公开(公告)号：US20090227058A1

公开(公告)日：2009-09-10

申请号：US12347202

申请日：2008-12-31

申请人： Jeong-Min PARK ,  Doo-Hee JUNG ,  Hi-Kuk LEE ,  Byung-Uk KIM ,  Dong-Min KIM

发明人： Jeong-Min PARK ,  Doo-Hee JUNG ,  Hi-Kuk LEE ,  Byung-Uk KIM ,  Dong-Min KIM

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0236

摘要： A photoresist composition includes; a novolac resin prepared from a phenol compound, wherein the m-cresol constitutes about 70% to about 85% by weight of the weight of the phenol compound, a diazide compound, and an organic solvent.

摘要翻译： 光致抗蚀剂组合物包括： 由酚化合物制备的酚醛清漆树脂，其中间甲酚构成酚化合物，重氮化合物和有机溶剂的重量的约70重量％至约85重量％。

公开(公告)号：US20120270142A1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：US13358385

申请日：2012-01-25

申请人： Hi-Kuk LEE ,  Su-Yeon SIM ,  Sang-Hyun YUN ,  Cha-Dong KIM ,  Jung-In PARK ,  Byung-Uk KIM ,  Jin-Sun KIM ,  Tae-Hoon YEO ,  Hyoc-Min YOUN ,  Sang-Hoon LEE

发明人： Hi-Kuk LEE ,  Su-Yeon SIM ,  Sang-Hyun YUN ,  Cha-Dong KIM ,  Jung-In PARK ,  Byung-Uk KIM ,  Jin-Sun KIM ,  Tae-Hoon YEO ,  Hyoc-Min YOUN ,  Sang-Hoon LEE

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/031

CPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105 ,  G03F7/2053

摘要： A photosensitive composition and a method of manufacturing a substrate used for a display device are disclosed. The photosensitive composition includes an acrylic based copolymer, a photo-initiator, a photo-sensitizer and a solvent. Thus, a photosensitivity of the photosensitive composition for ultra violet light of a long wavelength may be improved.

摘要翻译： 公开了一种光敏组合物和用于显示装置的基板的制造方法。 光敏组合物包括丙烯酸类共聚物，光引发剂，光敏剂和溶剂。 因此，可以提高光敏组合物对长波长紫外线的光敏性。

公开(公告)号：US20100151610A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12564019

申请日：2009-09-21

申请人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Bong-Kyun KIM ,  Hong-Sick PARK ,  Sun-Young HONG ,  Young-Joo CHOI ,  Byeong-Jin LEE ,  Nam-Seok SUH ,  Byung-Uk KIM ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Sung-Gun SHIN ,  Soon-Beom HUH ,  Se-Hwan JUNG ,  Doo-Young JANG ,  Sun-Joo PARK ,  Oh-Hwan KWEON

发明人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Bong-Kyun KIM ,  Hong-Sick PARK ,  Sun-Young HONG ,  Young-Joo CHOI ,  Byeong-Jin LEE ,  Nam-Seok SUH ,  Byung-Uk KIM ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Sung-Gun SHIN ,  Soon-Beom HUH ,  Se-Hwan JUNG ,  Doo-Young JANG ,  Sun-Joo PARK ,  Oh-Hwan KWEON

IPC分类号： H01L21/30 ,  G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

摘要： A composition for a photoresist stripper and a method of fabricating a thin film transistor array substrate are provided according to one or more embodiments. In one or more embodiments, the composition includes about 5-30 weight % of a chain amine compound, about 0.5-10 weight % of a cyclic amine compound, about 10-80 weight % of a glycol ether compound, about 5-30 weight % of distilled water, and about 0.1-5 weight % of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 根据一个或多个实施方案提供了用于光致抗蚀剂剥离剂的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法。 在一个或多个实施方案中，组合物包含约5-30重量％的链胺化合物，约0.5-10重量％的环胺化合物，约10-80重量％的二醇醚化合物，约5-30重量％ ％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US20130017636A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13439418

申请日：2012-04-04

申请人： Bong-Kyun KIM ,  Shin-Il CHOI ,  Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Seok-Jun JANG ,  Byung-Uk KIM ,  Sun-Joo PARK ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Soon-Beom HUR

发明人： Bong-Kyun KIM ,  Shin-Il CHOI ,  Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Seok-Jun JANG ,  Byung-Uk KIM ,  Sun-Joo PARK ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Soon-Beom HUR

IPC分类号： H01L33/08 ,  G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66765

摘要： A composition for removing a photoresist, the composition including about 1% by weight to about 10% by weight of tetramethyl ammonium hydroxide (“TMAH”), about 1% by weight to about 10% by weight of an alkanol amine, about 50% by weight to about 70% by weight of a glycol ether compound, about 0.01% by weight to about 1% by weight of a triazole compound, about 20% by weight to about 40% by weight of a polar solvent, and water, each based on a total weight of the composition.

摘要翻译： 用于除去光致抗蚀剂的组合物，该组合物包含约1重量％至约10重量％的四甲基氢氧化铵（TMAH），约1重量％至约10重量％的烷醇胺，约50重量％ 至约70重量％的二醇醚化合物，约0.01重量％至约1重量％的三唑化合物，约20重量％至约40重量％的极性溶剂，以及基于 组合物的总重量。

公开(公告)号：US20070184293A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：US11670700

申请日：2007-02-02

申请人： Dong-Ki LEE ,  Byung-Uk KIM ,  Hyoc-Min YOUN

发明人： Dong-Ki LEE ,  Byung-Uk KIM ,  Hyoc-Min YOUN

IPC分类号： B32B27/30 ,  C08F24/00 ,  C08F36/22

CPC分类号： C08F220/06 ,  C08F212/08 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  C08F220/40 ,  G02F1/136227 ,  H01L27/3244 ,  Y10T428/31855

摘要： Disclosed herein is a resin composition for an organic insulating layer, a method of manufacturing the same, and a display panel including an insulating layer formed using the resin composition. The resin composition for an organic insulating layer is produced by polymerizing about 5 to about 35 wt % of an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture of the unsaturated carboxylic acid and the unsaturated carboxylic acid anhydride, about 5 to about 40 wt % of a styrene compound, about 5 to about 40 wt % of an epoxy compound, about 0.1 to about 10 wt % of an isobornyl compound, and about 20 to about 40 wt % of a dicyclopentadiene compound, based on the total weight of unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic acid anhydride, styrene compound, isobornyl compound, and dicyclopentadiene compound.

摘要翻译： 本发明公开了一种有机绝缘层用树脂组合物及其制造方法以及使用该树脂组合物形成的绝缘层的显示面板。 用于有机绝缘层的树脂组合物通过将约5至约35重量％的不饱和羧酸，不饱和羧酸酐或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物聚合为约5至约 40重量％的苯乙烯化合物，约5至约40重量％的环氧化合物，约0.1至约10重量％的异冰片基化合物和约20至约40重量％的二环戊二烯化合物，基于总重量 的不饱和羧酸，不饱和羧酸酐，苯乙烯化合物，异冰片基化合物和二环戊二烯化合物。