公开(公告)号：US06927312B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10706250

申请日：2003-11-12

申请人： Jason T. Stuck ,  Hsueh Sung Tung ,  Michael Van Der Puy ,  Timothy R. Demmin ,  Franklin S. Wong ,  Andrew J. Poss ,  Matthew H. Luly

发明人： Jason T. Stuck ,  Hsueh Sung Tung ,  Michael Van Der Puy ,  Timothy R. Demmin ,  Franklin S. Wong ,  Andrew J. Poss ,  Matthew H. Luly

IPC分类号： C07B39/00 ,  C07C17/38 ,  C07C17/395 ,  C07C17/42 ,  C07C17/00

CPC分类号： C07B39/00 ,  Y02P20/582

摘要： Disclosed are improved fluorination processes and fluorine-containing compositions which involve introducing to one or more fluorination process compositions a water reactive agent in an amount and under conditions effective to decrease the amount of water in that composition. The water reactive agent is preferably introduced to the fluorination reaction process at a location proximate to the site of the fluorination reaction, or upstream of the fluorination reaction, in amounts and under conditions effective to produce a relatively lower concentration of water in the composition, and preferably throughout the fluorination process.

公开(公告)号：US06635185B2

公开(公告)日：2003-10-21

申请号：US09001325

申请日：1997-12-31

申请人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

发明人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

IPC分类号： H01L213065

CPC分类号： H01L21/32136 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32137 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

摘要： A method comprising etching a material under plasma etching conditions using an etching composition which has a GWP of no greater than about 3000 and which comprises at least one etchant compound having a formula selected from the group consisting of F—CO—[(CR1R2)m—CO]n—F and F—CO—R3—CO—F, and wherein: m=0, 1, 2, 3, 4, or 5; n=1; R1 & R2 represent H, F or CxHyFz; wherein: x=1 or 2; and y+z=2x+1; R3 represents CR4═CR5, R6R7C═C or C≡C; wherein: R4-7 represent H, F, or CxHyFz; wherein: x=1 or 2; and y+z=2x+1; and also including the cleaning of a surface by use of an etchant compound, and further including an etching composition which includes said etchant compound and also an etchant-modifier.

摘要翻译： 一种方法，包括使用GWP不大于约3000的蚀刻组合物在等离子体蚀刻条件下蚀刻材料，并且其包含至少一种具有选自F-CO - [（CR 1） > R 2）m-CO] n F和F-CO-R 3 -CO-F，并且其中：m = 0,1,2,3,4或5; n = 1; R 1 >＆R <2>表示H，F或CxHyFz; 其中：x = 1或2; andy + z = 2x + 1; R 3表示CR 4 = CR 5，R 6 R 7 C = C或C = C; 其中：R 4-7表示H，F或CxHyFz; 其中：x = 1或2; andy + z = 2x + 1;并且还包括通过使用蚀刻剂化合物清洁表面，并且还包括包括所述蚀刻剂化合物和蚀刻剂改性剂的蚀刻组合物。

公开(公告)号：US6120697A

公开(公告)日：2000-09-19

申请号：US1755

申请日：1997-12-31

申请人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

发明人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  C09K13/06 ,  C09K13/00

CPC分类号： H01L21/31116 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

摘要： A method of etching comprising subjecting a material under plasma etching conditions to an etching composition comprising at least an etchant compound having the formula C.sub.X H.sub.C F.sub.Zwherein: x=3, 4 or 5;2x.gtoreq.z.gtoreq.y;and y+z=2x+2; andfurther including an etching composition which includes said etchant compound and a second material different from the etchant compound that enhances or modifies plasma etching.

摘要翻译： 一种蚀刻方法，包括在等离子体蚀刻条件下对材料进行处理，所述蚀刻组合物至少包含具有式CXHCFZ的蚀刻剂化合物，其中：x = 3,4或5; 2x> / = z> / = y; y + z = 2x + 2; 并且还包括包含所述蚀刻剂化合物和不同于蚀刻剂化合物的第二材料的蚀刻组合物，其增强或改性等离子体蚀刻。

公开(公告)号：US06428716B1

公开(公告)日：2002-08-06

申请号：US09569910

申请日：2000-05-11

申请人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

发明人： Timothy R. Demmin ,  Matthew H. Luly ,  Mohammed A. Fathimulla

IPC分类号： G44C122

CPC分类号： H01L21/31116 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

摘要： A method of etching comprising subjecting a material under plasma etching conditions to an etching composition comprising at least an etchant compound having the formula CXHCFZ wherein: x=3, 4 or 5; 2x≧z≧y; and y+z=2x+2; and further including an etching composition which includes said etchant compound and a second material different from the etchant compound that enhances or modifies plasma etching.

