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公开(公告)号：US20070106040A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：US11507361
申请日：2006-08-21
申请人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin , Edward Kramer
发明人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin , Edward Kramer
IPC分类号： C08F4/44
CPC分类号： A01N37/12 , A01N37/16 , A01N37/36 , C08F4/44 , C08F8/14 , C08F8/18 , C08F8/42 , C08F8/44 , C08F287/00 , C08F297/04 , C08F2810/40 , C08L51/006 , C08L53/02 , C09D5/1637 , C09D5/1668 , C09D151/006 , C09D153/02 , C08L2666/02 , C08F297/02 , C08F8/02 , C08F26/06 , C08F2220/1825 , C08F226/06 , C08F297/046
摘要： The invention provides polymers, methods of preparing polymers, and compositions that include polymers, wherein said polymers include a plurality of two-carbon repeating units in a polymer chain, wherein one or more of the two-carbon repeating units of the polymer chain have tertiary amine or pyridine-containing substituents; and at least about 10% of the nitrogen atoms of the tertiary amine or pyridine-containing substituents are quaternized with alkyl groups or with an alkyl group that contains one or more ethylene glycol groups. The alkyl or ethoxylated alkyl groups can also be at least partially fluorinated. The polymers can be used to provide antimicrobial surfaces and antifouling coatings.
摘要翻译： 本发明提供聚合物，制备聚合物的方法和包括聚合物的组合物，其中所述聚合物包括聚合物链中的多个二碳重复单元，其中聚合物链中的一个或多个二碳重复单元具有叔碳原子 胺或含吡啶取代基; 并且叔胺或含吡啶取代基的至少约10％的氮原子被烷基季铵化或与含有一个或多个乙二醇基团的烷基季铵化。 烷基或乙氧基化的烷基也可以是至少部分氟化的。 聚合物可用于提供抗微生物表面和防污涂料。
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公开(公告)号：US20060083854A1
公开(公告)日：2006-04-20
申请号：US11063242
申请日：2005-02-22
申请人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin
发明人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin
CPC分类号： C08L51/006 , C08F8/00 , C08F8/06 , C08F8/08 , C08F8/18 , C08F8/22 , C08F8/26 , C08F287/00 , C08F297/04 , C08F2810/20 , C08L53/02 , C09D5/1668 , C09D151/006 , C09D153/02 , C08L2666/02 , C08F297/026 , C08F297/046
摘要： The present invention provides compounds of formulae (I), (II), and (III), which can be block copolymers with various substituents and side-chain groups. The side-chains can include semifluorinated alkyl- and PEG-derived groups. The block copolymers can be surface active block copolymers (SABCs) and can be used as antifouling coatings. Coating compositions employing the compounds of the invention and methods for their use are also provided.
摘要翻译： 本发明提供式（I），（II）和（III）的化合物，其可以是具有各种取代基和侧链基团的嵌段共聚物。 侧链可包括半氟代烷基和PEG衍生的基团。 嵌段共聚物可以是表面活性嵌段共聚物（SABC），可用作防污涂料。 还提供了使用本发明化合物的涂料组合物及其使用方法。
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公开(公告)号：US20070053867A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：US11507355
申请日：2006-08-21
申请人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin
发明人： Christopher Ober , Sitaraman Krishnan , Qin Lin
CPC分类号： A01N37/12 , A01N37/16 , A01N37/36 , C08F8/00 , C08F8/02 , C08F8/04 , C08F8/08 , C08F8/10 , C08F8/12 , C08F8/18 , C08F8/24 , C08F8/32 , C08F287/00 , C08F297/04 , C08L51/006 , C08L53/02 , C09D5/1637 , C09D5/1668 , C09D151/006 , C09D153/02 , Y10T428/3154 , C08L2666/02 , C08F297/026 , C08F8/14 , C08F8/30 , C08F297/046 , C08F297/02
摘要： The invention provides polymers, methods of preparing polymers, and compositions that include polymers, wherein said polymers include a plurality of two-carbon repeating units in a polymer chain, wherein one or more of the two-carbon repeating units of the polymer chain have a substituent that is covalently bonded to a semifluorinated alkyl ethoxy moiety, and the semifluorinated alkyl ethoxy moiety is attached to the polymer chain substituent through an ester, amide, ketone, carbamate, amine, or other suitable linking group. The polymers can be used to provide antifouling coatings.
