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    Method of manufacturing nanoimprint stamp
    1.
    发明授权
    Method of manufacturing nanoimprint stamp 有权
    制造纳米压印印花的方法

    公开(公告)号：US08603349B2

    公开(公告)日：2013-12-10

    申请号：US13170766

    申请日：2011-06-28

    申请人： Byung-kyu Lee ,  Du-hyun Lee ,  Woong Ko

    发明人： Byung-kyu Lee ,  Du-hyun Lee ,  Woong Ko

    IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00

    CPC分类号： B41C1/02 ,  B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0015

    摘要： Methods of manufacturing a nanoimprint stamp are provided. The method may include forming a pattern on a surface of a master substrate, depositing an etch barrier layer on a surface of a stamp substrate, coating a photoresist on one of the surfaces of the master substrate and the stamp substrate on which an etch barrier layer is formed, forming a photoresist pattern by pressing the master substrate against the stamp substrate, forming a hard mask by etching the etch barrier layer using the photoresist pattern, and etching the stamp substrate using the hard mask as an etch mask.

    摘要翻译： 提供制造纳米压印印模的方法。 该方法可以包括在母板的表面上形成图案，在印模基板的表面上沉积蚀刻阻挡层，在主基板和印模基板的一个表面上涂覆光致抗蚀剂，在其上具有蚀刻阻挡层 形成光刻胶图案，通过将母版基板压靠在印模基板上，通过使用光致抗蚀剂图案蚀刻蚀刻阻挡层形成硬掩模，并使用硬掩模作为蚀刻掩模蚀刻印模基板。

    Methods of fabricating nanoimprint stamp
    4.
    发明授权
    Methods of fabricating nanoimprint stamp 失效
    制造纳米压印印章的方法

    公开(公告)号：US08562842B2

    公开(公告)日：2013-10-22

    申请号：US13181660

    申请日：2011-07-13

    申请人： Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee ,  Woong Ko

    发明人： Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee ,  Woong Ko

    IPC分类号： B44C1/22 ,  C23F1/02

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0017

    摘要： A method of fabricating a nanoimprint stamp includes forming a resist pattern having a nano size width on a stamp substrate by performing imprint processes repeatedly. In the imprint processes, resist layers that are selectively etched are sequentially used. The stamp substrate is etched using the resist pattern as an etch mask.

    摘要翻译： 制造纳米压印印模的方法包括通过重复进行压印处理，在印模基板上形成具有纳米尺寸宽度的抗蚀剂图案。 在压印工艺中，依次使用被选择性蚀刻的抗蚀剂层。 使用抗蚀剂图案作为蚀刻掩模蚀刻印模基板。

    Method Of Manufacturing Nanoimprint Stamp
    5.
    发明申请
    Method Of Manufacturing Nanoimprint Stamp 有权
    制造纳米印记邮票的方法

    公开(公告)号：US20120152887A1

    公开(公告)日：2012-06-21

    申请号：US13170766

    申请日：2011-06-28

    申请人： Byung-kyu Lee ,  Du-hyun Lee ,  Woong Ko

    发明人： Byung-kyu Lee ,  Du-hyun Lee ,  Woong Ko

    IPC分类号： B29C33/42 ,  B82Y30/00

    CPC分类号： B41C1/02 ,  B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0015

    摘要： Methods of manufacturing a nanoimprint stamp are provided. The method may include forming a pattern on a surface of a master substrate, depositing an etch barrier layer on a surface of a stamp substrate, coating a photoresist on one of the surfaces of the master substrate and the stamp substrate on which an etch barrier layer is formed, forming a photoresist pattern by pressing the master substrate against the stamp substrate, forming a hard mask by etching the etch barrier layer using the photoresist pattern, and etching the stamp substrate using the hard mask as an etch mask.

