公开(公告)号：US06867913B2

公开(公告)日：2005-03-15

申请号：US09920285

申请日：2001-08-01

申请人： Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger ,  Michael Mühlbeyer

发明人： Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger ,  Michael Mühlbeyer

IPC分类号： G02B17/06 ,  G03F7/20 ,  G02B17/00

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

摘要： There is provided a microlithography projection objective for short wavelengths, with an entrance pupil and an exit pupil for imaging an object field in an image field, which represents a segment of a ring field, in which the segment has an axis of symmetry and an extension perpendicular to the axis of symmetry and the extension is at least 20 mm. The objective comprises a first (S1), a second (S2), a third (S3), a fourth (S4), a fifth (S5) and a sixth mirror (S6) in centered arrangement relative to an optical axis. Each of these mirrors have an off-axis segment, in which the light beams traveling through the projection objective impinge. The diameter of the off-axis segment of the first, second, third, fourth, fifth and sixth mirrors as a function of the numerical aperture NA of the objective at the exit pupil is ≦1200 mm * NA.

摘要翻译： 提供了用于短波长的微光刻投影物镜，具有用于对图像场中的物场进行成像的入射光瞳和出射光瞳，其表示环形场的区段，其中该区段具有对称轴和延伸部 垂直于对称轴和延伸部至少为20mm。 目标包括相对于光轴居中排列的第一（S1），第二（S2），第三（S3），第四（S4），第五（S5）和第六反射镜（S6）。 这些反射镜中的每一个具有离轴部分，其中穿过投影物镜的光束撞击其中。 作为出射光瞳处的物镜的数值孔径NA的函数的第一，第二，第三，第四，第五和第六反射镜的离轴部分的直径为<= 1200MM * NA。

公开(公告)号：US06577443B2

公开(公告)日：2003-06-10

申请号：US09878697

申请日：2001-06-11

申请人： Udo Dinger ,  Hans-Jürgen Mann

发明人： Udo Dinger ,  Hans-Jürgen Mann

IPC分类号： G02B510

CPC分类号： G03F7/70358 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70233 ,  Y10S359/90

摘要： A reduction objective, a projection exposure apparatus with a reduction objective, and a method of use thereof are disclosed. The reduction objective has a first set of multilayer mirrors in centered arrangement with respect to a first optical axis, a second set of multilayer mirrors in centered arrangement with respect to a second optical axis, and an additional mirror disposed at grazing incidence, such that said additional mirror defines an angle between the first optical axis and said second optical axis. The reduction objective has an imaging reduction scale of approximately 4× for use in soft X-ray, i.e., EUV and UV, annular field projection applications, such as lithography

摘要翻译： 公开了一种还原目标，具有还原目标的投影曝光装置及其使用方法。 还原物镜具有相对于第一光轴居中布置的第一组多层反射镜，相对于第二光轴居中布置的第二组多层反射镜，以及放置在入射处的附加镜，使得所述多层反射镜 另外的反射镜限定了第一光轴和所述第二光轴之间的角度。 还原目标具有用于软X射线（即EUV和UV）环形场投影应用中的大约4x的成像缩小比例，例如光刻

公开(公告)号：US07375798B2

公开(公告)日：2008-05-20

申请号：US11657420

申请日：2007-01-24

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B5/10

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： There is provided an EUV optical projection system. The system includes a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror, a fifth mirror, and a sixth mirror situated in an optical path from an object plane to an image plane, for imaging an object in said object plane into an image in said image plane. The image has a width W and a secant length SL, and the width W is greater than about 2 mm.

摘要翻译： 提供了一个EUV光学投影系统。 该系统包括位于从物平面到像平面的光路中的第一镜，第二镜，第三镜，第四镜，第五镜和第六镜，用于将所述物平面中的物体成像成 所述图像平面中的图像。 图像具有宽度W和割线长度SL，宽度W大于约2mm。

公开(公告)号：US07355678B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US11243407

申请日：2005-10-04

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six reflecting surfaces for imaging an object (OB) on an image (IM). The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a secondary mirror (M2) and a tertiary mirror (M3), such that a primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2) form a first optical group (G1) and the tertiary mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G2). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2). The secondary mirror (M2) is preferably concave, and the tertiary mirror (M3) is preferably convex. Each of the six reflecting surfaces preferably receives a chief ray (CR) from a central field point at an incidence angle of less than substantially 15°. The system preferably has a numerical aperture greater than 0.18 at the image (IM). The system is preferably configured such that a chief ray (CR) converges toward the optical axis (OA) while propagating between the secondary mirror (M2) and the tertiary mirror (M3).