摘要翻译： 本发明提供聚合物，制备聚合物的方法和包括聚合物的组合物，其中所述聚合物包括聚合物链中的多个二碳重复单元，其中聚合物链中的一个或多个双碳重复单元具有 共价键合到半氟代烷基乙氧基部分上的取代基，半氟代烷基乙氧基部分通过酯，酰胺，酮，氨基甲酸酯，胺或其它合适的连接基团连接到聚合物链取代基上。 聚合物可用于提供防污涂料。
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公开(公告)号：US06509138B2
公开(公告)日：2003-01-21
申请号：US09482193
申请日：2000-01-12
申请人： Karen K. Gleason , Christopher Ober , Daniel Herr
发明人： Karen K. Gleason , Christopher Ober , Daniel Herr
IPC分类号： G03F726
摘要： Processes for patterning radiation sensitive layers are disclosed. In one embodiment, the process includes depositing a radiation sensitive material on a substrate by chemical vapor deposition. The radiation sensitive material is exposed to radiation to form a pattern and the pattern is developed using a supercritical fluid (SCF).
摘要翻译： 公开了用于图案化辐射敏感层的方法。 在一个实施例中，该方法包括通过化学气相沉积将辐射敏感材料沉积在基底上。 将辐射敏感材料暴露于辐射以形成图案，并且使用超临界流体（SCF）显影图案。
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5.发明授权Patterning of biomaterials using fluorinated materials and fluorinated solvents 有权使用氟化材料和氟化溶剂的生物材料图案化公开(公告)号：US09259759B2
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：US13582082
申请日：2011-03-01
摘要： A method for patterning biomaterials is presented. The biomaterials exhibit biological activity after patterning. The use of bio-compatible imaging materials and solvents allows conventional lithographic patterning methods to be applied to patterning biomolecules. The method allows deposition of multiple layers without subsequent layers affecting earlier laid deposits and can pattern multiple different biomolecules on a single surface.
摘要翻译： 提出了生物材料图案的方法。 生物材料在图案化后表现出生物活性。 使用生物相容的成像材料和溶剂允许将常规的平版印刷图案化方法应用于图案化生物分子。 该方法允许沉积多层而没有后续层影响较早沉积的沉积物，并且可以在单个表面上图案化多个不同的生物分子。
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6.发明申请Patterning of Biomaterials Using Fluorinated Materials and Fluorinated Solvents 有权使用氟化材料和氟化溶剂的生物材料图案化公开(公告)号：US20130115430A1
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：US13582082
申请日：2011-03-01
摘要： A method for patterning biomaterials is presented. The biomaterials exhibit biological activity after patterning. The use of bio-compatible imaging materials and solvents allows conventional lithographic patterning methods to be applied to patterning biomolecules. The method allows deposition of multiple layers without subsequent layers affecting earlier laid deposits and can pattern multiple different biomolecules on a single surface.
摘要翻译： 提出了生物材料图案的方法。 生物材料在图案化后表现出生物活性。 使用生物相容的成像材料和溶剂允许将常规的平版印刷图案化方法应用于图案化生物分子。 该方法允许沉积多层而没有后续层影响较早沉积的沉积物，并且可以在单个表面上图案化多个不同的生物分子。
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7.发明授权公开(公告)号：US08809111B2
公开(公告)日：2014-08-19
申请号：US13502584
申请日：2010-10-20
IPC分类号： H01L51/40
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0046 , H01L51/0016 , H01L51/0039 , H01L51/0043
摘要： Methods and compositions for obtaining patterned structures comprising fluorine-containing polymeric materials. The fluorine-containing polymeric materials have sufficient fluorine content such that the materials can be patterned using conventional photolithographic/pattern transfer methods and maintain desirable mechanical and physical properties. The patterned structures can be used, for example, in light-emitting devices.
