公开(公告)号：US06862075B2

公开(公告)日：2005-03-01

申请号：US10641306

申请日：2003-08-15

申请人： Norbertus Benedictus Koster ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vladimir Vital′evitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vadim Yevgenyevich Banine

发明人： Norbertus Benedictus Koster ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vladimir Vital′evitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vadim Yevgenyevich Banine

IPC分类号： B03C3/38 ,  G03F7/20 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933

摘要： Contaminant particles travelling with a projection beam in a lithographic projection apparatus are ionized. A purge gas may be attracted towards getter plates provided upstream of the purge gas supply. A magnetic field traps electrons generated by the ionizer to improve the ionization of the purge gas. The contaminant particles can be ionized by generating a plasma in a tube having a greater length than width.

摘要翻译： 在光刻投影装置中用投影光束行进的污染物颗粒被电离。 清洗气体可能被吸引到设置在净化气体供应源上游的吸气板。 磁场捕获由电离器产生的电子以改善净化气体的离子化。 可以通过在具有比宽度更大的长度的管中产生等离子体来使污染物颗粒离子化。

公开(公告)号：US06614505B2

公开(公告)日：2003-09-02

申请号：US10036497

申请日：2002-01-07

申请人： Norbertus Benedictus Koster ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vladimir Vital'evitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vadim Yevgenyevich Banine

发明人： Norbertus Benedictus Koster ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vladimir Vital'evitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vadim Yevgenyevich Banine

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933

摘要： Contaminant particles travelling with a projection beam in a lithographic projection apparatus are ionized. A purge gas may be attracted towards getter plates provided upstream of the purge gas supply. A magnetic field traps electrons generated by the ionizer to improve the ionization of the purge gas. The contaminant particles can be ionized by generating a plasma in a tube having a greater length than width.

公开(公告)号：US07279690B2

公开(公告)日：2007-10-09

申请号：US11094490

申请日：2005-03-31

申请人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Marc Hubertus Lorenz Van Der Velden

发明人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Frank Jeroen Pieter Schuurmans ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Bastiaan Theodoor Wolschrijn ,  Marc Hubertus Lorenz Van Der Velden

IPC分类号： H05H3/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus is arranged to project a beam from a radiation source onto a substrate. The apparatus includes an optical element in a path of the beam, a gas inlet for introducing a gas into the path of the beam so that the gas will be ionized by the beam to create electric fields toward the optical element, and a gas source coupled to the gas inlet for supplying the gas. The gas has a threshold of kinetic energy for sputtering the optical element that is greater than the kinetic energy developed by ions of the gas in the electric fields.

摘要翻译： 光刻设备被布置成将来自辐射源的光束投影到基底上。 该装置包括在光束的路径中的光学元件，用于将气体引入光束的路径中的气体入口，使得气体将被光束离子化以产生朝向光学元件的电场，并且气体源耦合 到用于供应气体的气体入口。 气体具有用于溅射光学元件的动能阈值，其大于由电场中的气体的离子产生的动能。

公开(公告)号：US06678037B2

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：US09971769

申请日：2001-10-09

申请人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

发明人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G03F7/70575 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： In a lithographic projection apparatus, a grating spectral filter is used to filter an EUV projection beam. The grating spectral filter is preferably a blazed, grazing incidence, reflective grating. Cooling channels may be provided in or on the rear of the grating spectral filter. The grating spectral filter may be formed of a material effectively invisible to the desired radiation.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，使用光栅光谱滤波器来过滤EUV投影光束。 光栅光谱滤波器优选地是闪耀的，掠入射的反射光栅。 冷却通道可以设置在光栅光谱滤波器的背面中或后面。 光栅光谱滤波器可以由对期望的辐射有效地不可见的材料形成。

公开(公告)号：US06930760B2

公开(公告)日：2005-08-16

申请号：US10716443

申请日：2003-11-20

申请人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

发明人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

IPC分类号： G02B5/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70575 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： In a lithographic projection apparatus, a grating spectral filter is used to filter an EUV projection beam. The grating spectral filter is preferably a blazed, grazing incidence, reflective grating. Cooling channels may be provided in or on the rear of the grating spectral filter. The grating spectral filter may be formed of a material effectively invisible to the desired radiation.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，使用光栅光谱滤波器来过滤EUV投影光束。 光栅光谱滤波器优选地是闪耀的，掠入射的反射光栅。 冷却通道可以设置在光栅光谱滤波器的背面中或后面。 光栅光谱滤波器可以由对期望的辐射有效地不可见的材料形成。

