利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

17 条记录 (耗时 0.023 秒)

    DIODE BASED ON ORGANIC MATERIAL
    4.
    发明申请
    DIODE BASED ON ORGANIC MATERIAL 审中-公开
    基于有机材料的二极管

    公开(公告)号：US20120025175A1

    公开(公告)日：2012-02-02

    申请号：US13116690

    申请日：2011-05-26

    申请人： Rene Wirtz ,  Nikolaus Knorr ,  Silvia Rosselli ,  Gabriele Nelles

    发明人： Rene Wirtz ,  Nikolaus Knorr ,  Silvia Rosselli ,  Gabriele Nelles

    IPC分类号： H01L51/10 ,  H01L51/40

    CPC分类号： H01L51/0575 ,  H01L51/0035

    摘要： Semiconductor device, comprising a substrate with a first electrode and having a layer of organic material deposited over the substrate and the first electrode; and a second electrode deposited over the layer of organic material, wherein the second electrode comprises a dielectric layer that is separated from the layer of organic material by the material of the second electrode.

    摘要翻译： 半导体器件，包括具有第一电极并具有沉积在衬底和第一电极上的有机材料层的衬底; 以及沉积在所述有机材料层上的第二电极，其中所述第二电极包括通过所述第二电极的材料与所述有机材料层分离的电介质层。

    METHOD AND SYSTEM FOR DETECTING PARTICLE CONTAMINATION IN AN IMMERSION LITHOGRAPHY TOOL
    5.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR DETECTING PARTICLE CONTAMINATION IN AN IMMERSION LITHOGRAPHY TOOL 有权
    用于检测浸入式光刻工具中颗粒污染的方法和系统

    公开(公告)号：US20100245790A1

    公开(公告)日：2010-09-30

    申请号：US12732751

    申请日：2010-03-26

    申请人： Rolf Seltmann ,  Rene Wirtz

    发明人： Rolf Seltmann ,  Rene Wirtz

    IPC分类号： G03B27/52

    CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085

    摘要： In an immersion lithography tool, the status of the immersion hood surface may be estimated on the basis of an inline detection system that generates optical measurement data. For example, a digital imaging system may be implemented in order to obtain optical measurement data without requiring exposure of the interior of the lithography tool to ambient air. In other cases, other optical measurement techniques, such as FTIR and the like, may be applied.

    摘要翻译： 在浸没光刻工具中，可以基于产生光学测量数据的在线检测系统来估计浸没罩表面的状态。 例如，可以实现数字成像系统以获得光学测量数据，而不需要将光刻工具的内部暴露于环境空气。 在其他情况下，可以应用其它光学测量技术，例如FTIR等。

    Thermoelectric device
    6.
    发明授权
    Thermoelectric device 有权
    热电装置

    公开(公告)号：US08779276B2

    公开(公告)日：2014-07-15

    申请号：US13543209

    申请日：2012-07-06

    申请人： Rene Wirtz ,  Silvia Rosselli ,  Gabriele Nelles

    发明人： Rene Wirtz ,  Silvia Rosselli ,  Gabriele Nelles

    IPC分类号： H01L35/24 ,  H01L35/34 ,  H01L35/02

    CPC分类号： H01L35/24 ,  H01L35/34 ,  H01L51/0005 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/0583

    摘要： The present invention relates to a thermoelectric device, in particular an all-organic thermoelectric device, and to an array of such thermoelectric devices. Furthermore, the present invention relates to a method of manufacturing a thermoelectric device, in particular an all-organic thermoelectric device. Moreover, the present invention relates to uses of the thermoelectric device and/or the array in accordance with the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及热电装置，特别是全有机热电装置，以及这种热电装置的阵列。 此外，本发明涉及一种制造热电装置的方法，特别是全有机热电装置。 此外，本发明涉及根据本发明的热电装置和/或阵列的用途。

    IMMERSION LITHOGRAPHIC PROCESS USING A VARIABLE SCAN SPEED
    7.
    发明申请
    IMMERSION LITHOGRAPHIC PROCESS USING A VARIABLE SCAN SPEED 有权
    使用可变扫描速度的静态图像处理

    公开(公告)号：US20080297749A1

    公开(公告)日：2008-12-04

    申请号：US12013511

    申请日：2008-01-14

    申请人： Rene Wirtz

    发明人： Rene Wirtz

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70341

    摘要： A lithography system and a lithography method is provided for increasing reliability and efficiency of immersion lithography. By varying a scan speed between a wafer and an optical component depending on at least one process parameter during exposure of the wafer, loosening of a fluid meniscus during the relative movement of the optical component and the wafer is avoided.