摘要翻译： 用于获得包含含氟聚合材料的图案结构的方法和组合物。 含氟聚合材料具有足够的氟含量，使得可以使用常规的光刻/图案转移方法对材料进行图案化并保持所需的机械和物理性能。 图案化结构可以用于例如发光器件中。
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8.发明申请公开(公告)号：US20120305897A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：US13502584
申请日：2010-10-20
IPC分类号： H01L51/50
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0046 , H01L51/0016 , H01L51/0039 , H01L51/0043
摘要： Methods and compositions for obtaining patterned structures comprising fluorine-containing polymeric materials. The fluorine-containing polymeric materials have sufficient fluorine content such that the materials can be patterned using conventional photolithographic/pattern transfer methods and maintain desirable mechanical and physical properties. The patterned structures can be used, for example, in light-emitting devices.
摘要翻译： 用于获得包含含氟聚合材料的图案结构的方法和组合物。 含氟聚合材料具有足够的氟含量，使得可以使用常规的光刻/图案转移方法对材料进行图案化并保持所需的机械和物理性能。 图案化结构可以用于例如发光器件中。
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9.发明申请Environmentally friendly photoacid generators (PAGs) with no perfluorooctyl sulfonates (PFOS) 有权无全氟辛基磺酸盐（PFOS）的环保光酸产生剂（PAG）公开(公告)号：US20050208420A1
公开(公告)日：2005-09-22
申请号：US11080658
申请日：2005-03-16
IPC分类号： C07C309/10 , G03C1/492 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC分类号： C07C309/10 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要： Novel classes of ionic photoacid generator (PAGs) compounds having relatively environmentally friendly anions with no perfluorooctyl sulfonate (no-PFOS) are provided and photoresist composition that comprise such compounds. The new PAGs produce a photoacid having a short or no perfluoro alkyl chain (ie., no-PFOS) attached to a variety of functional groups. The PAGs of the invention are useful as photoactive component in the chemically amplified resist compositions used for microfabrication.
摘要翻译： 提供具有不具有全氟辛基磺酸盐（无PFOS）的具有相对环境友好的阴离子的离子型光酸产生剂（PAG）化合物的新类别和包含这些化合物的光致抗蚀剂组合物。 新的PAG产生具有连接到各种官能团的短或不全氟烷基链（即，不含PFOS）的光酸。 本发明的PAG可用作用于微细加工的化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分。
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10.发明授权Electrical device including dielectric layer formed by direct patterning process 失效电气设备包括通过直接图案化工艺形成的电介质层公开(公告)号：US06946736B2
公开(公告)日：2005-09-20
申请号：US10279304
申请日：2002-10-23
申请人： Karen K. Gleason , Christopher Ober , Daniel Herr
发明人： Karen K. Gleason , Christopher Ober , Daniel Herr
摘要： Provided is a process for lithographically patterning a material on a substrate comprising the steps of (a) depositing a radiation sensitive material on the substrate by chemical vapor deposition; (b) selectively exposing the radiation sensitive material to radiation to form a pattern; and (c) developing the pattern using a supercritical fluid (SCF) as a developer. Also disclosed is a microstructure formed by the foregoing process. Also disclosed is a process for lithographically patterning a material on a substrate wherein after steps (a) and (b) above, the pattern is developed using a dry plasma etch. Also disclosed is a microstructure comprising a substrate; and a patterned dielectric layer, wherein the patterned dielectric layer comprises at least one two-dimensional feature having a dimensional tolerance more precise than 7%. Also disclosed is a microelectronic structure comprising a substrate; a plurality of transistors formed on the substrate; and a plurality of conductive features formed within a dielectric pattern, wherein the plurality of conductive features include at least one two-dimensional feature having a dimensional tolerance more precise than 7%.
摘要翻译： 提供了一种用于在衬底上光刻图案化材料的方法，包括以下步骤：（a）通过化学气相沉积在衬底上沉积辐射敏感材料; （b）将辐射敏感材料选择性地暴露于辐射以形成图案; 和（c）使用超临界流体（SCF）作为显影剂显影图案。 还公开了通过上述方法形成的微结构。 还公开了一种用于光刻图案化衬底上的材料的方法，其中在上述步骤（a）和（b）之后，使用干等离子体蚀刻显影图案。 还公开了一种包含基底的微结构; 以及图案化的介电层，其中所述图案化的介电层包括具有比7％更精确的尺寸公差的至少一个二维特征。 还公开了包括基底的微电子结构; 形成在所述基板上的多个晶体管; 以及形成在电介质图案内的多个导电特征，其中所述多个导电特征包括具有比7％更精确的尺寸公差的至少一个二维特征。
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