公开(公告)号：US06521877B1

公开(公告)日：2003-02-18

申请号：US09721451

申请日：2000-11-22

申请人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

发明人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G01J120

CPC分类号： G03F7/70891

摘要： An optical arrangement, in particular a microlithographic projection printing installation, has in particular a slot-shaped image field or rotationally non-symmetrical illumination. A refractive optical element, e.g. a lens (2), is heated by the rotationally non-symmetrical radiated impingement (3) of a light source. At least one electric heating element is coupled to the optical element. Said heating element comprises a resistance heating coating carried by the optical element. In the region of the surface (3) of the optical element acted upon by the radiation of the light source the resistance heating coating is substantially optically transparent. It comprises a plurality of parallel, electrically mutually insulated coating strips (5 to 10). A heating current source (17 to 19) is additionally part of the heating element. By virtue of the combined heating of the optical element by the radiated impingement (3) and the resistance heating, a correction of imaging defects induced by illumination in the optical element is achieved by means of a symmetrical and/or homogeneous temperature and refractive index distribution.

摘要翻译： 光学布置，特别是微光刻投影印刷装置，特别地具有槽形图像场或旋转非对称照明。 折射光学元件，例如 透镜（2）被光源的旋转非对称辐射冲击（3）加热。 至少一个电加热元件耦合到光学元件。 所述加热元件包括由光学元件承载的电阻加热涂层。 在由光源的辐射作用的光学元件的表面（3）的区域中，电阻加热涂层基本上是光学透明的。 它包括多个平行的，电互相绝缘的涂层条（5至10）。 加热电流源（17〜19）是加热元件的另外一部分。 由于通过辐射冲击（3）和电阻加热对光学元件的组合加热，通过对称和/或均匀的温度和折射率分布来实现由光学元件中的照明引起的成像缺陷的校正 。

公开(公告)号：US06466382B2

公开(公告)日：2002-10-15

申请号：US09751132

申请日：2000-12-29

申请人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

发明人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958

摘要： An optical arrangement, in particular a projection exposure system for microlithography, has, in particular, a slit-shaped image field or a non-rotational-symmetric illumination. As a result, an optical element (101) is exposed in a non-rotational-symmetric manner to the radiation of the light source (110, 111, 112). The optical element (101) has an absorbing coating (104, 105). The absorption of the coating (104, 105) is distributed in such a manner that it is non-rotation-symmetrical in a manner that is at least approximately complementary to the intensity distribution of the exposure to the radiation (107, 108, 109) of the light source (110, 111, 112). As a result of the energy absorbed in the coating (104, 105), an additional heating of the optical element (101) takes place that results in a better non-rotational-symmetric temperature distribution and, consequently, a compensation for light-induced imaging errors.

摘要翻译： 光学装置，特别是用于微光刻的投影曝光系统，特别是狭缝状图像场或非旋转对称照明。 结果，光学元件（101）以非旋转对称的方式暴露于光源（110,111,112）的辐射。 光学元件（101）具有吸收涂层（104,105）。 涂层（104,105）的吸收以这样的方式分布，使得其以与辐射（107,108,109）的曝光的强度分布至少近似互补的方式是非旋转对称的， 的光源（110,111,112）。 由于在涂层（104,105）中吸收的能量的结果，发生光学元件（101）的附加加热，其导致更好的非旋转对称的温度分布，并且因此补偿光诱导的 成像错误。

公开(公告)号：US06522392B1

公开(公告)日：2003-02-18

申请号：US09721452

申请日：2000-11-22

申请人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

发明人： Werner Müller-Rissmann ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G03B2768

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： An optical system, in particular a microlithographic projection printing installation, has in particular a slot-shaped image field or rotationally non-symmetrical illumination. The system comprises a light source (30) as well as at least one optical element, in particular a lens or a mirror. In the region of at least one surface acted upon by the radiation (1) of the light source (30) the optical element is substantially symmetrical in relation to an axis of rotational symmetry (5). The optical element or its housing (6) is rotatably connected to a frame (7) by at least one bearing (8, 9, 10). An actuator (18) sets the optical element (25) or its housing (6) in rotation about the axis of rotational symmetry (5). The actuation cooperates with a control device (23). The latter activates the actuator (18) for rotation of the optical element at least temporarily during the period, when the optical element is exposed to lumination. In such a manner rotationally non-symmetrical image defects are compensated.

