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    PWM controlled motor drive
    1.
    发明授权
    PWM controlled motor drive 失效
    PWM控制电机驱动

    公开(公告)号：US06969963B2

    公开(公告)日：2005-11-29

    申请号：US10737832

    申请日：2003-12-18

    申请人： Hirofumi Sakai ,  Tomoharu Yokouchi ,  Ken Maruyama

    发明人： Hirofumi Sakai ,  Tomoharu Yokouchi ,  Ken Maruyama

    IPC分类号： H02P6/12 ,  H02P6/14 ,  H02P6/16 ,  G05B11/28 ,  H02P3/08 ,  H02P5/06

    CPC分类号： H02P6/16 ,  H02P6/15 ,  Y02P80/116

    摘要： The motor driver having a plurality of output circuits each having two switching elements connected in series includes: a phase switch circuit for putting a switching element on one side of one output circuit among the plurality of output circuits in the ON state during a time period corresponding to a predetermined electrical angle, and performing switching operation for switching elements on the other side of plural output circuits among the remaining output circuits; and a conduction period control section. The conduction period control section generates a signal for controlling the switching operation. Specifically, when the number of times of switching operation performed during the time period corresponding to the predetermined electrical angle is equal to or less than a predetermined value, a switching element corresponding to a phase, for which the magnitude of the current should be decreased, is turned OFF in the time period corresponding to the next predetermined electrical angle.

    摘要翻译： 具有串联连接的两个开关元件的多个输出电路的电机驱动器包括：相位切换电路，用于在开关状态期间的多个输出电路中的一个输出电路的一侧上放置开关元件 并且对剩余的输出电路中的多个输出电路的另一侧的开关元件进行开关动作; 和导通周期控制部。 导通时段控制部分产生用于控制切换操作的信号。 具体地说，当在与预定电角度对应的时间段内执行的切换操作的次数等于或小于预定值时，对应于应该减小电流大小的相位的开关元件， 在对应于下一预定电角度的时间段内被关闭。

    Radiation-sensitive resin composition
    4.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition 有权
    辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US09104102B2

    公开(公告)日：2015-08-11

    申请号：US13560987

    申请日：2012-07-27

    申请人： Yasuhiko Matsuda ,  Takanori Kawakami ,  Kazuki Kasahara ,  Ken Maruyama

    发明人： Yasuhiko Matsuda ,  Takanori Kawakami ,  Kazuki Kasahara ,  Ken Maruyama

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a compound represented by a following formula (1), and a first polymer that serves as a base resin. R1 represents a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or the like. The M+ represents a monovalent cation. The first polymer (B) is preferably insoluble or hardly soluble in alkali, the polymer including a structure unit represented by a formula (5) or a structure unit represented by a formula (6), and a structure unit represented by a formula (7).

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含由下式（1）表示的化合物和作为基础树脂的第一聚合物。 R1表示碳原子数3〜20的一价脂环式烃基等。 M +表示一价阳离子。 第一聚合物（B）优选不溶于或几乎不溶于碱，该聚合物包括由式（5）表示的结构单元或由式（6）表示的结构单元，和由式（7）表示的结构单元 ）。

    Method for forming resist pattern and composition for forming protective film
    5.
    发明授权
    Method for forming resist pattern and composition for forming protective film 有权
    形成抗蚀剂图案的方法和用于形成保护膜的组合物

    公开(公告)号：US09052600B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US13604810

    申请日：2012-09-06

    申请人： Ken Maruyama ,  Koji Inukai

    发明人： Ken Maruyama ,  Koji Inukai

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/09 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/2059 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2037

    摘要： A method for forming a resist pattern includes providing a resist film. A protective film is provided on the resist film using a composition for forming the protective film. The composition includes a polymer and an organic solvent. The resist film on which the protective film is provided is exposed to irradiation with EUV light or an electron beam. The exposed resist film is developed.

    摘要翻译： 形成抗蚀剂图案的方法包括提供抗蚀剂膜。 使用形成保护膜的组合物在抗蚀剂膜上设置保护膜。 该组合物包括聚合物和有机溶剂。 其上设置有保护膜的抗蚀膜暴露于用EUV光或电子束照射。 显影出抗蚀剂膜。

    Switching control system and motor driving system
    6.
    发明授权
    Switching control system and motor driving system 有权
    开关控制系统和电机驱动系统

    公开(公告)号：US07777437B2

    公开(公告)日：2010-08-17

    申请号：US11898443

    申请日：2007-09-12

    申请人： Keisuke Kuroda ,  Ken Maruyama

    发明人： Keisuke Kuroda ,  Ken Maruyama

    IPC分类号： H02P6/14

    CPC分类号： H03K17/6871 ,  H02P27/08 ,  H03K17/08122 ,  H03K17/08142 ,  H03K17/165 ,  H03K17/166 ,  H03K17/731 ,  H03K17/74 ,  H03K2017/0806

    摘要： The present invention inexpensively controls a turn-on and turn-off switching speed for MOS transistors made in accordance with various specifications. According to the present invention, during an output voltage rise period for a turn-on operation of the MOS transistor, a fixed current determined by a first clip circuit and a resistor is input to a gate terminal of the MOS transistor to obtain a linear rise slew rate. During an output voltage drop period for a turn-off operation of the MOS transistor, a fixed current determined by a second clip circuit 38 and a resistor is input to the gate terminal of the MOS transistor to obtain a linear drop slew rate.

    摘要翻译： 本发明低成本地控制根据各种规格制造的MOS晶体管的导通和关断切换速度。 根据本发明，在用于MOS晶体管的导通动作的输出电压上升期间，将由第一钳位电路和电阻器确定的固定电流输入到MOS晶体管的栅极端子，以获得线性上升 压摆率 在用于MOS晶体管的截止操作的输出电压下降周期期间，由第二钳位电路38和电阻器确定的固定电流被输入到MOS晶体管的栅极端子以获得线性降压转换速率。

    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD
    10.
    发明申请
    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD 有权
    上层成型和电阻图案方法

    公开(公告)号：US20120021359A1

    公开(公告)日：2012-01-26

    申请号：US13110855

    申请日：2011-05-18

    申请人： Takahiro HAYAMA ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

    发明人： Takahiro HAYAMA ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

    IPC分类号： H01L21/02 ,  C08L41/00 ,  G03F7/26 ,  C08L33/16

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A liquid immersion lithography upper-layer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) shown by the following formula (1), and (S) a solvent. R1 in the formula (1) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (II) that includes a sulfo group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (III) shown by the following formula (3). R2 in the formula (3) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R3 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a monovalent alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, provided that at least one hydrogen atom of the hydrocarbon group or the alicyclic group is substituted with a fluorine atom.

    摘要翻译： 液浸光刻上层成膜组合物包含（A）包含下式（1）所示的结构单元（I）的聚合物和（S）溶剂。 式（1）中的R 1表示氢原子，甲基或三氟甲基。 聚合物（A）优选还包括包含磺基的结构单元（II）。 聚合物（A）优选还包含由下式（3）表示的结构单元（III）。 式（3）中的R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基。 R 3表示碳原子数1〜12的直链或支链一价烃基或碳原子数3〜20的一价脂环式基，其中烃基或脂环族基中的至少一个氢原子被氟原子取代。