摘要翻译： 一种蚀刻方法，包括在等离子体蚀刻条件下对材料进行处理，所述蚀刻组合物至少包含具有式CXHCFZ的蚀刻剂化合物，并且还包括蚀刻组合物，其包含所述蚀刻剂化合物和不同于蚀刻剂化合物的第二材料，所述蚀刻组合物增强或 修改等离子体蚀刻。

公开(公告)号：US08784763B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US12722390

申请日：2010-03-11

申请人： Matthew H. Luly ,  Robert A. Smith ,  Haridasan K. Nair ,  Philip DePrato ,  Konstantin A. Pokrovski ,  Daniel C. Merkel ,  Kevin Uhrich ,  Stephen A. Cottrell ,  Daniel J. Brenner

发明人： Matthew H. Luly ,  Robert A. Smith ,  Haridasan K. Nair ,  Philip DePrato ,  Konstantin A. Pokrovski ,  Daniel C. Merkel ,  Kevin Uhrich ,  Stephen A. Cottrell ,  Daniel J. Brenner

IPC分类号： C01B25/10

CPC分类号： C01B25/10 ,  B01J4/002 ,  B01J12/00 ,  B01J19/24 ,  C01B25/455

摘要： Processes and systems for the production of phosphorus pentafluoride (PF5) through continuous fluorination of phosphorus are provided herein. A phosphorus feed stream and a fluorine feed stream are provided to a reactor, wherein they are reacted in a gas-gas or liquid-gas reaction to produce phosphorus pentafluoride (PF5). The phosphorus feed can be derived from white phosphorus or yellow phosphorus, and can be provided to the reactor as a liquid or a vapor. The fluorine can be provided to the reactor as a vapor, and preferably comprises elemental fluorine gas.

摘要翻译： 本文提供了通过连续氟化磷生产五氟化磷（PF5）的方法和系统。 将磷进料流和氟进料流提供给反应器，其中它们在气 - 气或液 - 气反应中反应以产生五氟化磷（PF 5）。 磷进料可以来自白磷或黄磷，并且可以作为液体或蒸汽提供给反应器。 可以将氟作为蒸气提供给反应器，并且优选地包含元素氟气。

公开(公告)号：US20120003138A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13097836

申请日：2011-04-29

申请人： Ryan J. Hulse ,  Rajat Subhra Basu ,  Matthew H. Luly

发明人： Ryan J. Hulse ,  Rajat Subhra Basu ,  Matthew H. Luly

IPC分类号： C01B25/10 ,  C09K3/00

CPC分类号： C01B25/10 ,  C01B7/191 ,  C01D15/005

摘要： Provided are azeotropic and azeotrope-like compositions of PF5 and HF, and methods of making such compositions. Such azeotropic and azeotrope-like compositions can be used, for example, in processes for producing LiPF6.

摘要翻译： 提供了PF5和HF的共沸和类共沸组合物，以及制备这种组合物的方法。 这种共沸和类共沸组合物可用于例如生产LiPF 6的方法中。

公开(公告)号：US20100233057A1

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：US12722390

申请日：2010-03-11

申请人： Matthew H. Luly ,  Robert A. Smith ,  Haridasan K. Nair ,  Philip DePrato ,  Konstantin A. Pokrovski ,  Daniel C. Merkel ,  Kevin Uhrich ,  Stephen A. Cottrell ,  Daniel J. Brenner

发明人： Matthew H. Luly ,  Robert A. Smith ,  Haridasan K. Nair ,  Philip DePrato ,  Konstantin A. Pokrovski ,  Daniel C. Merkel ,  Kevin Uhrich ,  Stephen A. Cottrell ,  Daniel J. Brenner

IPC分类号： C01B25/10

CPC分类号： C01B25/10 ,  B01J4/002 ,  B01J12/00 ,  B01J19/24 ,  C01B25/455

摘要： Processes and systems for the production of phosphorus pentafluoride (PF5) through continuous fluorination of phosphorus are provided herein. A phosphorus feed stream and a fluorine feed stream are provided to a reactor, wherein they are reacted in a gas-gas or liquid-gas reaction to produce phosphorus pentafluoride (PF5). The phosphorus feed can be derived from white phosphorus or yellow phosphorus, and can be provided to the reactor as a liquid or a vapor. The fluorine can be provided to the reactor as a vapor, and preferably comprises elemental fluorine gas.

