or to demold the template from the light curing resin. The apparatus further includes a light source configured to irradiate the light curing resin with light to cure the light curing resin. The apparatus further includes a demold control part configured to control a demold speed or a demold angle of the template, based on a position of a shot region from which the template is to be demolded, when demolding the template from the light curing resin.

摘要翻译： 在一个实施例中，压印装置包括被配置为保持用于印记的模板的模板保持部分。 该装置还包括模板移动部件，其构造成移动模板以将模板按压在转印目标基板上的光固化树脂上，或者从光固化树脂脱模模板。 该装置还包括配置成用光照射光固化树脂以固化光固化树脂的光源。 该设备还包括脱模控制部件，当脱模模板从光固化树脂脱模时，该脱模控制部件被配置为基于模板从其脱模的喷射区域的位置来控制模板的脱模速度或脱模角度。

公开(公告)号：US20110018173A1

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：US12840114

申请日：2010-07-20

申请人： Yohko FURUTONO

发明人： Yohko FURUTONO

IPC分类号： G01B21/00 ,  B29C59/16

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

摘要： According to one embodiment, first image information of a mold is acquired by irradiating the mold with first light, the mold having an uneven pattern with a shape corresponding to a pattern to be transferred onto a substrate to be processed. The position of the uneven pattern of the mold is adjusted by applying stress to the mold. Second image information is acquired by irradiating the mold whose position is adjusted with the first light. Stress information of the mold whose position is adjusted is measured by comparing the first image information with the second image information. The position adjustment is repeated until the measurement result satisfies a desired condition, and a pattern is formed on the substrate by using the mold whose position is adjusted.

摘要翻译： 根据一个实施例，通过用第一光照射模具来获得模具的第一图像信息，该模具具有不均匀图案，其形状对应于要转印到待处理基板上的图案。 通过对模具施加应力来调节模具的不均匀图案的位置。 通过用第一光照射位置调整的模具来获取第二图像信息。 通过将第一图像信息与第二图像信息进行比较来测量调整位置的模具的应力信息。 重复位置调整直到测量结果满足期望的条件，并且通过使用调整位置的模具在基板上形成图案。

公开(公告)号：US20100164146A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12646683

申请日：2009-12-23

申请人： Yohko FURUTONO ,  Ryoichi Inanami ,  Hiroshi Nomura

发明人： Yohko FURUTONO ,  Ryoichi Inanami ,  Hiroshi Nomura

IPC分类号： B29C59/16 ,  B28B11/08 ,  B29C59/02

CPC分类号： B29C37/0053 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0003 ,  B29C37/006 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3634 ,  B29C2059/023 ,  B29K2105/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： An imprint mold includes a substrate, a concave and convex pattern provided on the substrate and corresponding to a pattern to be transferred, and a gas permeable region having higher gas permeability than molten quartz in which impurities are not doped.

摘要翻译： 压印模具包括基板，设置在基板上并对应于待转印图案的凹凸图案，以及具有比不掺杂杂质的熔融石英更高的透气性的透气区域。

公开(公告)号：US08906281B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US13402244

申请日：2012-02-22

申请人： Masayuki Hatano ,  Takumi Ota ,  Yohko Furutono

发明人： Masayuki Hatano ,  Takumi Ota ,  Yohko Furutono

IPC分类号： B29C59/02 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： In an imprint method according to one embodiment, a template on which a template pattern is formed is pushed against resist on a substrate to be transferred while the resist is cured in this state. The template is subsequently separated from the cured resist. The template is then degassed from the template pattern surface side between after the template is separated from the cured resist and till the template is pushed against resist at the next shot.

摘要翻译： 在根据一个实施例的压印方法中，在该状态下，在抗蚀剂固化的同时，将其上形成有模板图案的模板压在要转印的基板上的抗蚀剂上。 随后将模板与固化的抗蚀剂分离。 然后在模板与固化的抗蚀剂分离之后，直到模板在下一次照射下被抵抗抗蚀剂时，模板从模板图案表面侧脱气。

公开(公告)号：US20120244719A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：US13402244

申请日：2012-02-22

申请人： Masayuki HATANO ,  Takumi OTA ,  Yohko FURUTONO

发明人： Masayuki HATANO ,  Takumi OTA ,  Yohko FURUTONO

IPC分类号： H01L21/304 ,  B29C59/02 ,  B29C47/76

CPC分类号： G03F7/002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： In an imprint method according to one embodiment, a template on which a template pattern is formed is pushed against resist on a substrate to be transferred while the resist is cured in this state. The template is subsequently separated from the cured resist. The template is then degassed from the template pattern surface side between after the template is separated from the cured resist and till the template is pushed against resist at the next shot.

摘要翻译： 在根据一个实施例的压印方法中，在该状态下，在抗蚀剂固化的同时，将其上形成有模板图案的模板压在要转印的基板上的抗蚀剂上。 随后将模板与固化的抗蚀剂分离。 然后在模板与固化的抗蚀剂分离之后，直到模板在下一次照射下被抵抗抗蚀剂时，模板从模板图案表面侧脱气。

公开(公告)号：US20120068372A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：US13233426

申请日：2011-09-15

申请人： Akiko Mimotogi ,  Ryoichi Inanami ,  Kentaro Kasa ,  Masato Suzuki ,  Manabu Takakuwa ,  Yohko Furutono ,  Yumi Nakajima

发明人： Akiko Mimotogi ,  Ryoichi Inanami ,  Kentaro Kasa ,  Masato Suzuki ,  Manabu Takakuwa ,  Yohko Furutono ,  Yumi Nakajima

IPC分类号： B28B11/08 ,  B29C45/76

CPC分类号： G03F7/002 ,  G03F9/7042

摘要： According to one embodiment, a nanoimprint template using a pattern transcription to a substrate by a nanoimprint technique, the template includes a transcription pattern and an alignment mark on a main surface of a main body, wherein the alignment mark comprises a polarizer.

摘要翻译： 根据一个实施方案，使用通过纳米压印技术将图案转录到底物的纳米压印模板，所述模板包括在主体的主表面上的转录图案和对准标记，其中所述对准标记包括偏振器。