摘要翻译： 光学系统，特别是微光刻投影印刷装置，特别地具有槽形图像场或旋转非对称照明。 该系统包括光源（30）以及至少一个光学元件，特别是透镜或反射镜。 在由光源（30）的辐射（1）作用的至少一个表面的区域中，光学元件相对于旋转对称轴线（5）基本上是对称的。 光学元件或其壳体（6）通过至少一个轴承（8,9,10）可旋转地连接到框架（7）。 致动器（18）将光学元件（25）或其壳体（6）围绕旋转对称轴线（5）旋转。 致动与控制装置（23）配合。 当光学元件暴露于照明时，后者激活用于光学元件的致动器（18），以在光学元件暴露于照明期间的至少暂时的旋转。 以这种方式，可以补偿旋转非对称的图像缺陷。

公开(公告)号：US06583850B2

公开(公告)日：2003-06-24

申请号：US09755401

申请日：2001-01-05

申请人： Wolfgang Hummel ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter

发明人： Wolfgang Hummel ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

摘要： An optical element (1) of an optical system has at least one chamber (5) that is sealed against atmospheric pressure and is enclosed by boundary surfaces and that has a fluid filling. At least one of the boundary surfaces of the chamber (5) is exposed at least partially to illumination light. It is configured so that a change in the fluid pressure inside the chamber (5) results in a change in non-rotational-symmetric imaging properties of the optical element (1) having n-fold symmetry. For this purpose, a fluid source has a fluid connection to the chamber via a fluid supply line (17). Furthermore, a control device is provided for the pressure in the fluid filling.

摘要翻译： 光学系统的光学元件（1）具有至少一个室（5），其被密封以抵抗大气压并被边界表面包围并具有流体填充。 室（5）的至少一个边界表面至少部分地暴露于照明光。 其构造使得室（5）内的流体压力的变化导致具有n倍对称性的光学元件（1）的非旋转对称成像特性的变化。 为此，流体源经由流体供应管线（17）与腔室流体连接。 此外，为流体填充中的压力提供控制装置。

公开(公告)号：US06781668B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09752282

申请日：2000-12-29

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70891

摘要： An optical arrangement, in particular a microlithographic projection printing installation, has in particular a slot-shaped image field or rotationally non-symmetrical illumination. An optical element (5) is therefore acted upon in a rotationally non-symmetrical manner by the radiation of a light source. To temper the optical element (5), a supply apparatus (11, 19 to 23) for gas is used. The latter having at least one supply line (21) and at least one gas directing device (11). The latter is aligned relative to the optical element (5) and controllable in such a way that the gas is directed by the gas directing device (11) towards the optical element (5). The volumetric flow of the exiting gas therefore has a magnitude and spatial distribution (17), which are adapted to the intensity distribution (6) of the radiation. By virtue of such tempering, rotationally non-symmetrical light-induced image defects in the optical element (5) are avoided or compensated.

摘要翻译： 光学布置，特别是微光刻投影印刷装置，特别地具有槽形图像场或旋转非对称照明。 因此，光学元件（5）通过光源的辐射以旋转非对称的方式作用。 为了回火光学元件（5），使用用于气体的供给装置（11,19〜23）。 后者具有至少一个供应管线（21）和至少一个气体引导装置（11）。 后者相对于光学元件（5）对准并且可以以气体被气体引导装置（11）引向光学元件（5）的方式控制。 因此，出口气体的体积流量具有适于辐射的强度分布（6）的大小和空间分布（17）。 由于这种回火，避免或补偿光学元件（5）中的旋转非对称的光诱导图像缺陷。

公开(公告)号：US06504597B2

公开(公告)日：2003-01-07

申请号：US09755423

申请日：2001-01-05

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Hubert Holderer ,  Rudolf Von Bünau ,  Christian Wagner ,  Jochen Becker ,  Stefan Xalter ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70983

摘要： An optical arrangement, in particular a microlithographic projection printing installation, has in particular a slot-shaped image field or rotationally non-symmetrical illumination. An optical element (1) is therefore acted upon in a rotationally non-symmetrical manner by the radiation of the light source. A compensating light supply device (11, 14 to 19) is optically coupled via the peripheral surface (13) of the optical element (1) to the latter. It supplies compensating light (16, 12) to the optical element (1) in such a way that the temperature distribution in the optical element (1), which arises as a result of cumulative heating of the optical element (1) with projection light (2) and compensating light (12), is at least partially homogenized. In said manner image defects induced by the projection light are corrected.

