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    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME COMPOSITION
    2.
    发明申请
    ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME COMPOSITION 审中-公开
    化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用其组合物的耐蚀膜和图案形成方法

    公开(公告)号：US20120207978A1

    公开(公告)日：2012-08-16

    申请号：US13369528

    申请日：2012-02-09

    申请人： Akinori SHIBUYA ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Kunihiko KODAMA ,  Kenji WADA ,  Tomoki MATSUDA

    发明人： Akinori SHIBUYA ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Kunihiko KODAMA ,  Kenji WADA ,  Tomoki MATSUDA

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B32B3/30 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24479

    摘要： An object of the present invention is to provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is significantly excellent in terms of exposure latitude, is capable of forming a favorable rectangular pattern profile, and exhibits low dissolution of the components into an immersion liquid when performing immersion exposure, and a resist film and a pattern forming method each using the same composition. The actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound represented by formula (I) and capable of generating an acid upon irradiation of actinic-rays or radiations, and (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkaline developer by the action of an acid.

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种在曝光宽容度上显着优异的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，能够形成有利的矩形图案，并且显示出低成分溶解于 进行浸渍曝光时的浸渍液，以及使用相同组成的抗蚀剂膜和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）由式（I）表示的化合物，并且能够在光化或辐射照射时产生酸，和（B）能够增加溶解度的树脂 在碱性显影剂中通过酸的作用。

    RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    3.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权
    使用它的耐蚀组合物和图案形成方法

    公开(公告)号：US20080085468A1

    公开(公告)日：2008-04-10

    申请号：US11864049

    申请日：2007-09-28

    申请人： Sou KAMIMURA ,  Kenji WADA ,  Yasutomo KAWANISHI

    发明人： Sou KAMIMURA ,  Kenji WADA ,  Yasutomo KAWANISHI

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

    摘要： A resist composition, includes: (B) a polymer having a group capable of decomposing under an action of an acid and having a weight average molecular weight of 1,000 to 5,000, of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; and (Z) a compound containing a sulfonium cation having a structure represented by formula (Z-1): wherein Y1 to Y13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and adjacent members of Y1 to Y13 may combine with each other to form a ring; and Z represents a single bond or a divalent linking group.

    摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：（B）具有能够在酸的作用下分解并且重均分子量为1,000至5,000的基团的聚合物，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加; 和（Z）含有具有由式（Z-1）表示的结构的锍阳离子的化合物：其中Y 1至Y 13各自独立地表示氢原子或 取代基，Y 1〜Y 3的相邻成员可以相互结合形成环; Z表示单键或二价连接基团。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING MEHTOD
    5.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING MEHTOD 失效
    积极抵抗组成和形成模式的图案

    公开(公告)号：US20090035692A1

    公开(公告)日：2009-02-05

    申请号：US12181757

    申请日：2008-07-29

    申请人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kenji WADA

    发明人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kenji WADA

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive resist composition, includes: (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (B) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (C) a compound capable of decomposing under an action of an acid to generate an acid; and (D) a compound which itself acts as a base for the acids generated from the component (A) and the component (C) but decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to lose a basicity for the acids generated from the component (A) and the component (C).

    摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （B）在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加的树脂; （C）能够在酸的作用下分解以产生酸的化合物; 和（D）本身作为由组分（A）和组分（C）产生的酸的碱的化合物，但是在用光化射线或辐射照射时分解，以失去由组分（A）产生的酸的碱度 ）和组分（C）。

    RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION
    6.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION 审中-公开
    耐蚀组合物和图案形成方法使用耐腐蚀组合物

    公开(公告)号：US20080305429A1

    公开(公告)日：2008-12-11

    申请号：US12135578

    申请日：2008-06-09

    申请人： Hiroshi SAEGUSA ,  Kenji WADA

    发明人： Hiroshi SAEGUSA ,  Kenji WADA

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0758

    摘要： A resist composition, includes: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a hydrophobic resin; and (D) a solvent, wherein a difference between a weight average molecular weight of the resin (A) and a weight average molecular weight of the hydrophobic resin (C) satisfies the following formula: weight average molecular weight of resin (A)−weight average molecular weight of hydrophobic resin (C)≧about 3,000; and a pattern forming method uses the resist composition.

    摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：（A）在酸的作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）疏水性树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（A）的重均分子量和疏水性树脂（C）的重均分子量之间的差异满足下式：树脂（A）的重均分子量 - 疏水性树脂的重均分子量（C）> =约3,000; 并且图案形成方法使用抗蚀剂组合物。

    PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPER AND RINSING SOLUTION USED IN THE PATTERN FORMING METHOD
    7.
    发明申请
    PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPER AND RINSING SOLUTION USED IN THE PATTERN FORMING METHOD 有权
    图案形成方法和耐蚀组合物，图案形成方法中使用的开发者和研磨溶液

    公开(公告)号：US20110305992A1

    公开(公告)日：2011-12-15

    申请号：US13196530

    申请日：2011-08-02

    申请人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kazuyoshi MIZUTANI ,  Kenji WADA ,  Wataru HOSHINO

    发明人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kazuyoshi MIZUTANI ,  Kenji WADA ,  Wataru HOSHINO

    IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/77

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

    摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

    摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。

    BACKPACK POWER TOOL
    8.
    发明申请
    BACKPACK POWER TOOL 审中-公开
    背包电动工具

    公开(公告)号：US20110146023A1

    公开(公告)日：2011-06-23

    申请号：US12967426

    申请日：2010-12-14

    申请人： Kenji WADA ,  Yuki MIZUKOSHI ,  Ryo SUNAZUKA

    发明人： Kenji WADA ,  Yuki MIZUKOSHI ,  Ryo SUNAZUKA

    IPC分类号： E01H1/08

    CPC分类号： E01H1/0809 ,  A01G20/47 ,  A47L5/14 ,  A47L5/36 ,  A47L9/0081

    摘要： A vibration proofing property is provided in a backpack power tool. A backpack power tool has a backpack carrying part 103 which can be carried on user's back, and a tool body 105 mounted on the backpack carrying part 103. Elastic members 133, 135 are provided which connect the tool body 105 and a body support region 113 of the backpack carrying part 103. The elastic members 133, 135 deform by receiving the weight of the tool body 105 and vibration which is caused in the tool body 105 by rotation of the rotator 123, and thereby reduce transmission of the vibration from the tool body 105 to the backpack carrying part 103.

    摘要翻译： 在背包电动工具中提供防振性能。 背包电动工具具有可携带在使用者背部的背包承载部103和安装在背包运送部103上的工具主体105.弹性构件133,135被设置为连接工具主体105和主体支撑区113 弹性构件133,135通过转动工具主体105的重量和通过旋转体123的旋转而在工具体105中产生的振动而变形，从而减少来自工具的振动的传递 主体105连接到背包承载部103。