    摘要翻译： 提供制造纳米压印印模的方法。 该方法可以包括在母板的表面上形成图案，在印模基板的表面上沉积蚀刻阻挡层，在主基板和印模基板的一个表面上涂覆光致抗蚀剂，在其上具有蚀刻阻挡层 形成光刻胶图案，通过将母版基板压靠在印模基板上，通过使用光致抗蚀剂图案蚀刻蚀刻阻挡层形成硬掩模，并使用硬掩模作为蚀刻掩模蚀刻印模基板。

    Imprinting stamp and nano-imprinting method using the same
    6.
    发明授权
    Imprinting stamp and nano-imprinting method using the same 有权
    印记邮票和使用相同的纳米印记法

    公开(公告)号：US09360751B2

    公开(公告)日：2016-06-07

    申请号：US13617874

    申请日：2012-09-14

    申请人： Ki-yeon Yang ,  Woong Ko ,  Jae-kwan Kim ,  Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee

    发明人： Ki-yeon Yang ,  Woong Ko ,  Jae-kwan Kim ,  Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee

    IPC分类号： G03F7/00 ,  B29C59/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C59/022 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

    摘要： An imprinting stamp and a nano-imprinting method using the imprinting stamp are provided. The imprinting stamp includes a first substrate; one or more field regions on the first substrate, the first substrate including nano-patterns; and a first dummy pattern region on the first substrate and adjacent to the field region, the dummy pattern region including first dummy patterns having greater dimensions than that of the nano-patterns, the first dummy patterns being a plurality of polygons, each of the polygons having a vertex pointing in a first direction proceeding from the field region toward the first dummy pattern region.

    摘要翻译： 提供使用印记印记的印记印记和纳米印记法。 印记印模包括第一基板; 所述第一基板上的一个或多个场区域，所述第一基板包括纳米图案; 以及在所述第一基板上并且与所述场区域相邻的第一虚设图案区域，所述虚设图案区域包括具有比所述纳米图案的尺寸更大的尺寸的第一虚设图案，所述第一虚设图案是多个多边形，每个所述多边形 具有指向从场区域朝向第一虚拟图案区域的第一方向的顶点。

    ORGANIC- INORGANIC HYBRID MATERIAL AND STAMP FOR NANOIMPRINT MANUFACTURED FROM THE SAME
    8.
    发明申请
    ORGANIC- INORGANIC HYBRID MATERIAL AND STAMP FOR NANOIMPRINT MANUFACTURED FROM THE SAME 审中-公开
    有机无机混合材料和印花从其制造的纳米薄膜

    公开(公告)号：US20120048184A1

    公开(公告)日：2012-03-01

    申请号：US13096471

    申请日：2011-04-28

    申请人： Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee ,  Woong Ko

    发明人： Du-hyun Lee ,  Byung-kyu Lee ,  Woong Ko

    IPC分类号： B29C35/08 ,  C08G77/62 ,  C08G77/02 ,  C08G79/00 ,  B05C1/02 ,  C08G79/10

    CPC分类号： C08G79/00

    摘要： Organic-inorganic hybrid materials may be inorganic-based materials including more inorganic material than organic material. The organic-inorganic hybrid materials may include a backbone material, a release material, and a photoinitiator. The backbone material may be formed of an inorganic material, and at least one of the release material and the photoinitiator may be formed of an organic material. The backbone material may include a compound (e.g., an oxide or a nitride) containing at least one selected from the group consisting of Si, In, Zn, Al, and Ti. The release material may include at least one selected from the group consisting of alkyl (CnH2n+1), C, F, and Si.

    摘要翻译： 有机 - 无机混合材料可以是包括比有机材料更多的无机材料的无机基材料。 有机 - 无机混合材料可以包括骨架材料，剥离材料和光引发剂。 骨架材料可以由无机材料形成，并且剥离材料和光引发剂中的至少一种可以由有机材料形成。 骨架材料可以包括含有选自Si，In，Zn，Al和Ti中的至少一种的化合物（例如，氧化物或氮化物）。 剥离材料可以包括选自烷基（C n H 2n + 1），C，F和Si中的至少一种。