公开(公告)号：US20100092894A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12250563

申请日：2008-10-14

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Joon Yeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Joon Yeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D251/32 ,  C09D5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： Antireflective coating compositions are discussed.

摘要翻译： 讨论了抗反射涂料组合物。

公开(公告)号：US20100015550A1

公开(公告)日：2010-01-21

申请号：US12174718

申请日：2008-07-17

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Salem K. Mullen ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  Salem K. Mullen ,  Jian Yin ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： H01L21/76808 ,  C08F212/08 ,  C08F220/14 ,  C08F220/26 ,  C08F220/32 ,  C08F222/14 ,  C08L33/068 ,  C08L63/00 ,  H01L21/312 ,  C08L2666/22

摘要： Compositions for use in dual damascene process are disclosed.

摘要翻译： 公开了用于双镶嵌工艺的组合物。

公开(公告)号：US20110250544A1

公开(公告)日：2011-10-13

申请号：US13162065

申请日：2011-06-16

申请人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

发明人： Weihong Liu ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho ,  Jian Yin ,  Salem K. Mullen ,  Mark Neisser

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D251/04 ,  C09D5/00

CPC分类号： G03F7/091

摘要： Antireflective coating compositions are discussed.

摘要翻译： 讨论了抗反射涂料组合物。

公开(公告)号：US20090035704A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US11833361

申请日：2007-08-03

申请人： Hong Zhuang ,  Huirong Yao ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Weihong Liu ,  Jianhui Shan ,  Zhong Xiang

发明人： Hong Zhuang ,  Huirong Yao ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Weihong Liu ,  Jianhui Shan ,  Zhong Xiang

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： C09D163/00 ,  C09D133/06 ,  C09D167/00 ,  G03F7/091

摘要： The present invention relates to an underlayer coating composition capable of being crosslinked comprising a polymer, a compound capable of generating a strong acid, and optionally a crosslinker, where the polymer comprises at least one absorbing chromophore and at least one moiety selected from an epoxy group, an aliphatic hydroxy group and mixtures thereof.The invention further relates to a process of imaging the underlayer coating compositions.

摘要翻译： 本发明涉及能够交联的底层涂料组合物，其包含聚合物，能够产生强酸的化合物和任选的交联剂，其中聚合物包含至少一个吸收发色团和至少一个选自环氧基的部分 ，脂族羟基及其混合物。 本发明还涉及对下层涂料组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US08039201B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US11944105

申请日：2007-11-21

申请人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

发明人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0046

摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a polymer, a thermal acid generator and optionally a crosslinking agent, where the polymer comprises at least one hydrophobic unit (1), at least one chromophore unit (2), at least one unit with a crosslinking site (3) and optionally a unit capable of crosslinking the polymer, where, R1 to R8 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, W1 is a fully or partially fluorinated alkylene group, X is selected from F, H and OH; W2 comprises a chromophore group, and W3 Y comprises a crosslinking site. The invention also relates to a process for using the antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，热酸产生剂和任选的交联剂的抗反射组合物，其中所述聚合物包含至少一个疏水单元（1），至少一个生色团单元（2），至少一个具有 交联位点（3）和任选的能够交联聚合物的单元，其中R1至R8独立地选自氢和C1-C4烷基，W1是完全或部分氟化的亚烷基，X选自F，H和OH ; W2包含发色团，W3 Y包含交联位点。 本发明还涉及使用抗反射涂料组合物的方法。

公开(公告)号：US20090130591A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US11944105

申请日：2007-11-21

申请人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

发明人： Huirong Yao ,  Zhong Xiang ,  Jian Yin ,  Weihong Liu

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0046

摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a polymer, a thermal acid generator and optionally a crosslinking agent, where the polymer comprises at least one hydrophobic unit (1), at least one chromophore unit (2), at least one unit with a crosslinking site (3) and optionally a unit capable of crosslinking the polymer, where, R1 to R8 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, W1 is a fully or partially fluorinated alkylene group, X is selected from F, H and OH; W2 comprises a chromophore group, and W3 Y comprises a crosslinking site. The invention also relates to a process for using the antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，热酸产生剂和任选的交联剂的抗反射组合物，其中所述聚合物包含至少一个疏水单元（1），至少一个生色团单元（2），至少一个具有 交联位点（3）和任选的能够交联聚合物的单元，其中R1至R8独立地选自氢和C1-C4烷基，W1是完全或部分氟化的亚烷基，X选自F，H和OH ; W2包含发色团，W3 Y包含交联位点。 本发明还涉及使用抗反射涂料组合物的方法。

公开(公告)号：US08841062B2

公开(公告)日：2014-09-23

申请号：US13693496

申请日：2012-12-04

申请人： Weihong Liu ,  Ping-Hung Lu ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai ,  Yoshiharu Sakurai ,  Aritaka Hishida

发明人： Weihong Liu ,  Ping-Hung Lu ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai ,  Yoshiharu Sakurai ,  Aritaka Hishida

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/26 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： Disclosed herein is a photosensitive composition comprising a heterocyclic thiol compound or tautomeric form thereof and its method of use on a substrate, which may include a chalcophile substrate.

