公开(公告)号：US09188879B2

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：US13600123

申请日：2012-08-30

申请人： Kentaro Kasa ,  Manabu Takakuwa ,  Ryoichi Inanami ,  Kazuto Matsuki ,  Tetsuro Nakasugi ,  Hiroshi Koizumi ,  Minoru Inomoto

发明人： Kentaro Kasa ,  Manabu Takakuwa ,  Ryoichi Inanami ,  Kazuto Matsuki ,  Tetsuro Nakasugi ,  Hiroshi Koizumi ,  Minoru Inomoto

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70783 ,  G03F7/707

摘要： According to one embodiment, a substrate holding apparatus includes a main unit and a plurality of first support units. The main unit has a major surface. The main unit has a plate configuration. The first support units are disposed on the major surface. Each of the first support units includes a suction-holding unit capable of holding a substrate by suction. The suction-holding unit is movable along a first direction perpendicular to the major surface and a second direction parallel to the major surface.

摘要翻译： 根据一个实施例，一种基板保持装置包括主单元和多个第一支撑单元。 主机具有主要表面。 主机具有板配置。 第一支撑单元设置在主表面上。 每个第一支撑单元包括能够通过抽吸来保持基板的吸持保持单元。 抽吸保持单元可沿垂直于主表面的第一方向和平行于主表面的第二方向移动。

公开(公告)号：US06842230B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10304866

申请日：2002-11-27

申请人： Manabu Takakuwa ,  Keita Asanuma ,  Tatsuhiko Higashiki

发明人： Manabu Takakuwa ,  Keita Asanuma ,  Tatsuhiko Higashiki

IPC分类号： G03F7/22 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/68

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70541 ,  G03F7/70633

摘要： Lens distortion correction is characterized by obtaining a correction parameter by using the difference between the latest QC data used when exposing a overlaying layer and the latest QC data used when exposing a overlaid layer.

摘要翻译： 透镜畸变校正的特征在于通过使用当曝光覆盖层时使用的最新QC数据与曝光覆盖层时使用的最新QC数据之间的差异来获得校正参数。

公开(公告)号：US06741327B2

公开(公告)日：2004-05-25

申请号：US09893631

申请日：2001-06-29

申请人： Hiroshi Nomura ,  Kenji Konomi ,  Manabu Takakuwa

发明人： Hiroshi Nomura ,  Kenji Konomi ,  Manabu Takakuwa

IPC分类号： G03B2768

CPC分类号： G03F7/706 ,  G03F7/70258

摘要： The method of correcting a residual aberration of a projection optical system, which is used for projecting a pattern of a photo mask onto a photosensitive film located on a substrate, the method includes calculating an effect of a residual aberration on a given pattern on the basis of the residual aberration of the projection optical system obtained by measurement, calculating a moving amount of an adjustable aberration in the projection optical system such that the effect of the residual aberration becomes minimum in a given area, and moving the adjustable aberration in accordance with the calculated moving amount.

摘要翻译： 校正用于将光掩模的图案投影到位于基板上的感光膜上的投影光学系统的残余像差的方法，该方法包括基于在基础上计算给定图案上的残余像差的影响 通过测量获得的投影光学系统的残余像差，计算投影光学系统中的可变像差的移动量，使得在给定区域中残余像差的影响变得最小，并且根据 计算移动量。

公开(公告)号：US09541847B2

公开(公告)日：2017-01-10

申请号：US13529617

申请日：2012-06-21

申请人： Masato Suzuki ,  Takuya Kono ,  Manabu Takakuwa ,  Kazuya Fukuhara

发明人： Masato Suzuki ,  Takuya Kono ,  Manabu Takakuwa ,  Kazuya Fukuhara

IPC分类号： B29C59/16 ,  G03F9/00 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  B29C43/02

CPC分类号： G03F9/7042 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： According to one embodiment, an imprint method comprises coating a photo-curable organic material on a film to be processed, bringing a concave-convex pattern of a template into contact with the photo-curable organic material, applying a force to the template in such a state that the template is brought into contact with the photo-curable organic material, curing the photo-curable organic material by irradiating light onto the photo-curable organic material, in such a state that the template is brought into contact with the photo-curable organic material, and releasing the template from the photo-curable organic material after the light irradiation. The force applied to the template corresponds to a gap between a surface of the film to be processed and the template.

