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    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source
    2.
    发明申请
    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source 有权
    用于激光产生等离子体EUV光源的气体管理系统

    公开(公告)号：US20090057567A1

    公开(公告)日：2009-03-05

    申请号：US11897644

    申请日：2007-08-31

    申请人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    发明人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    IPC分类号： H05G2/00 ,  H01H1/00

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  Y10S422/906

    摘要： Devices and corresponding methods of use are described herein which may comprise an enclosing structure defining a closed loop flow path and a system generating a plasma at a plasma site, e.g. laser produced plasma system, where the plasma site may be in fluid communication with the flow path. For the device, a gas may be disposed in the enclosing structure which may include an ion-stopping buffer gas and/or an etchant. A pump may be provided to force the gas through the closed loop flow path. One or more heat exchangers removing heat from gas flowing in the flow path may be provided. In some arrangements, a filter may be used to remove at least a portion of a target species from gas flowing in the flow path.

    摘要翻译： 本文描述了装置和相应的使用方法，其可以包括限定闭环流动路径的封闭结构和在等离子体位置处产生等离子体的系统，例如， 激光产生的等离子体系统，其中等离子体位置可以与流动路径流体连通。 对于该装置，气体可以设置在封闭结构中，其可以包括离子停止缓冲气体和/或蚀刻剂。 可以提供泵以迫使气体通过闭环流动路径。 可以提供一种或多种热交换器来从流动路径中流动的气体中除去热量。 在一些布置中，可以使用过滤器来从在流动路径中流动的气体中去除至少一部分目标物种。

    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source
    5.
    发明授权
    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source 有权
    用于激光产生等离子体EUV光源的气体管理系统

    公开(公告)号：US08198615B2

    公开(公告)日：2012-06-12

    申请号：US12658133

    申请日：2010-02-02

    申请人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    发明人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    IPC分类号： H05H1/00 ,  H05H1/24 ,  G21K5/00

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  Y10S422/906

    摘要： Devices and corresponding methods of use are described herein which may comprise an enclosing structure defining a closed loop flow path and a system generating a plasma at a plasma site, e.g. laser produced plasma system, where the plasma site may be in fluid communication with the flow path. For the device, a gas may be disposed in the enclosing structure which may include an ion-stopping buffer gas and/or an etchant. A pump may be provided to force the gas through the closed loop flow path. One or more heat exchangers removing heat from gas flowing in the flow path may be provided. In some arrangements, a filter may be used to remove at least a portion of a target species from gas flowing in the flow path.

    摘要翻译： 本文描述了装置和相应的使用方法，其可以包括限定闭环流动路径的封闭结构和在等离子体位置处产生等离子体的系统，例如， 激光产生的等离子体系统，其中等离子体位置可以与流动路径流体连通。 对于该装置，气体可以设置在封闭结构中，其可以包括离子停止缓冲气体和/或蚀刻剂。 可以提供泵以迫使气体通过闭环流动路径。 可以提供一种或多种热交换器来从流动路径中流动的气体中除去热量。 在一些布置中，可以使用过滤器来从在流动路径中流动的气体中去除至少一部分目标物种。

    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source
    6.
    发明申请
    Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source 有权
    用于激光产生等离子体EUV光源的气体管理系统

    公开(公告)号：US20100140514A1

    公开(公告)日：2010-06-10

    申请号：US12658133

    申请日：2010-02-02

    申请人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    发明人： Alexander N. Bykanov ,  Alexander I. Ershov ,  Igor V. Fomenkov ,  David C. Brandt

    IPC分类号： G21K5/00

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  Y10S422/906

    摘要： Devices and corresponding methods of use are described herein which may comprise an enclosing structure defining a closed loop flow path and a system generating a plasma at a plasma site, e.g. laser produced plasma system, where the plasma site may be in fluid communication with the flow path. For the device, a gas may be disposed in the enclosing structure which may include an ion-stopping buffer gas and/or an etchant. A pump may be provided to force the gas through the closed loop flow path. One or more heat exchangers removing heat from gas flowing in the flow path may be provided. In some arrangements, a filter may be used to remove at least a portion of a target species from gas flowing in the flow path.

