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    Antireflective coating compositions
    6.
    发明授权
    Antireflective coating compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US08329387B2

    公开(公告)日：2012-12-11

    申请号：US12133567

    申请日：2008-07-08

    申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

    发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C08G73/06 ,  C08G73/10 ,  C08G18/71

    CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G63/6854 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0644 ,  C08G73/0677 ,  C08L79/04 ,  C09D167/00 ,  C09D179/04

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a novel polymer without an aromatic chromophore, where the polymer comprises a structural unit derived from an aminoplast and a structural unit derived from a diol, triol, dithiol, trithiol, other polyols, diacid, triacid, other polyacids, diimide or mixture thereof, where the diol, dithiol, triol, trithiol, diacid, triacid, diimide, diamide or imide-amide optionally contain one or more nitrogen and/or sulfur atoms or contain one or more alkene groups. The invention also relates to the novel polymer and a process for using the novel antireflective coating composition in a lithographic process.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含没有芳族发色团的新型聚合物，其中聚合物包含衍生自氨基塑料的结构单元和衍生自二醇，三醇，二硫醇，三硫醇，其它多元醇，二酸，三酸的结构单元 ，其它多元酸，二酰亚胺或其混合物，其中二醇，二硫醇，三醇，三硫醇，二酸，三酸，二酰亚胺，二酰胺或酰亚胺 - 酰胺任选地含有一个或多个氮和/或硫原子或含有一个或多个烯烃基团。 本发明还涉及新型聚合物和在光刻工艺中使用新型抗反射涂料组合物的方法。

    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
    7.
    发明授权
    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using 有权
    促进自组装的底层成分及制作及使用方法

    公开(公告)号：US09093263B2

    公开(公告)日：2015-07-28

    申请号：US14039809

    申请日：2013-09-27

    申请人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    发明人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    IPC分类号： H01L21/02 ,  C03C15/00

    CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F220/14 ,  C08F220/40 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02282 ,  C08F212/08

    摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.

    摘要翻译： 本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。 底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。

    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
    8.
    发明授权
    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof 有权
    用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其工艺

    公开(公告)号：US08691925B2

    公开(公告)日：2014-04-08

    申请号：US13243640

    申请日：2011-09-23

    申请人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O. Neisser ,  Guanyang Lin

    发明人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O. Neisser ,  Guanyang Lin

    IPC分类号： C08F118/02 ,  G03F7/20 ,  C08L33/12

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

    摘要： The present invention relates to novel neutral layer compositions and methods for using the compositions. The neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

    摘要翻译： 本发明涉及新型中性层组合物和使用该组合物的方法。 中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）和至少一个结构单元（3）的无规共聚物，其中R1选自 C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C 8部分氟化环烷基和C 2 -C 8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
    9.
    发明授权
    Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof 有权
    用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其工艺

    公开(公告)号：US09052598B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US14180848

    申请日：2014-02-14

    申请人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O Neisser ,  Guanyang Lin

    发明人： Hengpeng Wu ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  Jian Yin ,  Margareta Paunescu ,  Mark O Neisser ,  Guanyang Lin

    IPC分类号： G03F7/20 ,  C08L53/00 ,  C08F118/02 ,  C08L33/12 ,  C08F293/00 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/32 ,  C08F220/14 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/14 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2037

    摘要： The present invention relates to novel processes for using the neutral layer compositions for aligning microdomains of directed self-assembling block copolymers (BCP). The processes are useful for fabrication of electronic devices. The novel processes comprise a step of forming a coating of the neutral layer from the neutral layer composition, wherein the neutral layer composition comprises at least one random copolymer having at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3) where R1 is selected from the group consisting of a C1-C8 alkyl, C1-C8 fluoroalkyl moiety, C1-C8 partially fluorinated alkyl, C4-C8 cycloalkyl, C4-C8 cyclofluoroalkyl, C4-C8 partially fluorinated cycloalkyl, and a C2-C8 hydroxyalkyl; R2, R3 and R5 are independently selected from a group consisting of H, C1-C4 alkyl, CF3 and F; R4 is selected from the group consisting of H, C1-C8 alkyl, C1-C8 partially fluorinated alkyl and C1-C8 fluoroalkyl, n ranges from 1 to 5, R6 is selected from the group consisting of H, F, C1-C8 alkyl and a C1-C8 fluoroalkyl and m ranges from 1 to 3.

    摘要翻译： 本发明涉及使用中性层组合物对准定向自组装嵌段共聚物（BCP）的微区域的新方法。 该方法对于制造电子器件是有用的。 该新方法包括从中性层组合物形成中性层的涂层的步骤，其中中性层组合物包含至少一种具有至少一个结构单元（1），至少一个结构单元（2）的无规共聚物 ）和至少一个结构单元（3），其中R 1选自C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8氟烷基部分，C 1 -C 8部分氟化烷基，C 4 -C 8环烷基，C 4 -C 8环氟烷基，C 4 -C8部分氟化的环烷基，和C2-C8羟烷基; R2，R3和R5独立地选自H，C1-C4烷基，CF3和F; R 4选自H，C 1 -C 8烷基，C 1 -C 8部分氟化烷基和C 1 -C 8氟代烷基，n为1至5，R 6选自H，F，C 1 -C 8烷基 和C 1 -C 8氟烷基，m为1至3。

    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
    10.
    发明授权
    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using 有权
    促进自组装的底层成分及制作及使用方法

    公开(公告)号：US09181449B2

    公开(公告)日：2015-11-10

    申请号：US14107325

    申请日：2013-12-16

    申请人： Yi Yi ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin

    发明人： Yi Yi ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin

    IPC分类号： C09D143/04 ,  C09D133/12 ,  G03F7/16 ,  C09D137/00 ,  G03F7/00

    CPC分类号： C09D143/04 ,  C09D133/12 ,  C09D137/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/168

    摘要： Disclosed herein is an underlayer composition, wherein the underlayer is typically used for promoting the formation of self assembled structures, and wherein the underlayer formulation comprises: (a) a polymer comprising at least one monomer repeat unit having the structure (I) wherein X is a crosslinking group chosen from and wherein n is 0-5, p is 0-5, q is 1-2, m is 1-2 and R is H, C1-C4alkyl or tri(C1-C4alkyl)silyl; (b) at least one thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention further relates to methods of making and using the composition.

    摘要翻译： 本文公开了一种底层组合物，其中底层通常用于促进自组装结构的形成，并且其中底层制剂包含：（a）包含至少一种具有结构（I）的单体重复单元的聚合物，其中X为 选自其中n为0-5的交联基团，p为0-5，q为1-2，m为1-2，R为H，C 1 -C 4烷基或三（C 1 -C 4烷基）甲硅烷基; （b）至少一个热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及制备和使用该组合物的方法。