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公开(公告)号：US20100320416A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：US12871275
申请日：2010-08-30
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US07101492B2
公开(公告)日：2006-09-05
申请号：US11081196
申请日：2005-03-16
申请人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
发明人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
IPC分类号： C09K13/00
CPC分类号： C09K13/08 , H01L21/31111
摘要： Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 提供了包含氟化表面活性剂的新型含水酸蚀刻溶液。 蚀刻溶液与各种各样的衬底一起使用，例如，在含氧化硅的衬底的蚀刻中。
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3.发明授权Bis(perfluoroalkanesulfonyl)imides and their salts as surfactants/additives for applications having extreme environments and methods therefor 失效二（全氟烷基磺酰基）酰亚胺及其盐作为具有极端环境和方法的应用的表面活性剂/添加剂公开(公告)号：US06555510B2
公开(公告)日：2003-04-29
申请号：US09853065
申请日：2001-05-10
IPC分类号： C09K1308
CPC分类号： C09K13/08 , B01F17/0057 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C10M135/10 , C10M169/04 , C10M2207/026 , C10M2207/027 , C10M2207/28 , C10M2209/084 , C10M2215/06 , C10M2219/044 , C10M2223/0405 , C10M2229/041 , C10N2210/01 , C10N2230/24 , C10N2240/08 , C25D3/02 , C25D3/38 , H01L21/02052 , H01L21/3212 , Y10T428/3154
摘要： The present invention provides for the use of bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide and its salts as surfactants or additives applications having an extreme environment.
摘要翻译： 本发明提供了双（全氟烷基磺酰基）酰亚胺及其盐作为具有极端环境的表面活性剂或添加剂应用的用途。
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公开(公告)号：US07985723B2
公开(公告)日：2011-07-26
申请号：US12871275
申请日：2010-08-30
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US07572848B2
公开(公告)日：2009-08-11
申请号：US11275269
申请日：2005-12-21
CPC分类号： C08K5/435
摘要： A coatable composition that comprises water, a film-forming organic polymer, and a leveling agent comprising an anionic species represented by the formula wherein Rf represents a perfluoroalkyl group having from 4 to 6 carbon atoms, and R represents H or an alkyl group having from 1 to 18 carbon atoms.
摘要翻译： 一种可涂覆组合物，其包含水，成膜有机聚合物和流平剂，其包含由下式表示的阴离子物质：其中Rf表示具有4至6个碳原子的全氟烷基，R表示H或具有 1至18个碳原子。
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公开(公告)号：US07294610B2
公开(公告)日：2007-11-13
申请号：US10792456
申请日：2004-03-03
IPC分类号： C11D1/12
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US07811978B2
公开(公告)日：2010-10-12
申请号：US11866671
申请日：2007-10-03
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： C11D1/004 , C11D3/042 , C11D3/048 , C11D3/3947 , C11D11/0047
摘要： Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 描述了阴离子N-取代的氟化磺酰胺表面活性剂，并且其用于清洁和酸蚀刻溶液中。 清洁和蚀刻溶液与多种基材一起使用，例如在含氧化硅的基材的清洗和蚀刻中。
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公开(公告)号：US07030067B2
公开(公告)日：2006-04-18
申请号：US10373273
申请日：2003-02-24
IPC分类号： C10M135/08 , C10M105/74
CPC分类号： C09K13/08 , B01F17/0057 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C10M135/10 , C10M169/04 , C10M2207/026 , C10M2207/027 , C10M2207/28 , C10M2209/084 , C10M2215/06 , C10M2219/044 , C10M2223/0405 , C10M2229/041 , C10N2210/01 , C10N2230/24 , C10N2240/08 , C25D3/02 , C25D3/38 , H01L21/02052 , H01L21/3212 , Y10T428/3154
摘要： The present invention provides for the use of bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide and its salts as surfactants or additives applications having an extreme environment.
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公开(公告)号：US06890452B2
公开(公告)日：2005-05-10
申请号：US10290763
申请日：2002-11-08
申请人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
发明人： Michael J. Parent , Patricia M. Savu , Richard M. Flynn , Zhongxing Zhang , William M. Lamanna , Zai-Ming Qiu , George G. I. Moore
IPC分类号： C09K13/08 , H01L21/311 , C09K13/00
CPC分类号： C09K13/08 , H01L21/31111
摘要： Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.
摘要翻译： 提供了包含氟化表面活性剂的新型含水酸蚀刻溶液。 蚀刻溶液与各种各样的衬底一起使用，例如，在含氧化硅的衬底的蚀刻中。
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公开(公告)号：US06545109B2
公开(公告)日：2003-04-08
申请号：US09896319
申请日：2001-06-29
IPC分类号： C08F224
摘要： The present invention provides imide salts as emulsifiers for the polymerization of fluoroolefins.
摘要翻译： 本发明提供作为氟烯烃聚合的乳化剂的酰亚胺盐。
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