摘要翻译： 本文公开了包含杂环硫醇化合物或其互变异构形式的光敏组合物及其在底物上的使用方法，其可以包括亲合性底物。

公开(公告)号：US20100063169A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12522079

申请日：2008-01-04

申请人： Jeffrey Stowell ,  Weihong Liu

发明人： Jeffrey Stowell ,  Weihong Liu

IPC分类号： C09K21/12 ,  C07F9/08 ,  C08K5/51

CPC分类号： C07F9/657154 ,  C08K5/5399 ,  C09K21/12

摘要： Certain cyclic phosphoramide ester compounds useful, inter alia, as halogen-free flame-retardant compounds, are disclosed. The compounds are particularly useful for providing flame retarded polyurethane foams. (I)

摘要翻译： 公开了一些特别用作无卤阻燃化合物的环状磷酰胺酯化合物。 这些化合物特别适用于提供阻燃聚氨酯泡沫。 （一世）

公开(公告)号：US09012134B2

公开(公告)日：2015-04-21

申请号：US11756479

申请日：2007-05-31

申请人： Jeffrey A. Bluestone ,  Weihong Liu ,  Amy Putnam

发明人： Jeffrey A. Bluestone ,  Weihong Liu ,  Amy Putnam

IPC分类号： G01N33/53 ,  G01N33/50 ,  A61K39/00 ,  C12N5/0783 ,  G01N33/569

CPC分类号： G01N33/56972 ,  A61K35/17 ,  A61K39/0008 ,  A61K2035/122 ,  A61K2039/515 ,  C12N5/0636 ,  G01N33/505 ,  G01N2333/70514 ,  G01N2333/70517 ,  G01N2333/70596 ,  G01N2333/7155

摘要： The invention provides methods of isolating CD127lo/− immunosuppressive regulatory T cells which can be greatly enriched for FoxP3, methods of expanding the isolated cells, pharmaceutical compositions of such cells, and methods of their use in the treatment of autoimmune and other immune system mediated disorders.

摘要翻译： 本发明提供了分离能够大量富集FoxP3的CD127lo / - 免疫抑制性调节性T细胞的方法，扩增分离的细胞的方法，这种细胞的药物组合物及其用于治疗自身免疫和其他免疫系统介导的病症的方法 。

公开(公告)号：US09012126B2

公开(公告)日：2015-04-21

申请号：US13524790

申请日：2012-06-15

申请人： Weihong Liu ,  PingHung Lu ,  Chunwei Chen ,  Stephen Meyer ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai

发明人： Weihong Liu ,  PingHung Lu ,  Chunwei Chen ,  Stephen Meyer ,  Medhat Toukhy ,  SookMee Lai

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： The invention relates to a novel positive working photosensitive composition having: at least one photoacid generator; at least one novolak polymer; at least one polymer, having a polymer backbone, said polymer comprising a structure of the following formula: wherein R1-R5 are, independently, —H or —CH3, A is a linear or branched C1-C10 alkylene group, B is a C1-C12 alkyl or alicyclic group, D is a linking group that may be a chemical bond, a carboxylate group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, or a —COOCH2— group, wherein the carbonyl carbon is bonded to the polymer backbone, Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, E is a linear or branched C2-C10 alkylene group, G is an acid cleavable group. The invention further relates to a process for using the novel composition for forming an image.

摘要翻译： 本发明涉及一种新型的正性光敏组合物，其具有：至少一种光致酸发生剂; 至少一种酚醛清漆聚合物; 至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构：其中R 1 -R 5独立地是-H或-CH 3，A是直链或支链C 1 -C 10亚烷基，B是C1 -C 12烷基或脂环基，D是可以是化学键的连接基团，其中羰基碳键合到聚合物主链上的羧酸酯基团或-COOCH 2 - 基团，其中羰基碳键合到聚合物上 骨架，Ar是取代或未取代的芳基或杂芳基，E是直链或支链C 2 -C 10亚烷基，G是酸可裂解基团。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。