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于对图像（IM）上的物体（OB）进行成像的至少六个反射表面。 该系统优选地配置成沿着从物体（OB）到次级反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间的图像（IM）的光路形成中间图像（IMI），使得主 反射镜（M 1）和副镜（M 2）形成第一光学组（G 1）和第三反射镜（M 3），第四反射镜（M 4），第五反射镜（M5）和第六反射镜 （M 6）形成第二光学组（G 2）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到主镜（M 1）和副镜（M 2）之间的图像（IM）的光路定位的孔径光阑（APE）。 副镜（M 2）优选为凹面，第三反射镜（M 3）优选为凸面。 六个反射表面中的每一个优选地以小于大约15°的入射角从中心场点接收主光线（CR）。 该系统优选地在图像（IM）处具有大于0.18的数值孔径。 优选地，该系统构造成使得主光线（CR）在副反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间传播的同时朝向光轴（OA）会聚。

公开(公告)号：US07623620B2

公开(公告)日：2009-11-24

申请号：US10983362

申请日：2004-11-08

申请人： Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger ,  Wilhelm Ulrich ,  Wolfgang Reinecke ,  Thomas Engel ,  Axel Zibold ,  Wolfgang Harnisch ,  Marco Wedowski ,  Dieter Pauschinger

发明人： Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger ,  Wilhelm Ulrich ,  Wolfgang Reinecke ,  Thomas Engel ,  Axel Zibold ,  Wolfgang Harnisch ,  Marco Wedowski ,  Dieter Pauschinger

IPC分类号： G11K7/00

CPC分类号： G21K7/00 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/062

摘要： There is provided a reflective X-ray microscope for examining an object in an object plane. The reflective X-ray microscope includes (a) a first subsystem, having a first mirror and a second mirror, disposed in a beam path from the object plane to the image plane, and (b) a second subsystem, having a third mirror, situated downstream of the first subsystem in the beam path. The object is illuminated with radiation having a wavelength

摘要翻译： 提供了用于检查物平面中的物体的反射X射线显微镜。 所述反射型X射线显微镜包括：（a）具有第一反射镜和第二反射镜的第一子系统，该第一子系统设置在从所述物体平面到所述像面的光束路径中，以及（b）具有第三反射镜的第二子系统， 位于光束路径中的第一子系统的下游。 用波长<100nm的辐射照射物体，反射X射线显微镜将物体放大成像到平面内。

公开(公告)号：US06985210B2

公开(公告)日：2006-01-10

申请号：US10454831

申请日：2003-06-04

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six reflecting surfaces for imaging an object (OB) on an image (IM). The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a secondary mirror (M2) and a tertiary mirror (M3), such that a primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2) form a first optical group (G1) and the tertiary mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G2). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2). The secondary mirror (M2) is preferably concave, and the tertiary mirror (M3) is preferably convex. Each of the six reflecting surfaces preferably receives a chief ray (CR) from a central field point at an incidence angle of less than substantially 15°. The system preferably has a numerical aperture greater than 0.18 at the image (IM). The system is preferably configured such that a chief ray (CR) converges toward the optical axis (OA) while propagating between the secondary mirror (M2) and the tertiary mirror (M3).

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于对图像（IM）上的物体（OB）进行成像的至少六个反射表面。 该系统优选地配置成沿着从物体（OB）到次级反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间的图像（IM）的光路形成中间图像（IMI），使得主 反射镜（M 1）和副镜（M 2）形成第一光学组（G 1）和第三反射镜（M 3），第四反射镜（M 4），第五反射镜（M5）和第六反射镜 （M 6）形成第二光学组（G 2）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到主镜（M 1）和副镜（M 2）之间的图像（IM）的光路定位的孔径光阑（APE）。 副镜（M 2）优选为凹面，第三反射镜（M 3）优选为凸面。 六个反射表面中的每一个优选地以小于大约15°的入射角从中心场点接收主光线（CR）。 该系统优选地在图像（IM）处具有大于0.18的数值孔径。 优选地，该系统构造成使得主光线（CR）在副反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间传播的同时朝向光轴（OA）会聚。

公开(公告)号：US07151592B2

公开(公告)日：2006-12-19

申请号：US10454830

申请日：2003-06-04

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/72 ,  G02B5/10

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0652 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six mirrors (M1, M2, M3, M4, M5, M6) for imaging an object (OB) to an image (IM). At least one mirror pair is preferably configured as an at least phase compensating mirror pair. The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a second mirror (M2) and a third mirror (M3), such that a first mirror (M1) and the second mirror (M2) form a first optical group (G1) and the third mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G1). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the first mirror (M1) and the second mirror (M2). The second mirror (M2) is preferably convex, and the third mirror (M3) is preferably concave. The system preferably forms an image (IM) with a numerical aperture greater than 0.18.