摘要翻译： 光学布置，特别是微光刻投影印刷装置，特别地具有槽形图像场或旋转非对称照明。 因此，光学元件（1）通过光源的辐射以旋转非对称的方式作用。 补偿光供给装置（11,14〜19）经由光学元件（1）的周面（13）光耦合到光学元件（1）。 它以这样的方式向光学元件（1）供应补偿光（16,12），使得由于用投影光累积加热光学元件（1）而导致的光学元件（1）中的温度分布 （2）和补偿光（12）至少部分均匀化。 以所述方式校正由投影光引起的图像缺陷。

公开(公告)号：US06388823B1

公开(公告)日：2002-05-14

申请号：US09486017

申请日：2000-07-22

申请人： Erwin Gaber ,  Christian Wagner ,  Hubert Holderer ,  Michael Gerhard ,  Erich Merz ,  Jochen Becker ,  Arie Cornelis Scheiberlich

发明人： Erwin Gaber ,  Christian Wagner ,  Hubert Holderer ,  Michael Gerhard ,  Erich Merz ,  Jochen Becker ,  Arie Cornelis Scheiberlich

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G02B7/023 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70783

摘要： An optical system, in particular a projection exposure device for microlithography, with a slit-shaped image field or illumination which is not rotationally symmetrical, has an optical element, in particular, a lens or a mirror which is arranged in a mount (2), and actuators (3) which engage on the optical element (1) at least approximately perpendicularly to the optical axis. The actuators (3) bring about forces and or moments, which are not rotationally symmetrical and which deviate from the radial, on the optical element (1), for the production of bendings which take place substantially without thickness changes.

摘要翻译： 光学系统，特别是用于微光刻的投影曝光装置，具有狭缝形的图像场或不是旋转对称的照明，具有光学元件，特别是布置在安装件（2）中的透镜或反射镜， ，以及致动器（3），其至少大致垂直于光轴接合在光学元件（1）上。 致动器（3）在光学元件（1）上产生不是旋转对称的并且与径向偏离的力或力矩，用于产生基本上没有厚度变化的弯曲。

公开(公告)号：US06744574B2

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：US10247964

申请日：2002-09-20

申请人： Ulrich Weber ,  Jochen Becker ,  Hubert Holderer ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler

发明人： Ulrich Weber ,  Jochen Becker ,  Hubert Holderer ,  Bernhard Gellrich ,  Jens Kugler

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G02B7/02

摘要： A mount for an optical element in an optical imaging device, in particular in a lens system (4) for semiconductor lithography, has at least one mounting ring (2) which bears the optical element (6). The mounting ring (2) is of at least partially hollow design in cross section.

摘要翻译： 用于光学成像装置中的光学元件的安装件，特别是在用于半导体光刻的透镜系统（4）中，具有至少一个承载光学元件（6）的安装环（2）。 安装环（2）的截面至少部分为中空设计。

公开(公告)号：US20150149481A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：US14090137

申请日：2013-11-26

申请人： Yong Sik Lee ,  Yaeyoung Choi ,  Jin Young Kook ,  Jochen Becker ,  Alexander Boehm

发明人： Yong Sik Lee ,  Yaeyoung Choi ,  Jin Young Kook ,  Jochen Becker ,  Alexander Boehm

IPC分类号： G06F17/30

CPC分类号： G06F17/30483

摘要： A system includes generation of a query to retrieve, from a first database table, a result set conforming to query parameters for all entries of a second table stored in a volatile memory of a query client, serialization of the second table into the volatile memory, copying of the serialized second table into a second volatile memory of a data server, de-serialization of the serialized second table into the second volatile memory, determination of a plurality of entries of the first database table which are associated with the second table, and determination of the result set from the plurality of entries based on the query parameters.

摘要翻译： 系统包括生成查询以从第一数据库表中检索符合查询参数的结果集，该结果集存储在查询客户端的易失性存储器中的第二表的所有条目，将第二表串行化到易失性存储器中， 将序列化的第二表复制到数据服务器的第二易失性存储器中，将串行化的第二表解串缩到第二易失性存储器中，确定与第二表相关联的第一数据库表的多个条目;以及 基于查询参数从多个条目确定结果集。

公开(公告)号：US06816325B1

公开(公告)日：2004-11-09

申请号：US10661183

申请日：2003-09-11

申请人： Jochen Becker ,  Bernhard Gellrich ,  Werner Lang ,  Alexander Kohl ,  Sascha Kraus

发明人： Jochen Becker ,  Bernhard Gellrich ,  Werner Lang ,  Alexander Kohl ,  Sascha Kraus

IPC分类号： G02B702

CPC分类号： G02B7/023

摘要： In the case of a mounting apparatus, an optical element having an inner mount and an outer mount, in particular a lens in a projection lens system for semiconductor lithography, the inner mount is connected to the outer mount via three circumferentially distributed articulations. Manipulators, whereby said inner mount is displaceable, act on the articulations. The articulations comprise a mechanism which transforms a radial movement into an axial movement.

摘要翻译： 在安装装置的情况下，具有内部安装件和外部安装件的光学元件，特别是用于半导体光刻的投影透镜系统中的透镜，内部安装件通过三个周向分布的关节连接到外部安装件。 由此所述内部支架可移动的操纵器作用在铰接上。 关节包括将径向运动变换成轴向运动的机构。