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    Compound, polymer, and radiation-sensitive composition
    1.
    发明授权
    Compound, polymer, and radiation-sensitive composition 有权
    化合物，聚合物和辐射敏感组合物

    公开(公告)号：US08697331B2

    公开(公告)日：2014-04-15

    申请号：US12949795

    申请日：2010-11-19

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： C07C69/96 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C09D133/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A compound is shown by a following formula (1), wherein R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R2 represents a methylene group, an ethylene group, a 1-methylethylene group, a 2-methylethylene group, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, or a derivative thereof, each of R3 represents at least one of a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a derivative thereof, and a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, provided that two of R3 may bond to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof together with the carbon atom that is bonded thereto, and X represents a linear or branched fluoroalkylene group having 1 to 20 carbon atoms.

    摘要翻译： 化合物由下式（1）表示，其中R1表示氢原子，甲基或三氟甲基，R2表示亚甲基，亚乙基，1-甲基亚乙基，2-甲基亚乙基， 碳原子数4〜20的二价脂环式烃基或其衍生物，各R3表示碳原子数为4〜20的一价脂环族烃基，其衍生物和具有1个碳原子的直链或支链烷基中的至少一种 至4个碳原子，条件是R3中的两个可以键合形成具有4至20个碳原子的二价脂环族烃基或其衍生物和与其键合的碳原子，并且X表示具有1个碳原子的直链或支链氟亚烷基 至20个碳原子。

    NOVEL COMPOUND, POLYMER, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
    5.
    发明申请
    NOVEL COMPOUND, POLYMER, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION 有权
    新型化合物，聚合物和辐射敏感组合物

    公开(公告)号：US20110104611A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US12949795

    申请日：2010-11-19

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C69/96 ,  C08F120/22

    CPC分类号： C07C69/96 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C09D133/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A compound is shown by a following formula (1), wherein R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R2 represents a methylene group, an ethylene group, a 1-methylethylene group, a 2-methylethylene group, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, or a derivative thereof, each of R3 represents at least one of a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a derivative thereof, and a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, provided that two of R3 may bond to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof together with the carbon atom that is bonded thereto, and X represents a linear or branched fluoroalkylene group having 1 to 20 carbon atoms.

    摘要翻译： 化合物由下式（1）表示，其中R1表示氢原子，甲基或三氟甲基，R2表示亚甲基，亚乙基，1-甲基亚乙基，2-甲基亚乙基， 碳原子数4〜20的二价脂环式烃基或其衍生物，各R3表示碳原子数为4〜20的一价脂环族烃基，其衍生物和具有1个碳原子的直链或支链烷基中的至少一种 至4个碳原子，条件是R3中的两个可以键合形成具有4至20个碳原子的二价脂环族烃基或其衍生物和与其键合的碳原子，并且X表示具有1个碳原子的直链或支链氟亚烷基 至20个碳原子。

    RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
    6.
    发明申请
    RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物和聚合物

    公开(公告)号：US20100255420A1

    公开(公告)日：2010-10-07

    申请号：US12740111

    申请日：2008-10-21

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Yoshifumi Ooizumi ,  Kentarou Harada ,  Takuma Ebata

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Yoshifumi Ooizumi ,  Kentarou Harada ,  Takuma Ebata

    IPC分类号： G03C1/00 ,  C08F118/02

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08L2312/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, an acid-labile group-containing resin, a radiation-sensitive acid generator, and a solvent, the polymer including repeating units shown by following general formulas (1) and (2). wherein R1 and R2 represent a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, or a derivative thereof, and Z represents a group that includes a group that generates an acid upon exposure to light. The radiation-sensitive resin composition produces an excellent pattern shape, reduces the amount of elution into an immersion liquid upon contact during liquid immersion lithography, ensures that a high receding contact angle is formed by a resist film and an immersion liquid, and rarely causes development defects.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括聚合物，含酸不稳定基团的树脂，辐射敏感性酸产生剂和溶剂，所述聚合物包括由以下通式（1）和（2）表示的重复单元。 其中R 1和R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基，R 3表示碳原子数1〜6的直链或支链烷基或碳原子数4〜20的脂环式烃基，其中至少一个氢原子 被氟原子或其衍生物取代，Z表示包含在曝光时产生酸的基团的基团。 放射线敏感性树脂组合物产生优异的图案形状，在液浸光刻期间减少接触时浸入液中的洗脱量，确保通过抗蚀剂膜和浸渍液形成高后退接触角，并且很少引起显影 缺陷

    Radiation-sensitive resin composition
    7.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition 有权
    辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US08722306B2

    公开(公告)日：2014-05-13

    申请号：US12602769

    申请日：2008-05-26

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Tomoki Nagai ,  Yoshifumi Oizumi

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Tomoki Nagai ,  Yoshifumi Oizumi

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1808 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin (A1) that includes a repeating unit shown by the following formula (1-1) and a repeating unit shown by the following formula (1-2), and a radiation-sensitive acid generator (B). The radiation-sensitive resin composition exhibits excellent sensitivity, and can reduce a mask error factor (MEEF). wherein R1, R2, and R3 individually represent a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R4 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and q represents an integer from 0 to 3.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有下述式（1-1）表示的重复单元和下述式（1-2）所示的重复单元的树脂（A1）和放射线敏感性酸发生剂 B）。 辐射敏感性树脂组合物显示出优异的灵敏度，并且可以降低掩模误差因子（MEEF）。 其中R1，R2和R3分别表示碳原子数为1〜4的直链或支链烷基，R4表示氢原子，碳原子数2〜4的直链或支链烷基，具有1〜 4个碳原子，或具有1〜4个碳原子的直链或支链烷氧基，q表示0〜3的整数。

    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
    8.
    发明申请
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION 有权
    辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US20100178608A1

    公开(公告)日：2010-07-15

    申请号：US12602769

    申请日：2008-05-26

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Tomoki Nagai ,  Yoshifumi Oizumi

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Tomoki Nagai ,  Yoshifumi Oizumi

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1808 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a resin (A1) that includes a repeating unit shown by the following formula (1-1) and a repeating unit shown by the following formula (1-2), and a radiation-sensitive acid generator (B). The radiation-sensitive resin composition exhibits excellent sensitivity, and can reduce a mask error factor (MEEF). wherein R1, R2, and R3 individually represent a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R4 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, a linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and q represents an integer from 0 to 3.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有下述式（1-1）表示的重复单元和下述式（1-2）所示的重复单元的树脂（A1）和放射线敏感性酸发生剂 B）。 辐射敏感性树脂组合物显示出优异的灵敏度，并且可以降低掩模误差因子（MEEF）。 其中R1，R2和R3分别代表具有1-4个碳原子的直链或支链烷基，R4代表氢原子，具有2至4个碳原子的直链或支链烷基，具有1〜 4个碳原子，或具有1〜4个碳原子的直链或支链烷氧基，q表示0〜3的整数。