公开(公告)号：US09012977B2

公开(公告)日：2015-04-21

申请号：US14154834

申请日：2014-01-14

申请人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Su-Youn Yi ,  Jaehoon Jang ,  Sunghoi Hur

发明人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Su-Youn Yi ,  Jaehoon Jang ,  Sunghoi Hur

IPC分类号： H01L29/792 ,  H01L29/66 ,  H01L27/02 ,  H01L27/115

CPC分类号： H01L27/0207 ,  H01L27/11565 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/7926

摘要： Provided is a semiconductor memory device. In the semiconductor memory device, a lower selection gate controls a first channel region that is defined at a semiconductor substrate and a second channel region that is defined at the lower portion of an active pattern disposed on the semiconductor substrate. The first threshold voltage of the first channel region is different from the second threshold voltage of the second channel region.

摘要翻译： 提供了一种半导体存储器件。 在半导体存储器件中，下部选择栅极控制限定在半导体衬底上的第一沟道区和限定在设置在半导体衬底上的有源图案的下部的第二沟道区。 第一沟道区的第一阈值电压不同于第二沟道区的第二阈值电压。

公开(公告)号：US20130075807A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：US13684857

申请日：2012-11-26

申请人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

发明人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

IPC分类号： H01L29/792

CPC分类号： H01L27/0207 ,  H01L27/11565 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/7926

摘要： Provided is a semiconductor memory device. In the semiconductor memory device, a lower selection gate controls a first channel region that is defined at a semiconductor substrate and a second channel region that is defined at the lower portion of an active pattern disposed on the semiconductor substrate. The first threshold voltage of the first channel region is different from the second threshold voltage of the second channel region.

摘要翻译： 提供了一种半导体存储器件。 在半导体存储器件中，下部选择栅极控制限定在半导体衬底上的第一沟道区和限定在设置在半导体衬底上的有源图案的下部的第二沟道区。 第一沟道区的第一阈值电压不同于第二沟道区的第二阈值电压。

公开(公告)号：US20140124846A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：US14154834

申请日：2014-01-14

申请人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Su-Youn Yi ,  Jaehoon Jang ,  Sunghoi Hur

发明人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Su-Youn Yi ,  Jaehoon Jang ,  Sunghoi Hur

IPC分类号： H01L27/02

CPC分类号： H01L27/0207 ,  H01L27/11565 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/7926

摘要： Provided is a semiconductor memory device. In the semiconductor memory device, a lower selection gate controls a first channel region that is defined at a semiconductor substrate and a second channel region that is defined at the lower portion of an active pattern disposed on the semiconductor substrate. The first threshold voltage of the first channel region is different from the second threshold voltage of the second channel region.

摘要翻译： 提供了一种半导体存储器件。 在半导体存储器件中，下部选择栅极控制限定在半导体衬底上的第一沟道区和限定在设置在半导体衬底上的有源图案的下部的第二沟道区。 第一沟道区的第一阈值电压不同于第二沟道区的第二阈值电压。

公开(公告)号：US08319275B2

公开(公告)日：2012-11-27

申请号：US12698542

申请日：2010-02-02

申请人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

发明人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

IPC分类号： H01L29/792 ,  H01L29/66 ,  H01L27/088

CPC分类号： H01L27/0207 ,  H01L27/11565 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/7926

摘要： Provided is a semiconductor memory device. In the semiconductor memory device, a lower selection gate controls a first channel region that is defined at a semiconductor substrate and a second channel region that is defined at the lower portion of an active pattern disposed on the semiconductor substrate. The first threshold voltage of the first channel region is different from the second threshold voltage of the second channel region.

摘要翻译： 提供了一种半导体存储器件。 在半导体存储器件中，下部选择栅极控制限定在半导体衬底上的第一沟道区和限定在设置在半导体衬底上的有源图案的下部的第二沟道区。 第一沟道区的第一阈值电压不同于第二沟道区的第二阈值电压。

公开(公告)号：US20100213527A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：US12698542

申请日：2010-02-02

申请人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

发明人： Sunil Shim ,  Jaehun Jeong ,  Hansoo Kim ,  Sunghoi Hur ,  Jaehoon Jang ,  Su-Youn Yi

IPC分类号： H01L27/11 ,  H01L27/088

CPC分类号： H01L27/0207 ,  H01L27/11565 ,  H01L27/11578 ,  H01L27/11582 ,  H01L29/7926

摘要： Provided is a semiconductor memory device. In the semiconductor memory device, a lower selection gate controls a first channel region that is defined at a semiconductor substrate and a second channel region that is defined at the lower portion of an active pattern disposed on the semiconductor substrate. The first threshold voltage of the first channel region is different from the second threshold voltage of the second channel region.

摘要翻译： 提供了一种半导体存储器件。 在半导体存储器件中，下部选择栅极控制限定在半导体衬底上的第一沟道区和限定在设置在半导体衬底上的有源图案的下部的第二沟道区。 第一沟道区的第一阈值电压不同于第二沟道区的第二阈值电压。

公开(公告)号：US20100322000A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12818285

申请日：2010-06-18

申请人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

发明人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

IPC分类号： G11C16/04

CPC分类号： G11C16/10 ,  G11C11/5628 ,  G11C16/0483 ,  G11C16/3427

摘要： In a method of multiple-bit programming of a three-dimensional memory device having arrays of memory cells that extend in horizontal and vertical directions relative to a substrate, the method comprises first programming a memory cell to be programmed to one among a first set of states. At least one neighboring memory cell that neighbors the memory cell to be programmed to one among the first set of states is then first programmed. Following the first programming of the at least one neighboring memory cell, second programming the memory cell to be programmed to one among a second set of states, wherein the second set of states has a number of states that is greater than the number of states in the first set of states.