公开(公告)号：US06781673B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09934698

申请日：2001-08-23

申请人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： G03B2762

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield is fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。 这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。 颗粒屏蔽固定在面罩支架而不是面罩上。

公开(公告)号：US20100151394A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12567383

申请日：2009-09-25

申请人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Maarten Van Kampen ,  Ramasamy Raju ,  Wayne Mathew Lytle ,  David Neil Ruzic ,  Martin John Neumann

发明人： Luigi Scaccabarozzi ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Maarten Van Kampen ,  Ramasamy Raju ,  Wayne Mathew Lytle ,  David Neil Ruzic ,  Martin John Neumann

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52 ,  B08B13/00

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： Embodiments of the invention relate to a system for contactless cleaning of an object surface, a lithographic apparatus including the system, and a method of manufacturing a device. The system may include a He plasma source contained in a chamber and a control unit constructed to modify plasma parameters in use, such as the electron energy distribution of the plasma for causing an increase in formation of He metastables without modifying operational parameters of the plasma source. The control unit may include an electrical biasing unit constructed to apply a positive bias voltage to the object, for attracting free electrons from the plasma. The system may include a supplementary gas source, which may be either pre-mixed with He or be supplied from a further gas source. The supplementary gas may be selected based on a pre-knowledge on a type of particles to be expected on the surface of the object.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及一种用于物体表面的非接触式清洁的系统，包括该系统的光刻设备以及一种制造设备的方法。 该系统可以包括包含在腔室中的He等离子体源和构造为修改使用中的等离子体参数的控制单元，例如等离子体的电子能量分布，以引起He亚稳态的形成增加而不改变等离子体源的操作参数 。 控制单元可以包括电偏置单元，其构造成向对象施加正偏置电压，用于从等离子体吸引自由电子。 该系统可以包括辅助气体源，其可以与He预先混合或者从另外的气体源供应。 可以基于对物体表面上预期的颗粒类型的预先知识来选择补充气体。

公开(公告)号：US08018574B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US11170788

申请日：2005-06-30

申请人： Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Evgenii Dmitreevitch Korob ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov

发明人： Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Evgenii Dmitreevitch Korob ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70916

摘要： A foil trap is located in a path of a radiation beam. The foil trap includes an array of conductive strips. A voltage application circuit is coupled to the strips to apply voltage differences between pairs of adjacent ones of the strips. The voltage application circuit includes a current limiting circuit arranged to limit currents to the strips to values below a threshold value above which self-sustained arc discharge may arise in the foil trap.

摘要翻译： 箔陷阱位于辐射束的路径中。 箔阱包括导电条的阵列。 电压施加电路耦合到条带以在相邻条带之间施加电压差。 电压施加电路包括限流电路，其被布置为将电流限制到条带以下的值到低于阈值的值，在该阈值以上可能在箔阱中产生自持电弧放电。

公开(公告)号：US07061574B2

公开(公告)日：2006-06-13

申请号：US10985037

申请日：2004-11-10

申请人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

发明人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic projection apparatus is provided. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, and a support for supporting a patterning device. The patterning device serves to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a particle supply unit for supplying getter particles into the beam of radiation in order to act as a getter for contamination particles in the beam of radiation. The getter particles have a diameter of at least about 1 nm.

摘要翻译： 提供光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统和用于支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置用于根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括用于保持基板的基板台，用于将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的投影系统，以及用于将吸气剂颗粒供应到辐射束中的颗粒供应单元，以用作 吸收剂用于辐射束中的污染颗粒。 吸气剂颗粒具有至少约1nm的直径。

公开(公告)号：US08362444B2

公开(公告)日：2013-01-29

申请号：US12907135

申请日：2010-10-19

申请人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

发明人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

摘要： A patterned beam of radiation is projected onto a substrate. A reflective optical element is used to help form the radiation beam from radiation emitted from a plasma region of a plasma source. In the plasma source, a plasma current is generated in the plasma region. To reduce damage to the reflective optical element, a magnetic field is applied in the plasma region with at least a component directed along a direction of the plasma current. This axial magnetic field helps limit the collapse of the Z-pinch region of the plasma. By limiting the collapse, the number of fast ions emitted may be reduced.

摘要翻译： 将图案化的辐射束投影到基底上。 反射光学元件用于帮助从等离子体源的等离子体区域发射的辐射形成辐射束。 在等离子体源中，在等离子体区域中产生等离子体电流。 为了减少对反射光学元件的损伤，在等离子体区域中施加至少一个沿着等离子体电流的方向指向的分量的磁场。 该轴向磁场有助于限制等离子体的Z夹点区域的塌陷。 通过限制塌陷，可以减少发射的快速离子的数量。