摘要翻译： 本文提供了通过连续氟化磷生产五氟化磷（PF5）的方法和系统。 将磷进料流和氟进料流提供给反应器，其中它们在气 - 气或液 - 气反应中反应以产生五氟化磷（PF 5）。 磷进料可以来自白磷或黄磷，并且可以作为液体或蒸汽提供给反应器。 可以将氟作为蒸气提供给反应器，并且优选地包含元素氟气。

公开(公告)号：US07736529B2

公开(公告)日：2010-06-15

申请号：US11871729

申请日：2007-10-12

申请人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

发明人： Matthew H. Luly ,  Rajiv R. Singh ,  Robert G. Richard

IPC分类号： C09K5/04 ,  C23G5/028

CPC分类号： H01B3/16 ,  A62C99/0018 ,  H01H2033/566

摘要： Provided are novel azeotrope-like compositions of SF6 and N2O, as well as methods of using the same. Also provided are methods of using SF6 compositions, including azeotrope-like compositions, including a method for suppressing an electric arc or corona discharge and a method for flame suppression. Further provided are electrical devices using such SF6 compositions as a dielectric insulating gas and rigid closed-cell foams having such SF6 compositions within the cells, wherein the foam is both thermally and electrically insulative.

摘要翻译： 提供了SF6和N2O的新型类共沸组合物，以及使用它们的方法。 还提供了使用SF6组合物的方法，包括类共沸组合物，包括抑制电弧或电晕放电的方法和阻燃方法。 还提供了使用这种SF6组合物作为电介质绝缘气体的电气装置和在电池内具有这种SF 6组合物的刚性闭孔泡沫体，其中泡沫体是热和电绝缘的。

公开(公告)号：US20090304571A1

公开(公告)日：2009-12-10

申请号：US12132741

申请日：2008-06-04

申请人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

发明人： Matthew H. Luly ,  Bernard E. Pointner

IPC分类号： C01B7/19 ,  C08K3/00

CPC分类号： C08K3/16

摘要： The present invention provides compositions that are intimate mixtures of hydrogen fluoride and a polyacrylate-polyacrylamide cross-linked copolymer. The compositions of the invention are less hazardous and, therefore, more conveniently stored, transported, and handled in comparison to pure hydrogen fluoride. Further, the hydrogen fluoride may be readily recovered from the compositions of the invention for use.

摘要翻译： 本发明提供了氟化氢和聚丙烯酸酯 - 聚丙烯酰胺交联共聚物的紧密混合物的组合物。 与纯氟化氢相比，本发明的组合物危险性较低，因此比较方便地储存，运输和处理。 此外，可以容易地从本发明的组合物中回收氟化氢以供使用。

公开(公告)号：US07384618B2

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US11100684

申请日：2005-04-07

申请人： Rajiv R. Singh ,  Martin R. Paonessa ,  Matthew H. Luly ,  David F. Orlowski

发明人： Rajiv R. Singh ,  Martin R. Paonessa ,  Matthew H. Luly ,  David F. Orlowski

IPC分类号： B01D53/04 ,  C01B21/083

CPC分类号： C01B21/0837

摘要： A process and system for adsorption purification of NF3 wherein a crude product containing NF3 and impurities such as CF4 is brought into contact with a polyacrylonitrile-based carbon molecular sieve so that at least a portion of one or more impurities are adsorbed by the sieve without a significant adsorption of the NF3.

摘要翻译： 一种用于NF 3的吸附净化的方法和系统，其中含有NF 3的粗产物和诸如CF 4的杂质与一种 基于聚丙烯腈的碳分子筛，使得至少一部分一种或多种杂质被筛子吸附，而不会显着吸附NF 3 N 3。