公开(公告)号：US08635886B2

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：US13558698

申请日：2012-07-26

申请人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

发明人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

IPC分类号： C03B37/00 ,  C03B20/00

CPC分类号： C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/085 ,  C03C4/12 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

摘要： It is an object of the present invention to provide a copper-containing silica glass which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength of 400 nm or less, and which is excellent in long term stability even in the high output use. The copper-containing silica glass is made to have copper of from 5 wtppm to 200 wtppm, which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength ranging from 160 nm to 400 nm, and in which an internal transmittance per 2.5 mm thickness at a wavelength of 530 nm is 95% or more.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种在400nm以下的紫外线照射下发射波长范围为520nm〜580nm的荧光的含铜石英玻璃，其为 即使在高产量使用方面，长期稳定性也优异。 含铜二氧化硅玻璃被制成具有5重量ppm至200重量ppm的铜，其在波长范围为160nm至400nm的紫外线照射下发射波长范围为520nm至580nm的峰值的荧光 nm，并且其中在波长530nm处每2.5mm厚的内部透射率为95％以上。

公开(公告)号：US20120291488A1

公开(公告)日：2012-11-22

申请号：US13558698

申请日：2012-07-26

申请人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

发明人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

IPC分类号： C03C4/12 ,  C03C21/00 ,  C03B20/00

CPC分类号： C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/085 ,  C03C4/12 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

摘要： It is an object of the present invention to provide a copper-containing silica glass which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength of 400 nm or less, and which is excellent in long term stability even in the high output use. The copper-containing silica glass is made to have copper of from 5 wtppm to 200 wtppm, which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength ranging from 160 nm to 400 nm, and in which an internal transmittance per 2.5 mm thickness at a wavelength of 530 nm is 95% or more.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种在400nm以下的紫外线照射下发射波长范围为520nm〜580nm的荧光的含铜石英玻璃，其为 即使在高产量使用方面，长期稳定性也优异。 含铜二氧化硅玻璃被制成具有5重量ppm至200重量ppm的铜，其在波长范围为160nm至400nm的紫外线照射下发射波长范围为520nm至580nm的峰值的荧光 nm，并且其中在波长530nm处每2.5mm厚的内部透射率为95％以上。

公开(公告)号：US20100109509A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：US12595605

申请日：2008-04-28

申请人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

发明人： Tetsuji Ueda ,  Michinari Ohuchi ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Masahiro Nakatsuka ,  Hidetsugu Yoshida

IPC分类号： H01J17/16 ,  B05D3/02 ,  C03C3/04

CPC分类号： C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/085 ,  C03C4/12 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

摘要： It is an object of the present invention to provide a copper-containing silica glass which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength of 400 nm or less, and which is excellent in long term stability even in the high output use.The copper-containing silica glass is made to have copper of from 5 wtppm to 200 wtppm, which emits fluorescence having a peak in a wavelength range of from 520 nm to 580 nm under irradiation of ultraviolet light with a wavelength ranging from 160 nm to 400 nm, and in which an internal transmittance per 2.5 mm thickness at a wavelength of 530 nm is 95% or more.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种在400nm以下的紫外线照射下发射波长范围为520nm〜580nm的荧光的含铜石英玻璃，其为 即使在高产量使用方面，长期稳定性也优异。 含铜二氧化硅玻璃被制成具有5重量ppm至200重量ppm的铜，其在波长范围为160nm至400nm的紫外线照射下发射波长范围为520nm至580nm的峰值的荧光 nm，并且其中在波长530nm处每2.5mm厚的内部透射率为95％以上。

公开(公告)号：US06578382B2

公开(公告)日：2003-06-17

申请号：US09821352

申请日：2001-03-28

申请人： Tetsuji Ueda ,  Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura

发明人： Tetsuji Ueda ,  Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura

IPC分类号： C03C1500

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03C23/007 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/90

摘要： A method for heat treating a synthetic quartz glass for optical use in a heating furnace, that comprises covering the surroundings of a synthetic quartz glass body with a SiO2 powder having a mean dissolved hydrogen molecule concentration of 1×1019 molecules/cm3 or higher, and then heat treating the body.

摘要翻译： 一种用于热处理在加热炉中用于光学的合成石英玻璃的方法，其包括用平均溶解氢分子浓度为1×1019分/ cm 3或更高的SiO 2粉末覆盖合成石英玻璃体的周围，然后加热 治疗身体。

公开(公告)号：US07007510B2

公开(公告)日：2006-03-07

申请号：US10731186

申请日：2003-12-09

申请人： Tetsuji Ueda ,  Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Martin Trommer ,  Stefan Ochs

发明人： Tetsuji Ueda ,  Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Martin Trommer ,  Stefan Ochs

IPC分类号： C03C23/00

CPC分类号： C03C23/007 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/24612

摘要： An object of the present invention is to provide an improved blank such that an optical member of a high homogeneity can be obtained therefrom, and to provide a vessel and a heat treatment method for heat-treating a highly uniform synthetic quartz blank. In a first aspect of the invention a special designed blank is provided showing a concave shaped outer surface. In a second aspect of the invention a special designed vessel for heat-treating blanks is provided, whereby the degree of heat emission at the center is set higher than that of the surroundings.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种改进的坯料，使得可以获得高均匀性的光学构件，并提供用于热处理高度均匀的合成石英坯的容器和热处理方法。 在本发明的第一方面，提供了一种特殊设计的坯件，其显示出凹形外表面。 在本发明的第二方面，提供了一种用于热处理坯料的特殊设计容器，由此将中心处的发热度设定为高于周围环境的热量。

公开(公告)号：US06689705B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US10048309

