公开(公告)号：WO2014066415A2

公开(公告)日：2014-05-01

申请号：PCT/US2013/066221

申请日：2013-10-22

Applicant: THE TEXAS A&M UNIVERSITY SYSTEM

Inventor： JEONG, Hae-Kwon ,  SHAH, Miral N. ,  KWON, Hyuk Taek

CPC classification number: B01D67/0083 ,  B01D53/228 ,  B01D67/0051 ,  B01D71/028 ,  B01D2253/204 ,  B01D2257/102 ,  B01D2257/108 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/504 ,  B01D2257/7025 ,  B01D2323/34 ,  B05D1/18 ,  B05D3/06 ,  B05D3/107 ,  Y02C10/10 ,  Y02C20/20

Abstract: A method produces metal-organic framework. In one embodiment a method for producing a metal-organic framework comprises contacting a porous support with a solution comprising a metal and a solvent, contacting a porous support with a solution comprising a ligand and a second solvent, and heating the support for a period of time suitable to substantially evaporate the solution and produce crystals on the surface and the pores.

Abstract translation: 一种方法产生金属 - 有机框架。 在一个实施方案中，用于产生金属 - 有机框架的方法包括使多孔载体与包含金属和溶剂的溶液接触，使多孔载体与包含配体和第二溶剂的溶液接触，并将载体加热一段时间 时间适于基本蒸发溶液并在表面和孔隙上产生晶体。

公开(公告)号：WO2014050905A1

公开(公告)日：2014-04-03

申请号：PCT/JP2013/075938

申请日：2013-09-25

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 水谷　一良 ,  山中　司

IPC: C08L53/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F293/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C09D153/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/107 ,  B82Y40/00 ,  C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24479

Abstract: 　ブロックコポリマーを用いる自己組織化リソグラフィーにおいて、ミクロ相分離に要するアニーリング時間を著しく短縮し、パターン形成のスループットを向上させ得るパターン形成用自己組織化組成物、該組成物を用いたブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成方法及びパターンを提供する。　下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するブロックを含有するブロックコポリマーと、有機溶剤とを含有するパターン形成用自己組織化組成物。上記一般式（１）中、　Ｘはアルキル基又はシクロアルキル基を表わす。ｎは１～５の整数を表わし、ｎが２以上の場合、Ｘは同一でも異なっていても良い。

Abstract translation: 提供：用于形成图案的自组织组合物，其能够通过使用嵌段共聚物显着降低自组织光刻中微相分离所需的退火时间，从而提高图案形成的生产量; 通过使用自组织组合物自组织嵌段共聚物形成图案的方法; 和图案。 一种用于形成图案的自组织组合物，其包含含有具有由通式（1）表示的重复单元的嵌段的有机溶剂和嵌段共聚物。 在通式（1）中，X表示烷基或环烷基，n表示1-5的整数。 在n为2以上的情况下，多个X部分可以相同也可以不同。

公开(公告)号：WO2013161827A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/JP2013/061947

申请日：2013-04-23

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： ▲桑▼原　雄一 ,  森　勇介 ,  阿部　啓介 ,  米田　貴重

IPC: C03C17/25 ,  C03C17/34 ,  H01L31/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  G02B5/02

CPC classification number: C03C17/25 ,  B05D3/104 ,  B05D3/107 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/007 ,  C03C17/009 ,  C03C17/34 ,  C03C17/3411 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/70 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/127 ,  G02B5/02 ,  H01L31/048 ,  Y02E10/50

Abstract: 　目的の光学特性に応じて所望の粒子径の無機微粒子を用いることができ、かつ無機微粒子の選択の幅が広い、無機微粒子含有酸化ケイ素膜付ガラス基板の製造方法を提供する。　ガラス基板１０上に、無機微粒子１４と、アルコキシシランの加水分解物と、水および（ポリ）エチレングリコールのいずれか一方または両方とを含むコーティング液を塗布し、無機微粒子含有酸化ケイ素膜１２を形成する；または、溶融ガラスをガラスリボンに成形し、ガラスリボンを徐冷し、ついで切断してガラス基板を製造する際に、ガラスリボン上に、無機微粒子と、アルコキシシランの加水分解物と、水および（ポリ）エチレングリコールのいずれか一方または両方とを含むコーティング液を塗布し、無機微粒子含有酸化ケイ素膜を形成する。