    摘要翻译： 本文描述了装置和相应的使用方法，其可以包括限定闭环流动路径的封闭结构和在等离子体位置处产生等离子体的系统，例如， 激光产生的等离子体系统，其中等离子体位置可以与流动路径流体连通。 对于该装置，气体可以设置在封闭结构中，其可以包括离子停止缓冲气体和/或蚀刻剂。 可以提供泵以迫使气体通过闭环流动路径。 可以提供一种或多种热交换器来从流动路径中流动的气体中除去热量。 在一些布置中，可以使用过滤器来从在流动路径中流动的气体中去除至少一部分目标物种。

    Laser produced plasma EUV light source
    9.
    发明授权
    Laser produced plasma EUV light source 有权
    激光产生等离子体EUV光源

    公开(公告)号：US08035092B2

    公开(公告)日：2011-10-11

    申请号：US12655987

    申请日：2010-01-11

    申请人： Alexander N. Bykanov ,  Norbert Bowering ,  Igor V. Fomenkov ,  Alexander I. Ershov ,  Oleh Khodykin

    发明人： Alexander N. Bykanov ,  Norbert Bowering ,  Igor V. Fomenkov ,  Alexander I. Ershov ,  Oleh Khodykin

    IPC分类号： H04H1/04

    CPC分类号： G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

    摘要： A device is disclosed which may comprise a system generating a plasma at a plasma site, the plasma producing EUV radiation and ions exiting the plasma. The device may also include an optic, e.g., a multi-layer mirror, distanced from the site by a distance, d, and a flowing gas disposed between the plasma and optic, the gas establishing a gas pressure sufficient to operate over the distance, d, to reduce ion energy below a pre-selected value before the ions reach the optic. In one embodiment, the gas may comprise hydrogen and in a particular embodiment, the gas may comprise greater than 50 percent hydrogen by volume.

    摘要翻译： 公开了一种可以包括在等离子体位置处产生等离子体的系统，等离子体产生EUV辐射和离开等离子体的离子的装置。 该装置还可以包括一个光学元件，例如多个远离现场的多层反射镜，以及设置在等离子体和光学元件之间的流动气体，该气体建立足以在该距离上操作的气体压力， d，在离子到达光学器件之前，将离子能量降低到预先选定的值以下。 在一个实施方案中，气体可以包含氢气，并且在一个具体实施方案中，气体可以包含大于50体积％的氢气。

    Drive laser delivery systems for euv light source
    10.
    发明申请
    Drive laser delivery systems for euv light source 有权
    驱动用于euv光源的激光输送系统

    公开(公告)号：US20090267005A1

    公开(公告)日：2009-10-29

    申请号：US12322669

    申请日：2009-02-04

    申请人： Alexander N. Bykanov ,  Igor V. Fomenkov ,  Oleh Khodykin ,  Alexander I. Ershov

    发明人： Alexander N. Bykanov ,  Igor V. Fomenkov ,  Oleh Khodykin ,  Alexander I. Ershov

    IPC分类号： G01J3/10

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/70033 ,  H01S3/0064 ,  H01S3/073 ,  H01S3/0805 ,  H01S3/08054 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/083 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1066 ,  H01S3/115 ,  H01S3/121 ,  H01S3/127 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2316 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/008

    摘要： An LPP EUV light source is disclosed having an optic positioned in the plasma chamber for reflecting EUV light generated therein and a laser input window. For this aspect, the EUV light source may be configured to expose the optic to a gaseous etchant pressure for optic cleaning while the window is exposed to a lower gaseous etchant pressure to avoid window coating deterioration. In another aspect, an EUV light source may comprise a target material positionable along a beam path to participate in a first interaction with light on the beam path; an optical amplifier; and at least one optic directing photons scattered from the first interaction into the optical amplifier to produce a laser beam on the beam path for a subsequent interaction with the target material to produce an EUV light emitting plasma.

    摘要翻译： 公开了一种LPP EUV光源，其具有位于等离子体室中的光学器件，用于反射在其中产生的EUV光和激光输入窗口。 对于该方面，EUV光源可以被配置为将窗口暴露于更低的气体蚀刻剂压力以将窗口暴露于气体蚀刻剂压力以进行光学清洁，以避免窗口涂层变质。 在另一方面，EUV光源可以包括沿着光束路径定位以参与与光束路径上的光的第一相互作用的目标材料; 光放大器; 以及至少一个光导向光子从第一相互作用散射到光放大器中以在光束路径上产生激光束，用于随后与目标材料的相互作用以产生EUV发光等离子体。