    摘要翻译： 提供光刻系统和光刻方法以提高浸渍光刻的可靠性和效率。 通过在晶片曝光期间根据至少一个工艺参数改变晶片和光学部件之间的扫描速度，避免了在光学部件和晶片的相对移动过程中的液体弯月面的松动。

    SYNCHRONIZATION OF SHUTTER SIGNALS FOR MULTIPLE 3D DISPLAYS/DEVICES
    8.
    发明申请
    SYNCHRONIZATION OF SHUTTER SIGNALS FOR MULTIPLE 3D DISPLAYS/DEVICES 审中-公开
    用于多个3D显示/设备的快门信号的同步

    公开(公告)号：US20130194399A1

    公开(公告)日：2013-08-01

    申请号：US13809528

    申请日：2011-07-14

    申请人： Rene Wirtz

    发明人： Rene Wirtz

    IPC分类号： H04N13/04

    CPC分类号： H04N13/341 ,  H04N13/398 ,  H04N2013/405 ,  H04N2213/008

    摘要： A device for controlling shutter glasses used in a 3D display system, including: a generator unit generating sync signals used to synchronize shutter glasses with the 3D display system, the sync signals having a timing and a sync rate; a transmit unit for transmitting the sync signals to the shutter glasses, and a sync signal adjusting unit coupled to the generator unit and configured to adjust the timing and/or sync rate of the sync signal generated by the generator unit. The adjusting unit includes a transmit element transmitting an adjusting signal indicating the timing and/or the sync rate and receivable by other devices for controlling shutter glasses.

    摘要翻译： 一种用于控制在3D显示系统中使用的快门眼镜的装置，包括：发生器单元，产生用于将快门眼镜与3D显示系统同步的同步信号，同步信号具有定时和同步速率; 用于将同步信号发送到快门眼镜的发送单元，以及耦合到发生器单元并被配置为调整由发电机单元产生的同步信号的定时和/或同步速率的同步信号调整单元。 调节单元包括发送指示定时和/或同步速率的调整信号的发送元件，并且可由其他用于控制快门眼镜的设备接收。

    Fluorine-passivated reticles for use in lithography and methods for fabricating the same
    9.
    发明授权
    Fluorine-passivated reticles for use in lithography and methods for fabricating the same 有权
    用于光刻的氟钝化掩模版及其制造方法

    公开(公告)号：US07985513B2

    公开(公告)日：2011-07-26

    申请号：US12050383

    申请日：2008-03-18

    申请人： Harry J. Levinson ,  Uzodinma Okoroanyanwu ,  Anna Tchikoulaeva ,  Rene Wirtz

    发明人： Harry J. Levinson ,  Uzodinma Okoroanyanwu ,  Anna Tchikoulaeva ,  Rene Wirtz

    IPC分类号： G03F1/00

    CPC分类号： G03F1/68 ,  G03F1/46 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F1/58

    摘要： Fluorine-passivated reticles for use in lithography and methods for fabricating and using such reticles are provided. According to one embodiment, a method for performing photolithography comprises placing a fluorine-passivated reticle between an illumination source and a target semiconductor wafer and causing electromagnetic radiation to pass from the illumination source through the fluorine-passivated reticle to the target semiconductor wafer. In another embodiment, a fluorine-passivated reticle comprises a substrate and a patterned fluorine-passivated absorber material layer overlying the substrate. According to another embodiment, a method for fabricating a reticle for use in photolithography comprises providing a substrate and forming a fluorine-passivated absorber material layer overlying the substrate.

    摘要翻译： 提供用于光刻的氟钝化的掩模版以及制造和使用这种掩模版的方法。 根据一个实施例，一种用于执行光刻的方法包括在照明源和目标半导体晶片之间放置氟钝化的掩模版，并使电磁辐射从照明源通过氟钝化掩模版到达目标半导体晶片。 在另一个实施例中，氟钝化的掩模版包括衬底和覆盖衬底的图案化的氟钝化吸收材料层。 根据另一实施例，一种用于光刻中使用的掩模版的制造方法包括提供基板并形成覆盖在基板上的氟钝化的吸收材料层。

    Immersion lithographic process using a variable scan speed
    10.
    发明授权
    Immersion lithographic process using a variable scan speed 有权
    浸渍光刻工艺采用可变扫描速度

    公开(公告)号：US07646470B2

    公开(公告)日：2010-01-12

    申请号：US12013511

    申请日：2008-01-14

    申请人： Rene Wirtz

    发明人： Rene Wirtz

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

    CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70341

    摘要： A lithography system and a lithography method is provided for increasing reliability and efficiency of immersion lithography. By varying a scan speed between a wafer and an optical component depending on at least one process parameter during exposure of the wafer, loosening of a fluid meniscus during the relative movement of the optical component and the wafer is avoided.

    摘要翻译： 提供光刻系统和光刻方法以提高浸渍光刻的可靠性和效率。 通过在晶片曝光期间根据至少一个工艺参数改变晶片和光学部件之间的扫描速度，避免了在光学部件和晶片的相对移动过程中的液体弯月面的松动。