摘要翻译： 根据一个实施例，压印方法包括将光固化有机材料涂覆在待加工的膜上，使模板的凹凸图案与光固化有机材料接触，向模板施加力 使模板与光固化性有机材料接触的状态，通过将光照射到光固化性有机材料上来固化光固化性有机材料，使得模板与光固化型有机材料接触， 并且在光照射之后从光固化有机材料释放模板。 施加到模板的力对应于要处理的膜的表面和模板之间的间隙。

公开(公告)号：US20130020741A1

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：US13529617

申请日：2012-06-21

申请人： Masato SUZUKI ,  Takuya Kono ,  Manabu Takakuwa ,  Kazuya Fukuhara

发明人： Masato SUZUKI ,  Takuya Kono ,  Manabu Takakuwa ,  Kazuya Fukuhara

IPC分类号： B29C59/16

CPC分类号： G03F9/7042 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： According to one embodiment, an imprint method comprises coating a photo-curable organic material on a film to be processed, bringing a concave-convex pattern of a template into contact with the photo-curable organic material, applying a force to the template in such a state that the template is brought into contact with the photo-curable organic material, curing the photo-curable organic material by irradiating light onto the photo-curable organic material, in such a state that the template is brought into contact with the photo-curable organic material, and releasing the template from the photo-curable organic material after the light irradiation. The force applied to the template corresponds to a gap between a surface of the film to be processed and the template.

摘要翻译： 根据一个实施例，压印方法包括将光固化有机材料涂覆在待加工的膜上，使模板的凹凸图案与光固化有机材料接触，向模板施加力 使模板与光固化性有机材料接触的状态，通过将光照射到光固化性有机材料上来固化光固化性有机材料，使得模板与光固化型有机材料接触， 并且在光照射之后从光固化有机材料释放模板。 施加到模板的力对应于要处理的膜的表面和模板之间的间隙。

公开(公告)号：US20130222782A1

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：US13600123

申请日：2012-08-30

申请人： Kentaro KASA ,  Manabu Takakuwa ,  Ryoichi Inanami ,  Kazuto Matsuki ,  Tetsuro Nakasugi ,  Hiroshi Koizumi ,  Minoru Inomoto

发明人： Kentaro KASA ,  Manabu Takakuwa ,  Ryoichi Inanami ,  Kazuto Matsuki ,  Tetsuro Nakasugi ,  Hiroshi Koizumi ,  Minoru Inomoto

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70783 ,  G03F7/707

摘要： According to one embodiment, a substrate holding apparatus includes a main unit and a plurality of first support units. The main unit has a major surface. The main unit has a plate configuration. The first support units are disposed on the major surface. Each of the first support units includes a suction-holding unit capable of holding a substrate by suction. The suction-holding unit is movable along a first direction perpendicular to the major surface and a second direction parallel to the major surface.

摘要翻译： 根据一个实施例，一种基板保持装置包括主单元和多个第一支撑单元。 主机具有主要表面。 主机具有板配置。 第一支撑单元设置在主表面上。 每个第一支撑单元包括能够通过抽吸来保持基板的吸持保持单元。 抽吸保持单元可沿垂直于主表面的第一方向和平行于主表面的第二方向移动。

公开(公告)号：US20120068372A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：US13233426

申请日：2011-09-15

申请人： Akiko Mimotogi ,  Ryoichi Inanami ,  Kentaro Kasa ,  Masato Suzuki ,  Manabu Takakuwa ,  Yohko Furutono ,  Yumi Nakajima

发明人： Akiko Mimotogi ,  Ryoichi Inanami ,  Kentaro Kasa ,  Masato Suzuki ,  Manabu Takakuwa ,  Yohko Furutono ,  Yumi Nakajima

IPC分类号： B28B11/08 ,  B29C45/76

CPC分类号： G03F7/002 ,  G03F9/7042

摘要： According to one embodiment, a nanoimprint template using a pattern transcription to a substrate by a nanoimprint technique, the template includes a transcription pattern and an alignment mark on a main surface of a main body, wherein the alignment mark comprises a polarizer.

摘要翻译： 根据一个实施方案，使用通过纳米压印技术将图案转录到底物的纳米压印模板，所述模板包括在主体的主表面上的转录图案和对准标记，其中所述对准标记包括偏振器。