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    Positive Resist Compositions and Process for the Formation of Resist Patterns With the Same
    1.
    发明申请
    Positive Resist Compositions and Process for the Formation of Resist Patterns With the Same 有权
    积极的抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法同样

    公开(公告)号：US20070224538A1

    公开(公告)日：2007-09-27

    申请号：US11597696

    申请日：2005-05-24

    申请人： Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Satoshi Yamada

    发明人： Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Satoshi Yamada

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/18

    CPC分类号： G03F7/0397

    摘要： A positive resist composition that includes a resin component (A) and an acid-generator component (B), wherein the component (A) is a copolymer that includes a structural unit (a1) derived from a mono(α-lower alkyl)acrylate that contains an acid-dissociable, dissolution-inhibiting group, a structural unit (b1) derived from a mono(α-lower alkyl)acrylate that contains a lactone ring, and a structural unit (c1) derived from a poly(α-lower alkyl)acrylate. A positive resist composition that includes a resin component (A) and an acid generator component (B), wherein the component (A) is a star polymer that includes a core that contains acid-dissociable, dissolution-inhibiting groups, and arms that are bonded to the core.

    摘要翻译： 包含树脂组分（A）和酸产生剂组分（B）的正型抗蚀剂组合物，其中组分（A）是包含衍生自单（α-低级烷基）丙烯酸酯的结构单元（a1）的共聚物 其包含酸解离的溶解抑制基团，衍生自含有内酯环的单（α-低级烷基）丙烯酸酯的结构单元（b1）和衍生自聚（α-低级）的结构单元（c1） 烷基）丙烯酸酯。 包含树脂组分（A）和酸产生剂组分（B）的正型抗蚀剂组合物，其中组分（A）是包含含有酸解离的，溶解抑制基团的核心的星形聚合物，和 绑定到核心。

    Positive resist compositions and process for the formation of resist patterns with the same
    2.
    发明授权
    Positive resist compositions and process for the formation of resist patterns with the same 有权
    正极抗蚀剂组合物和与其形成抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US07494759B2

    公开(公告)日：2009-02-24

    申请号：US11597696

    申请日：2005-05-24

    申请人： Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Satoshi Yamada

    发明人： Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Satoshi Yamada

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397

    摘要： A positive resist composition comprising (A) a resin component and (B) an acid generator component, wherein the component (A) is a copolymer which comprises constituent units (a1) derived from a mono(α-lower alkyl)acrylate having an acid-dissociable dissolution-inhibiting group, constituent units (b1) derived from a mono α-lower alkyl)acrylate having a lactone ring, and constituent units (c1) derived from a poly(α-lower alkyl)acrylate; and a positive resist composition comprising (A) a resin component and (B) an acid generator component, wherein the component (A) is a star polymer having a core containing acid-dissociable dissolution-inhibiting groups and arms bonded to the core.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）树脂组分和（B）酸产生剂组分，其中组分（A）是包含衍生自具有酸的单（α-低级烷基）丙烯酸酯的构成单元（a1）的共聚物 - 衍生自具有内酯环的单α-低级烷基）丙烯酸酯的结构单元（b1）和衍生自聚（α-低级烷基）丙烯酸酯的构成单元（c1）; 以及包含（A）树脂成分和（B）酸产生剂成分的正型抗蚀剂组合物，其中，成分（A）是具有含有酸解离性溶解抑制基团的核和与核结合的臂的星形聚合物。

    Resist composition and method of forming resist pattern using same
    5.
    发明申请
    Resist composition and method of forming resist pattern using same 审中-公开
    抗蚀剂组合物和使用其形成抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US20060141382A1

    公开(公告)日：2006-06-29

    申请号：US10531883

    申请日：2003-12-18

    申请人： Masaru Takeshita ,  Miwa Miyairi ,  Hideo Hada ,  Takeshi Iwai

    发明人： Masaru Takeshita ,  Miwa Miyairi ,  Hideo Hada ,  Takeshi Iwai

    IPC分类号： G03C1/76

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

    摘要： There are provided a resist composition that produces a resist pattern of good shape, and a method of forming a resist pattern that uses such a resist composition. The resist composition comprises a resin component (A) that undergoes a change in alkali solubility under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid on exposure, and an organic solvent (C), wherein the component (B) comprises a compound represented by a general formula (I) shown below [wherein, R1 to R3 each represent, independently, a methyl group or an ethyl group; and X− represents an anion].

    摘要翻译： 提供了产生良好形状的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物，以及形成使用这种抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的方法。 抗蚀剂组合物包含在酸作用下碱溶性变化的树脂组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和有机溶剂（C），其中组分（B） 包含由以下所示的通式（I）表示的化合物[其中，R 1至R 3各自独立地表示甲基或乙基; 和X - 代表阴离子]。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    10.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 有权
    正电阻组合物和形成电阻图案的方法

    公开(公告)号：US20100015548A1

    公开(公告)日：2010-01-21

    申请号：US11993005

    申请日：2006-06-16

    申请人： Masaru Takeshita ,  Hideo Hada ,  Takeshi Iwai

    发明人： Masaru Takeshita ,  Hideo Hada ,  Takeshi Iwai

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive resist composition including a resin component (A) and an acid generator component (B), the resin component (A) including a copolymer (A1) having a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having a monocyclic or polycyclic group-containing acid dissociable, dissolution inhibiting group, a structural unit (a2) derived from an acrylate ester having a lactone-containing cyclic group, a structural unit (a3) derived from an acrylate ester having a hydroxyl group and/or cyano group-containing polycyclic group, and a structural unit (a4) represented by general formula (a4-1) shown below: wherein R represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; R′ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms; and f represents 0 or 1.

    摘要翻译： 包含树脂组分（A）和酸产生剂组分（B）的正型抗蚀剂组合物，所述树脂组分（A）包含具有衍生自具有单环或多环基团的丙烯酸酯的结构单元（a1）的共聚物（A1） 含有可离解的溶解抑制基团，衍生自具有含内酯环状基团的丙烯酸酯的结构单元（a2），衍生自具有羟基和/或含氰基的丙烯酸酯的结构单元（a3） 多环基和由以下通式（a4-1）表示的结构单元（a4）：其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; R'表示氢原子，低级烷基或碳原子数1〜5的烷氧基。 f表示0或1。