公开(公告)号：US08841064B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US13294223

申请日：2011-11-11

申请人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Myoung-Hwan Cha ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03C1/06 ,  G03C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/031 ,  G03F7/023 ,  H01L23/29 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： H01L23/296 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a dissolution controlling agent including the compound represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, and a photosensitive resin film prepared by using the same.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的化合物的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，以及使用其制备的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US09023559B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US13303197

申请日：2011-11-23

申请人： Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Mi-Ra Im ,  Hwan-Sung Cheon ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Myoung-Hwan Cha

发明人： Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Mi-Ra Im ,  Hwan-Sung Cheon ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Myoung-Hwan Cha

IPC分类号： G03F7/023 ,  H01L23/29 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a novolac resin including a repeating unit represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, a photosensitive resin film prepared by using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的重复单元的酚醛清漆树脂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，使用正型感光性树脂组合物制备的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置。

公开(公告)号：US09268221B2

公开(公告)日：2016-02-23

申请号：US13190690

申请日：2011-07-26

申请人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Hyun-Yong Cho ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Jong-Hwa Lee ,  Mi-Ra Im ,  Hyun-Yong Cho ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/40

摘要： Provided is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a first polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by Chemical Formula 1 and a repeating unit represented by Chemical Formula 2, and having a thermally polymerizable functional group at least one terminal end; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. A photosensitive resin film fabricated using the positive photosensitive resin composition is provided.

摘要翻译： 提供一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含第一聚苯并恶唑前体的聚苯并恶唑前体，所述第一聚苯并恶唑前体包含由化学式1表示的重复单元和由化学式2表示的重复单元，并且具有热聚合官能团至少一个末端 结束; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 提供使用正型感光性树脂组合物制造的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US09176381B2

公开(公告)日：2015-11-03

申请号：US12964010

申请日：2010-12-09

申请人： Jeong-Woo Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Hyun-Yong Cho ,  Ji-Young Jeong ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Jeong-Woo Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Hyun-Yong Cho ,  Ji-Young Jeong ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Min-Kook Chung ,  Myoung-Hwan Cha ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0755

摘要： This disclosure relates to a positive photosensitive resin composition including (A) a resin precursor including a polybenzoxazole precursor, a polyamic acid, or a combination thereof, (B) a dissolution-controlling agent having a boiling point ranging from about 210° C. to about 400° C. and a polarity ranging from about 1 D to about 4 D, (C) an acid generator, (D) a silane-based compound, and (E) a solvent. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit represented by Chemical Formula 1, or both of repeating units represented by Chemical Formulae 1 and 2 and has a thermally polymerizable functional group at at least one end. The polyamic acid includes a repeating unit of Chemical Formulae 50 and 51.

摘要翻译： 本公开涉及包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸或其组合的树脂前体的正型感光性树脂组合物，（B）沸点为约210℃〜 约400℃，极性为约1D至约4D，（C）酸产生剂，（D）硅烷基化合物和（E）溶剂。 聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元或由化学式1和2表示的重复单元两者，并且在至少一端具有可热聚合的官能团。 聚酰胺酸包括化学式50和51的重复单元。

公开(公告)号：US08592131B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13239441

申请日：2011-09-22

申请人： Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

发明人： Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  C07C69/94

CPC分类号： C07C205/42 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755

摘要： An ortho-nitrobenzyl ester compound including a compound represented by Chemical Formula 1, and a positive photosensitive resin composition including the same are provided.