摘要翻译： 在具有相对于衬底在水平和垂直方向上延伸的存储器单元阵列的三维存储器件的多位编程的方法中，该方法包括首先将要编程的存储器单元编程为第一组 状态。 然后，首先对与第一组状态中的一个相邻的要存储单元相邻的至少一个相邻存储单元进行编程。 在对所述至少一个相邻存储器单元进行第一编程之后，将要编程的存储器单元的第二编程为第二组状态之一，其中所述第二组状态具有大于所述状态数 第一套状态。

公开(公告)号：US20130322172A1

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：US13962451

申请日：2013-08-08

申请人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

发明人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

IPC分类号： G11C16/10

CPC分类号： G11C16/10 ,  G11C11/5628 ,  G11C16/0483 ,  G11C16/3427

摘要： In a method of multiple-bit programming of a three-dimensional memory device having arrays of memory cells that extend in horizontal and vertical directions relative to a substrate, the method comprises first programming a memory cell to be programmed to one among a first set of states. At least one neighboring memory cell that neighbors the memory cell to be programmed to one among the first set of states is then first programmed. Following the first programming of the at least one neighboring memory cell, second programming the memory cell to be programmed to one among a second set of states, wherein the second set of states has a number of states that is greater than the number of states in the first set of states.

摘要翻译： 在具有相对于衬底在水平和垂直方向上延伸的存储器单元阵列的三维存储器件的多位编程的方法中，该方法包括首先将要编程的存储器单元编程为第一组 状态。 然后，首先对与第一组状态中的一个相邻的要存储单元相邻的至少一个相邻存储单元进行编程。 在对所述至少一个相邻存储器单元进行第一编程之后，将要编程的存储器单元的第二编程为第二组状态之一，其中所述第二组状态具有大于所述状态数 第一套状态。

公开(公告)号：US08514625B2

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：US12818285

申请日：2010-06-18

申请人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

发明人： Sunil Shim ,  Sunghoi Hur ,  Kihyun Kim ,  Hansoo Kim ,  Jaehun Jeong

IPC分类号： G11C16/00

CPC分类号： G11C16/10 ,  G11C11/5628 ,  G11C16/0483 ,  G11C16/3427

摘要： In a method of multiple-bit programming of a three-dimensional memory device having arrays of memory cells that extend in horizontal and vertical directions relative to a substrate, the method comprises first programming a memory cell to be programmed to one among a first set of states. At least one neighboring memory cell that neighbors the memory cell to be programmed to one among the first set of states is then first programmed. Following the first programming of the at least one neighboring memory cell, second programming the memory cell to be programmed to one among a second set of states, wherein the second set of states has a number of states that is greater than the number of states in the first set of states.

摘要翻译： 在具有相对于衬底在水平和垂直方向上延伸的存储器单元阵列的三维存储器件的多位编程的方法中，该方法包括首先将要编程的存储器单元编程为第一组 状态。 然后，首先对与第一组状态中的一个相邻的要存储单元相邻的至少一个相邻存储单元进行编程。 在对所述至少一个相邻存储器单元进行第一编程之后，将要编程的存储器单元的第二编程为第二组状态之一，其中所述第二组状态具有大于所述状态数 第一套状态。

公开(公告)号：US20100193861A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：US12694339

申请日：2010-01-27

申请人： Sunil Shim ,  Hansoo Kim ,  Jaehoon Jang ,  Jaehun Jeong

发明人： Sunil Shim ,  Hansoo Kim ,  Jaehoon Jang ,  Jaehun Jeong

IPC分类号： H01L29/78

CPC分类号： H01L27/11551 ,  G11C16/0483 ,  H01L27/11556 ,  H01L29/66825 ,  H01L29/7881

摘要： A three-dimensional semiconductor device includes a semiconductor substrate, vertical channel structures arranged on the semiconductor substrate in a matrix, a P-type semiconductor layer disposed at the semiconductor substrate to be in direct with the vertical channel structures, and a common source line disposed at the semiconductor substrate between the vertical channel structures. The common source line may be in contact with the P-type semiconductor layer.

摘要翻译： 三维半导体器件包括：半导体衬底，以矩阵形式布置在半导体衬底上的垂直沟道结构;设置在半导体衬底处以与垂直沟道结构直接相连的P型半导体层;以及布置的公共源极线 在垂直沟道结构之间的半导体衬底处。 公共源极线可以与P型半导体层接触。

公开(公告)号：US08115259B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US12694339

申请日：2010-01-27

申请人： Sunil Shim ,  Hansoo Kim ,  Jaehoon Jang ,  Jaehun Jeong

发明人： Sunil Shim ,  Hansoo Kim ,  Jaehoon Jang ,  Jaehun Jeong

IPC分类号： H01L21/70

CPC分类号： H01L27/11551 ,  G11C16/0483 ,  H01L27/11556 ,  H01L29/66825 ,  H01L29/7881

摘要： A three-dimensional semiconductor device includes a semiconductor substrate, vertical channel structures arranged on the semiconductor substrate in a matrix, a P-type semiconductor layer disposed at the semiconductor substrate to be in direct with the vertical channel structures, and a common source line disposed at the semiconductor substrate between the vertical channel structures. The common source line may be in contact with the P-type semiconductor layer.

摘要翻译： 三维半导体器件包括：半导体衬底，以矩阵形式布置在半导体衬底上的垂直沟道结构;设置在半导体衬底处以与垂直沟道结构直接相连的P型半导体层;以及布置的公共源极线 在垂直沟道结构之间的半导体衬底处。 公共源极线可以与P型半导体层接触。