公开(公告)号：US08617774B2

公开(公告)日：2013-12-31

申请号：US13266920

申请日：2010-04-10

申请人： Norbert Kerwien ,  Jochen Hetzler

发明人： Norbert Kerwien ,  Jochen Hetzler

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F1/44

CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70516 ,  G03F9/7011

摘要： A method for calibrating an apparatus for the position measurement of measurement structures on a lithography mask comprises the following steps: qualifying a calibration mask comprising diffractive structures arranged thereon by determining positions of the diffractive structures with respect to one another by means of interferometric measurement, determining positions of measurement structures arranged on the calibration mask with respect to one another by means of the apparatus, and calibrating the apparatus by means of the positions determined for the measurement structures and also the positions determined for the diffractive structures.

摘要翻译： 用于校准光刻掩模上的测量结构的位置测量的装置的方法包括以下步骤：通过借助于干涉测量来确定衍射结构相对于彼此的位置来确定包括其上布置的衍射结构的校准掩模，确定 通过该装置相对于彼此设置在校准掩模上的测量结构的位置，并且通过为测量结构确定的位置以及为衍射结构确定的位置来校准装置。

公开(公告)号：US20120160007A1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：US13266920

申请日：2010-04-10

申请人： Norbert Kerwien ,  Jochen Hetzler

发明人： Norbert Kerwien ,  Jochen Hetzler

IPC分类号： G01P21/00

CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70516 ,  G03F9/7011

摘要： A method for calibrating an apparatus for the position measurement of measurement structures on a lithography mask comprises the following steps: qualifying a calibration mask comprising diffractive structures arranged thereon by determining positions of the diffractive structures with respect to one another by means of interferometric measurement, determining positions of measurement structures arranged on the calibration mask with respect to one another by means of the apparatus, and calibrating the apparatus by means of the positions determined for the measurement structures and also the positions determined for the diffractive structures.

摘要翻译： 用于校准光刻掩模上的测量结构的位置测量的装置的方法包括以下步骤：通过借助于干涉测量来确定衍射结构相对于彼此的位置来确定包括其上布置的衍射结构的校准掩模，确定 通过该装置相对于彼此设置在校准掩模上的测量结构的位置，并且通过为测量结构确定的位置以及为衍射结构确定的位置来校准装置。

公开(公告)号：US09134626B2

公开(公告)日：2015-09-15

申请号：US12517583

申请日：2007-11-20

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Michael Totzeck ,  Norbert Kerwien

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Michael Totzeck ,  Norbert Kerwien

IPC分类号： G02B27/28 ,  G03F7/20 ,  G02B21/00 ,  G02B21/06 ,  G02B21/16 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G02B21/0092 ,  G02B21/06 ,  G02B21/16 ,  G02B27/28 ,  G02B27/283 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70616

摘要： A microscope is provided for space-resolved measurement of a predetermined structure. The microscope includes a source of radiation, which emits electromagnetic radiation of a predetermined wavelength, an optical system, which irradiates the electromagnetic radiation onto the structure to be measured and images the structure, irradiated with the electromagnetic radiation, onto a detector. The optical system has two eigen polarization conditions, and the optical system includes a polarization module by which a polarization condition can be set for the electromagnetic radiation of the source of radiation, the polarization conditions corresponding to the eigen polarization conditions.

摘要翻译： 提供了用于预定结构的空间分辨测量的显微镜。 显微镜包括发射预定波长的电磁辐射的辐射源，将电磁辐射照射到待测量的结构上并将被电磁辐射照射的结构成像到检测器上的光学系统。 光学系统具有两个本征极化条件，并且光学系统包括偏振模块，通过该偏振模块可以对辐射源的电磁辐射设置偏振条件，对应于特征极化条件的偏振条件。

公开(公告)号：US08169595B2

公开(公告)日：2012-05-01

申请号：US12357126

申请日：2009-01-21

申请人： Martin Schriever ,  Ulrich Wegmann ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Juergen Huber ,  Norbert Kerwien ,  Michael Totzeck ,  Markus Hauf

发明人： Martin Schriever ,  Ulrich Wegmann ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Juergen Huber ,  Norbert Kerwien ,  Michael Totzeck ,  Markus Hauf

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical apparatus including a light source that emits light in the form of light pulses having a pulse frequency, and including at least one optical element. The disclosure also relates to a projection exposure machine including a pulsed light source and a projection objective, and to a method for modifying the imaging behavior of such an apparatus, such as in a projection exposure machine.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学装置，其包括以具有脉冲频率的光脉冲形式发光的光源，并且包括至少一个光学元件。 本公开还涉及包括脉冲光源和投影物镜的投影曝光机，以及用于修改诸如投影曝光机中的这种装置的成像行为的方法。

公开(公告)号：US20090174876A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：US12357126

申请日：2009-01-21

申请人： Martin Schriever ,  Ulrich Wegmann ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Juergen Huber ,  Norbert Kerwien ,  Michael Totzeck ,  Markus Hauf

发明人： Martin Schriever ,  Ulrich Wegmann ,  Stefan Hembacher ,  Bernhard Geuppert ,  Juergen Huber ,  Norbert Kerwien ,  Michael Totzeck ,  Markus Hauf

IPC分类号： G03B27/72 ,  G02B26/00

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70266

摘要： The disclosure relates to an optical apparatus including a light source that emits light in the form of light pulses having a pulse frequency, and including at least one optical element. The disclosure also relates to a projection exposure machine including a pulsed light source and a projection objective, and to a method for modifying the imaging behavior of such an apparatus, such as in a projection exposure machine.

摘要翻译： 本发明涉及一种光学装置，其包括以具有脉冲频率的光脉冲形式发光的光源，并且包括至少一个光学元件。 本公开还涉及包括脉冲光源和投影物镜的投影曝光机，以及用于修改诸如投影曝光机中的这种装置的成像行为的方法。

公开(公告)号：US20100142042A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12517583

申请日：2007-11-20

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Michael Totzeck ,  Norbert Kerwien

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Michael Totzeck ,  Norbert Kerwien

IPC分类号： G02B21/06

CPC分类号： G03F7/70625 ,  G02B21/0092 ,  G02B21/06 ,  G02B21/16 ,  G02B27/28 ,  G02B27/283 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70616

摘要： A microscope is provided for space-resolved measurement of a predetermined structure (12), said microscope comprising a source of radiation (2), which emits electromagnetic radiation (3) of a predetermined wavelength, an optical system (13), which irradiates the electromagnetic radiation (3) onto the structure (12) to be measured and images the structure (12), irradiated with the electromagnetic radiation, onto a detector (9), wherein the optical system (13) has two eigen polarization conditions (Z1, Z2), and the apparatus includes a polarization module (4) by which a polarization condition can be set for the electromagnetic radiation (3) of the source of radiation (2), which condition includes only components of a known quantity which correspond to the eigen polarization conditions (Z1, Z2).

摘要翻译： 提供了用于对预定结构（12）进行空间分辨测量的显微镜，所述显微镜包括发射预定波长的电磁辐射（3）的辐射源（2），光学系统（13），其照射 将电磁辐射（3）放置在要测量的结构（12）上并将照射有电磁辐射的结构（12）成像到检测器（9）上，其中光学系统（13）具有两个特征极化条件（Z1， Z2），并且该装置包括偏振模块（4），通过该偏振模块可以为辐射源（2）的电磁辐射（3）设置偏振条件，该条件仅包括已知量的对应于 特征极化条件（Z1，Z2）。