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于将物体（OB）成像到图像（IM）的至少六个反射镜（M 1，M 2，M 3，M 4，M 5，M 6）。 优选地，至少一个镜对配置为至少相位补偿镜对。 该系统优选地被配置成沿着从物体（OB）到第二反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间的图像（IM））的光路形成中间图像（IMI），使得第一 反射镜（M 1）和第二反射镜（M 2）形成第一光学组（G 1）和第三反射镜（M 3），第四反射镜（M 4），第五反射镜（M5）和第六反射镜 （M 6）形成第二光学组（G 1）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到第一反射镜（M 1）和第二反射镜（M 2）之间的图像（IM））的光路定位的孔径光阑（APE）。 第二镜（M 2）优选为凸面，第三镜（M 3）优选为凹面。 该系统优选地形成数值孔径大于0.18的图像（IM）。

公开(公告)号：USRE42118E1

公开(公告)日：2011-02-08

申请号：US11981511

申请日：2007-10-31

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jûrgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jûrgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six reflecting surfaces for imaging an object (OB) on an image (IM). The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a secondary mirror (M2) and a tertiary mirror (M3), such that a primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2) form a first optical group (G1) and the tertiary mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G2). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2). The secondary mirror (M2) is preferably concave, and the tertiary mirror (M3) is preferably convex. Each of the six reflecting surfaces preferably receives a chief ray (CR) from a central field point at an incidence angle of less than substantially 15°. The system preferably has a numerical aperture greater than 0.18 at the image (IM). The system is preferably configured such that a chief ray (CR) converges toward the optical axis (OA) while propagating between the secondary mirror (M2) and the tertiary mirror (M3).

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于对图像（IM）上的物体（OB）进行成像的至少六个反射表面。 该系统优选地被配置成沿着从物体（OB）到次级反射镜（M2）和第三反射镜（M3）之间的图像（IM）的光路形成中间图像（IMI），使得主反射镜 M1）和副镜（M2）形成第一光学组（G1），第三反射镜（M3），第四反射镜（M4），第五反射镜（M5）和第六反射镜（M6）形成第二光学组 （G2）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到主镜（M1）和副镜（M2）之间的图像（IM）的光路定位的孔径光阑（APE）。 副镜（M2）优选为凹面，第三反射镜（M3）优选为凸面。 六个反射表面中的每一个优选地以小于大约15°的入射角从中心场点接收主光线（CR）。 该系统优选地在图像（IM）处具有大于0.18的数值孔径。 优选地，该系统被配置为使得主光线（CR）在副反射镜（M2）和第三反射镜（M3）之间传播的同时朝向光轴（OA）会聚。

公开(公告)号：US20100231882A1

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：US12726081

申请日：2010-03-17

申请人： Udo Dinger ,  Christopher Weth

发明人： Udo Dinger ,  Christopher Weth

IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B5/10 ,  G02B5/09 ,  G02B7/185

CPC分类号： G03F7/70175 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/09 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G21K2201/064

摘要： A bundle-guiding optical collector collects an emission of a radiation source and forms a radiation bundle from the collected emission. A reflective surface of the collector is the first bundle-forming surface downstream of the radiation source. The reflective surface is formed such that it converts the radiation source into a family of images in a downstream plane. The family of images includes a plurality of radiation source images which are offset to each other in two dimensions (x, y) in a direction perpendicular to the beam direction of the transformed radiation bundle and are arranged relative to each other in a non-rotationally symmetric manner relative to the beam direction of the transformed radiation bundle. The transformed radiation bundle in the downstream plane has a non-rotationally symmetric bundle edge contour relative to the beam direction of the transformed radiation bundle. The result is a collector in which the radiation bundle shape generated by the collector. In other words, the illumination distribution generated by the collector in a defined manner in the plane downstream of the collector has a shape which is freely selectable to the greatest possible extent.

摘要翻译： 束引导光学收集器收集辐射源的发射并从收集的发射形成辐射束。 收集器的反射表面是辐射源下游的第一束形成表面。 反射表面形成为使得其在下游平面中将辐射源转换成一系列图像。 图像系列包括在垂直于变换辐射束的光束方向的方向上以二维（x，y）彼此偏移的多个辐射源图像，并且以非旋转方式相对于彼此布置 相对于变换辐射束的束方向的对称方式。 下游平面中的变换的辐射束相对于变换的辐射束的光束方向具有非旋转对称的束边缘轮廓。 其结果是由收集器产生的辐射束形状的收集器。 换句话说，集电体在集电体下游的平面中以规定的方式产生的照明分布具有可以最大可能地自由选择的形状。

公开(公告)号：US20100007866A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：US12504844

申请日：2009-07-17

申请人： Berndt Warm ,  Siegfried Rennon ,  Guenther Dengel ,  Juergen Baier ,  Udo Dinger ,  Stefan Burkart ,  Christos Kourouklis ,  Hin Yiu Anthony Chung ,  Stefan Wiesner ,  Hartmut Enkisch

发明人： Berndt Warm ,  Siegfried Rennon ,  Guenther Dengel ,  Juergen Baier ,  Udo Dinger ,  Stefan Burkart ,  Christos Kourouklis ,  Hin Yiu Anthony Chung ,  Stefan Wiesner ,  Hartmut Enkisch

IPC分类号： G03B27/70

CPC分类号： G02B5/08 ,  B29D11/00596 ,  G02B5/09 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70825

摘要： The disclosure relates to methods for producing mirrors, in particular facet mirrors, and projection exposure apparatuses equipped with the mirrors.

摘要翻译： 本公开涉及用于制造镜子，特别是小平面反射镜的方法和配备有反射镜的投影曝光设备。