摘要翻译： 提供了包括由化学式1表示的化合物的邻硝基苄基酯化合物和包含该化合物的正性感光性树脂组合物。

公开(公告)号：US08501375B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US13241612

申请日：2011-09-23

申请人： Hyun-Yong Cho ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

发明人： Hyun-Yong Cho ,  Min-Kook Chung ,  Ji-Young Jeong ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. In the above Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the specification.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含由以下化学式1表示的重复单元的聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 在上述化学式1中，各取代基与说明书中的定义相同。

公开(公告)号：US08420287B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12834933

申请日：2010-07-13

申请人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon

发明人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Doo-Young Jung ,  Jong-Hwa Lee ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/40

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes: (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the Chemical Formula 1, a repeating unit represented by the Chemical Formula 2, or a combination thereof, and a thermally polymerizable functional group at least one terminal end of the polybenzoxazole precursor; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound including a cross-linking functional group; and (E) a solvent.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含：（A）包含由化学式1表示的重复单元，由化学式2表示的重复单元或其组合的聚苯并恶唑前体和至少可热聚合的官能团 聚苯并恶唑前体的一个末端; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）包含交联官能团的酚化合物; 和（E）溶剂。

公开(公告)号：US08697320B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US13242120

申请日：2011-09-23

申请人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

发明人： Ji-Young Jeong ,  Min-Kook Chung ,  Hyun-Yong Cho ,  Yong-Sik Yoo ,  Jeong-Woo Lee ,  Jong-Hwa Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Soo-Young Kim ,  Young-Ho Kim ,  Jae-Hyun Kim ,  Su-Min Park

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0226 ,  C07C69/84 ,  G03F7/0233

摘要： Disclosed are a novel phenol compound comprising a compound represented by Chemical Formula 1, a compound represented by Chemical Formula 2, or a combination thereof, and a positive photosensitive resin composition including the same.

摘要翻译： 公开了包含由化学式1表示的化合物，由化学式2表示的化合物或其组合的新型酚化合物和包含其的正性感光性树脂组合物。

公开(公告)号：US09256118B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：US14236971

申请日：2012-07-17

申请人： Ji-Yun Kwon ,  Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

发明人： Ji-Yun Kwon ,  Jong-Hwa Lee ,  Hyun-Yong Cho ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/38 ,  G03F7/105 ,  G03C1/61 ,  G03F7/022 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, and a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a phenol compound, (D) an organic dye and (E) a solvent, wherein the organic dye (D) includes at least one red dye having an absorption wavelength of 590 to 700 nm, at least one yellow dye having an absorption wavelength of 550 to 590 nm, and at least one blue dye having an absorption wavelength of 450 to 500 nm.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）选自聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体及其组合的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）酚化合物，（D） 有机染料和（E）溶剂，其中有机染料（D）包括至少一种吸收波长为590-700nm的红色染料，至少一种吸收波长为550至590nm的黄色染料，至少 一种蓝色染料，其吸收波长为450〜500nm。

公开(公告)号：US08921019B2

公开(公告)日：2014-12-30

申请号：US13603479

申请日：2012-09-05

申请人： Ji-Yun Kwon ,  Jin-Hee Kang ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Kun-Bae Noh ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jong-Hwa Lee ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Hyun-Yong Cho ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

发明人： Ji-Yun Kwon ,  Jin-Hee Kang ,  Dae-Yun Kim ,  Sang-Kyeon Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sang-Soo Kim ,  Kun-Bae Noh ,  Eun-Kyung Yoon ,  Jong-Hwa Lee ,  Jun-Ho Lee ,  Jin-Young Lee ,  Hwan-Sung Cheon ,  Hyun-Yong Cho ,  Chung-Beom Hong ,  Eun-Ha Hwang

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/105 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin including a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, or a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a phenol compound, (D) at least one organic dye having an absorption wavelength of about 400 nm to about 700 nm, and (E) a solvent, wherein the organic dye (D) is included in an amount of about 1 to about 40 parts by weight based on about 100 parts by weight of the alkali soluble resin (A), and a photosensitive resin layer and a display device using the same.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体或其组合的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）酚化合物，（D） 一种有机染料，具有约400nm至约700nm的吸收波长，和（E）溶剂，其中所述有机染料（D）的含量为约1至约40重量份，基于约100重量份 碱溶性树脂（A）的重量和感光性树脂层以及使用其的显影装置。