申请日：2002-01-29

申请人： Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

发明人： Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： An object of the present invention is to provide a synthetic quartz glass optical material having a high optical transmittance for a radiation 157 nm in wavelength emitted from F2 excimer laser and a high resistance against irradiation of a F2 excimer laser radiation, yet having a uniformity suitable for such a fine patterning using a F2 excimer laser, and to provide an optical member using the same. The problems above are solved by a synthetic quartz glass optical material for F2 excimer lasers having an OH group concentration of 0.5 ppm or lower, a fluorine concentration of 0.1 to 2 mol %, a hydrogen molecule concentration of 5×1016 molecules/cm3 or lower, a difference between the maximum and minimum fluorine concentrations within 20 mol ppm, and a difference between the maximum and minimum refraction indices of 2×10−5 or lower.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种合成石英玻璃光学材料，其对于从F2准分子激光器发射的波长为157nm的辐射具有高的透光率，并且具有高的对F2准分子激光辐射照射的抗性，但具有适合的均匀性 对于使用F2准分子激光器的精细图案化，并提供使用其的光学部件。 上述问题由OH基浓度为0.5ppm以下，氟浓度为0.1〜2mol％，氢分子浓度为5×10 16分子/ cm 2的F2准分子激光的合成石英玻璃光学材料解决， 3>以下，最大和最小氟浓度在20mol ppm内的差异，以及最大和最小折射率之间的差异为2×10 -5或更低。

公开(公告)号：US07093465B2

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：US10297451

申请日：2001-05-31

申请人： Tetsuji Ueda ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki

发明人： Tetsuji Ueda ,  Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki

IPC分类号： C03C15/00

CPC分类号： C03C23/007 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/03 ,  Y10S65/90

摘要： An object of the present invention is to overcome the problems of the prior art technique, and to provide a heat treatment method as well as a heat treatment apparatus capable of heat treating, with higher efficiency, a synthetic quartz glass for optical use having higher homogeneity and higher purity. Another object of the present invention is to provide and a synthetic quartz glass for optical use.The problems above are solved by, in a method for heat treating a flat cylindrical synthetic quartz glass body provided as the object to be heat treated in a heating furnace, a method for heat treating a synthetic quartz glass for optical use comprising preparing a vessel made of quartz glass and having a flat cylindrical space for setting therein the object synthetic quartz glass body, placing two or more object synthetic quartz glass bodies into the vessel in parallel with each other, filling the space with SiO2 powder, setting the vessel inside the heating furnace with its lid closed, and applying the heat treatment to the vessel.

摘要翻译： 本发明的目的是克服现有技术的问题，提供热处理方法以及能够以更高的效率对具有较高均匀性的光学用合成石英玻璃进行热处理的热处理装置 和更高的纯度。 本发明的另一个目的是提供一种用于光学用途的合成石英玻璃。 上述问题是通过在加热炉中对作为热处理对象的平坦圆筒形合成石英玻璃体进行热处理的方法来解决的，该方法是用于热处理用于光学用途的合成石英玻璃的方法，包括制备容器 的石英玻璃，并且具有平坦的圆柱形空间用于在其中设置物体合成石英玻璃体，将两个或更多个目标合成石英玻璃体彼此平行地放置在容器中，用SiO 2填充空间， 粉末，将容器置于加热炉内并关闭盖子，并对容器进行热处理。

公开(公告)号：US20130283858A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：US13920628

申请日：2013-06-18

申请人： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka ,  Tetsuji Ueda ,  Masanobu Ezaki

发明人： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka ,  Tetsuji Ueda ,  Masanobu Ezaki

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2008 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  G03F1/24

摘要： Methods for selecting titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900° C. for 100 hours as suitable material for the EUV lithography member.

摘要翻译： 用于选择在900℃热处理100小时时氧化铝基团浓度小于或等于100ppm的掺杂二氧化钛的石英玻璃作为EUV光刻元件的合适材料的方法。

公开(公告)号：US20110159413A1

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：US12967175

申请日：2010-12-14

申请人： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka ,  Tetsuji Ueda ,  Masanobu Ezaki

发明人： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka ,  Tetsuji Ueda ,  Masanobu Ezaki

IPC分类号： G03F1/00 ,  C03B19/00 ,  C03C3/04

CPC分类号： G03F7/2008 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  G03F1/24

摘要： A titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900° C. for 100 hours is suitable as the EUV lithography member.

摘要翻译： 在900℃热处理100小时时，OH基浓度小于或等于100ppm的二氧化钛掺杂石英玻璃适合作为EUV光刻元件。

公开(公告)号：US5790732A

公开(公告)日：1998-08-04

申请号：US774423

申请日：1996-12-30

申请人： Tetsuji Ueda

发明人： Tetsuji Ueda

IPC分类号： G02B6/36 ,  G02B6/38 ,  G02B6/44 ,  C03B9/00

CPC分类号： G02B6/3835 ,  G02B6/3854 ,  G02B6/3869

摘要： An optical connector has a ferrule for accommodating an optical fiber. The ferrule includes a glass capillary and a coating. The glass capillary is formed at the distal end portion of the ferrule and is inserted in a ceramic sleeve that performs optical connection. The glass cylinder has a first through hole at the central axis portion thereof to accommodate a bare optical fiber. The coating is made of a material having a higher hardness than that of the sleeve, and coats an entire outer circumferential surface of the glass capillary. A method of manufacturing an optical connector is also disclosed.

摘要翻译： 光连接器具有用于容纳光纤的套圈。 套圈包括玻璃毛细管和涂层。 玻璃毛细管形成在套圈的远端部分，并插入进行光学连接的陶瓷套筒中。 玻璃圆筒在其中心轴部分具有第一通孔以容纳裸光纤。 该涂层由具有比套筒硬度更高的硬度的材料制成，并且涂覆玻璃毛细管的整个外圆周表面。 还公开了一种制造光连接器的方法。