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    Method for forming pattern and developer
    3.
    发明授权
    Method for forming pattern and developer 有权
    形成图案和显影剂的方法

    公开(公告)号：US08703401B2

    公开(公告)日：2014-04-22

    申请号：US13177487

    申请日：2011-07-06

    申请人： Taiichi Furukawa ,  Hirokazu Sakakibara

    发明人： Taiichi Furukawa ,  Hirokazu Sakakibara

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/327

    摘要： A pattern-forming method includes forming a resist film on a substrate using a photoresist composition, exposing the resist film, and developing the exposed resist film using a negative developer that includes an organic solvent. The photoresist composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) including an acid-labile group that dissociates due to an acid, the solubility of the polymer in the developer decreasing upon dissociation of the acid-labile group, and (B) a photoacid generator. The developer includes a nitrogen-containing compound.

    摘要翻译： 图案形成方法包括使用光致抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂膜，曝光抗蚀剂膜，并使用包含有机溶剂的负显影剂显影曝光的抗蚀剂膜。 光致抗蚀剂组合物包括（A）包含结构单元（I）的聚合物，该结构单元（I）包含由酸引起的解离的酸不稳定基团，在酸不稳定基团解离时聚合物在显影剂中的溶解度降低;和 B）光致酸发生器。 显影剂包括含氮化合物。

    METHOD FOR FORMING PATTERN AND DEVELOPER
    4.
    发明申请
    METHOD FOR FORMING PATTERN AND DEVELOPER 有权
    形成图案和开发者的方法

    公开(公告)号：US20120308938A1

    公开(公告)日：2012-12-06

    申请号：US13177487

    申请日：2011-07-06

    申请人： Taiichi FURUKAWA ,  Hirokazu Sakakibara

    发明人： Taiichi FURUKAWA ,  Hirokazu Sakakibara

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32

    CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/327

    摘要： A pattern-forming method includes forming a resist film on a substrate using a photoresist composition, exposing the resist film, and developing the exposed resist film using a negative developer that includes an organic solvent. The photoresist composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) including an acid-labile group that dissociates due to an acid, the solubility of the polymer in the developer decreasing upon dissociation of the acid-labile group, and (B) a photoacid generator. The developer includes a nitrogen-containing compound.

    摘要翻译： 图案形成方法包括使用光致抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂膜，曝光抗蚀剂膜，并使用包含有机溶剂的负显影剂显影曝光的抗蚀剂膜。 光致抗蚀剂组合物包括（A）包含结构单元（I）的聚合物，该结构单元（I）包含由酸引起的解离的酸不稳定基团，在酸不稳定基团解离时聚合物在显影剂中的溶解度降低;和 B）光致酸发生器。 显影剂包括含氮化合物。

    Method for forming resist pattern
    5.
    发明授权
    Method for forming resist pattern 有权
    形成抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US08530146B2

    公开(公告)日：2013-09-10

    申请号：US13357618

    申请日：2012-01-25

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Hiromu Miyata ,  Koji Ito ,  Taiichi Furukawa

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Hiromu Miyata ,  Koji Ito ,  Taiichi Furukawa

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes an acid-labile group-containing polymer and photoacid generator. The radiation-sensitive resin composition is used to form a resist pattern using a developer that includes an organic solvent in an amount of 80 mass % or more. The radiation-sensitive resin composition has a contrast value γ of 5.0 to 30.0. The contrast value γ is calculated from a resist dissolution contrast curve obtained when developing the radiation-sensitive resin composition using the organic solvent.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含酸不稳定基团的聚合物和光酸产生剂。 辐射敏感性树脂组合物用于使用包含80质量％以上的有机溶剂的显影剂形成抗蚀剂图案。 辐射敏感性树脂组合物的对比度值γ值为5.0〜30.0。 从使用有机溶剂显影辐射敏感性树脂组合物时获得的抗蚀剂溶出度对比曲线计算对比度值γ。

    Compound, polymer, and radiation-sensitive composition
    6.
    发明授权
    Compound, polymer, and radiation-sensitive composition 有权
    化合物，聚合物和辐射敏感组合物

    公开(公告)号：US08697331B2

    公开(公告)日：2014-04-15

    申请号：US12949795

    申请日：2010-11-19

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Takehiko Naruoka ,  Makoto Shimizu ,  Yukio Nishimura ,  Nobuji Matsumura ,  Yuusuke Asano

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： C07C69/96 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C09D133/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A compound is shown by a following formula (1), wherein R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R2 represents a methylene group, an ethylene group, a 1-methylethylene group, a 2-methylethylene group, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, or a derivative thereof, each of R3 represents at least one of a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a derivative thereof, and a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, provided that two of R3 may bond to form a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof together with the carbon atom that is bonded thereto, and X represents a linear or branched fluoroalkylene group having 1 to 20 carbon atoms.

    摘要翻译： 化合物由下式（1）表示，其中R1表示氢原子，甲基或三氟甲基，R2表示亚甲基，亚乙基，1-甲基亚乙基，2-甲基亚乙基， 碳原子数4〜20的二价脂环式烃基或其衍生物，各R3表示碳原子数为4〜20的一价脂环族烃基，其衍生物和具有1个碳原子的直链或支链烷基中的至少一种 至4个碳原子，条件是R3中的两个可以键合形成具有4至20个碳原子的二价脂环族烃基或其衍生物和与其键合的碳原子，并且X表示具有1个碳原子的直链或支链氟亚烷基 至20个碳原子。

    RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
    7.
    发明申请
    RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物和聚合物

    公开(公告)号：US20100255420A1

    公开(公告)日：2010-10-07

    申请号：US12740111

    申请日：2008-10-21

    申请人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Yoshifumi Ooizumi ,  Kentarou Harada ,  Takuma Ebata

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Makoto Shimizu ,  Takehiko Naruoka ,  Yoshifumi Ooizumi ,  Kentarou Harada ,  Takuma Ebata

    IPC分类号： G03C1/00 ,  C08F118/02

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08L2312/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, an acid-labile group-containing resin, a radiation-sensitive acid generator, and a solvent, the polymer including repeating units shown by following general formulas (1) and (2). wherein R1 and R2 represent a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, R3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, or a derivative thereof, and Z represents a group that includes a group that generates an acid upon exposure to light. The radiation-sensitive resin composition produces an excellent pattern shape, reduces the amount of elution into an immersion liquid upon contact during liquid immersion lithography, ensures that a high receding contact angle is formed by a resist film and an immersion liquid, and rarely causes development defects.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括聚合物，含酸不稳定基团的树脂，辐射敏感性酸产生剂和溶剂，所述聚合物包括由以下通式（1）和（2）表示的重复单元。 其中R 1和R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基，R 3表示碳原子数1〜6的直链或支链烷基或碳原子数4〜20的脂环式烃基，其中至少一个氢原子 被氟原子或其衍生物取代，Z表示包含在曝光时产生酸的基团的基团。 放射线敏感性树脂组合物产生优异的图案形状，在液浸光刻期间减少接触时浸入液中的洗脱量，确保通过抗蚀剂膜和浸渍液形成高后退接触角，并且很少引起显影 缺陷