公开(公告)号：US20120231393A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：US13421684

申请日：2012-03-15

申请人： Kana FUJII ,  Tomotaka TSUCHIMURA ,  Toru FUJIMORI ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Takayuki ITO

发明人： Kana FUJII ,  Tomotaka TSUCHIMURA ,  Toru FUJIMORI ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Takayuki ITO

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/016 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed when acted on by an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds of general formula (1) below.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当被酸作用时分解的树脂，从而增加其在碱性显影剂中的溶解度，当暴露于光化射线时产生酸的化合物或 辐射和下述通式（1）的任何碱性化合物。

公开(公告)号：US20110081612A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：US12895504

申请日：2010-09-30

申请人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

发明人： Kana FUJII ,  Takamitsu Tomiga ,  Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama ,  Shuji Hirano ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F214/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/32 ,  C08F2220/282 ,  C08K5/375 ,  C08K5/42 ,  C08L33/068 ,  C08L51/04 ,  C08L67/02 ,  C09D125/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1825 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： According to one embodiment, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin containing the repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid, wherein each of R1 independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted methyl group, R2 represents a halogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group, and n is an integer of 0 to 5, provided that when n is 2 or greater, multiple R2s may be identical to or different from each other.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含（A）含有式（I），（II）和（III）的重复单元的树脂，当被酸作用时，其变得易溶于 碱显影剂和（B）当用光化射线或辐射照射时产生含氟酸的化合物，其中R 1各自独立地表示氢原子或任选取代的甲基，R 2表示卤素原子，任选地 取代的烷基，任选取代的环烷基，任选取代的芳基或任选取代的芳烷基，n为0至5的整数，条件是当n为2或更大时，多个R 2可以相同或不同 彼此。

公开(公告)号：US20120219891A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13406165

申请日：2012-02-27

申请人： Kana FUJII ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Fumiyuki NISHIYAMA

发明人： Kana FUJII ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Fumiyuki NISHIYAMA

IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/10 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  B23B3/10 ,  B32B3/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： Provided is a resist composition including a resin (A) containing any of repeating units (a) of general formulae (I-a) and (I-b) below and any of repeating units (b) of general formula (II) below but containing substantially no repeating unit in which an alcoholic hydroxyl group is introduced, and any of compounds (B) of general formulae (III-a) and (III-b) below.

摘要翻译： 本发明提供一种抗蚀剂组合物，其包含含有下述通式（Ia）和（Ib）的重复单元（a）和下述通式（II）的重复单元（b）中任何一种，但基本上不含重复 其中引入醇羟基的单元，以及下述通式（III-a）和（III-b）的化合物（B）中的任何一种。

公开(公告)号：US20120219758A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13406213

申请日：2012-02-27

申请人： Tadahiro ODANI ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Kana FUJII

发明人： Tadahiro ODANI ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Kana FUJII

IPC分类号： B32B3/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  Y10T428/24479

摘要： Provided is a resist composition including a resin (A) containing any of repeating units (a) of general formulae (RI-a) and (RI-b) below, any of repeating units (b) of general formula (R2) below, any of repeating units (c) of general formula (R3) below and a repeating unit (d) being different from the repeating units (c) and containing a group that when acted on by an acid, is decomposed, a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid, and any of compounds (C) of general formula (PDA-1) below.

摘要翻译： 本发明提供一种抗蚀剂组合物，其含有下述通式（RI-a）和（RI-b）的重复单元（a），下述通式（R2）的重复单元（b） 下列通式（R 3）的重复单元（c）和重复单元（d）与重复单元（c）不同且含有被酸作用的基团分解的化合物（B） 当暴露于光化射线或辐射时，其被分解，从而产生酸，以及下述通式（PDA-1）的任何化合物（C）。

公开(公告)号：US20120003591A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13172273

申请日：2011-06-29

申请人： Yuichiro ENOMOTO ,  Shinji TARUTANI ,  Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Keita KATO ,  Kana FUJII

发明人： Yuichiro ENOMOTO ,  Shinji TARUTANI ,  Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Keita KATO ,  Kana FUJII

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/422

摘要： Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, and (c) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent, wherein the developer contains an alcohol compound (X) at a content of 0 to less than 500 ppm based on the total mass of the developer.

摘要翻译： 提供一种形成图案的方法，包括（a）将化学放大的抗蚀剂组合物形成为膜，（b）将膜曝光，和（c）用含有机溶剂的显影剂显影曝光的膜，其中 显影剂含有基于显影剂总质量为0至小于500ppm的醇化合物（X）。