Abstract translation: 提供一种具有含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法，其中可以根据客观光学特性使用具有所需粒径的无机细颗粒，并且对于无机细颗粒具有广泛的选择。 通过在玻璃基板（10）上涂布涂布液，形成无机微粒子的氧化硅膜（12），所述涂布液含有无机微粒（14），烷氧基硅烷的水解产物和水和/或 （聚乙二醇; 或者，当通过将熔融玻璃熔融到玻璃带中并缓慢冷却然后切割玻璃带来制造玻璃基板时，通过将涂布液施加到玻璃带上来形成含有无机细颗粒的氧化硅膜，所述涂布液含有 无机细颗粒，烷氧基硅烷的水解产物和水和/或（聚）乙二醇。

公开(公告)号：WO2013154879A1

公开(公告)日：2013-10-17

申请号：PCT/US2013/035081

申请日：2013-04-03

Applicant: ROHM AND HAAS COMPANY

Inventor： NEDWICK, Paul ,  NUNN, Maureen B. ,  RICE, Katherine Sue

IPC: D04H1/587 ,  A47L13/16 ,  A61K8/02 ,  D04H1/64 ,  D06M13/368 ,  D06M15/263 ,  D21H17/37 ,  D21H17/43 ,  C08F20/06 ,  C08F220/12

CPC classification number: D04H1/587 ,  A47L13/16 ,  B05D1/18 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/107 ,  B05D7/51 ,  C08F20/06 ,  C08F220/12 ,  D04H1/64 ,  D06M13/368 ,  D06M15/263 ,  D21H17/35 ,  D21H17/37 ,  D21H17/43 ,  D21H25/06 ,  Y10T442/20

Abstract: A method for forming a dispersible nonwoven substrate in an aqueous medium including: a) forming an aqueous nonwoven binder including a selected emulsion polymer wherein the polymer has been modified with a compound comprising a tri-substituted N-atom, the compound having a pKb of from 4 to 7; b) contacting a nonwoven substrate with the aqueous nonwoven binder; c) heating the contacted nonwoven to a temperature of from 120 °C to 220 °C; and d) immersing the contacted heated nonwoven in an aqueous medium having a final pH

Abstract translation: 一种在水性介质中形成可分散非织造基材的方法，包括：a）形成包含所选择的乳液聚合物的水性非织造粘合剂，其中所述聚合物已经用包含三取代的N-原子的化合物进行了改性，所述化合物的pKb为 从4到7; b）使非织造基材与水性非织造粘合剂接触; c）将所接触的非织造材料加热至120℃至220℃的温度; 和d）将接触的加热非织造织物浸入最终pH <5的水性介质中。 还提供了通过前述方法形成的水性介质中的可分散非织造基材和在水性介质中提供分散的非织造布的方法。

公开(公告)号：WO2013152928A1

公开(公告)日：2013-10-17

申请号：PCT/EP2013/055681

申请日：2013-03-19

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： WUISTER, Sander ,  BANINE, Vadim ,  FINDERS, Jozef ,  KOOLE, Roelof ,  PEETERS, Emiel ,  SINGH, Harmeet

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/26 ,  B05D1/32 ,  B05D3/107 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2022

Abstract: A method is disclosed to form a patterned epitaxy template, on a substrate, to direct self-assembly of block copolymer for device lithography. A resist layer on a substrate is selectively exposed with actinic (e.g. UV or DUV) radiation by photolithography to provide exposed portions in a regular lattice pattern of touching or overlapping shapes arranged to leave unexposed resist portions between the shapes. Exposed or unexposed resist is removed with remaining resist portions providing the basis for a patterned epitaxy template for the orientation of the self-assemblable block copolymer as a hexagonal or square array. The method allows for simple, direct UV lithography to form patterned epitaxy templates with sub-resolution features.

Abstract translation: 公开了一种在衬底上形成图案化外延模板以引导用于器件光刻的嵌段共聚物的自组装的方法。 基板上的抗蚀剂层通过光刻选择性地用光化（例如UV或DUV）曝光，以提供布置成在形状之间留下未曝光的抗蚀剂部分的接触或重叠形状的规则格子图案的暴露部分。 用剩余的抗蚀剂部分除去曝光或未曝光的抗蚀剂，为用于可自组装嵌段共聚物取向的图案化外延模板提供六边形或正方形阵列的基础。 该方法允许简单的直接UV光刻形成具有亚分辨率特征的图案化外延模板。

公开(公告)号：WO2013104499A1

公开(公告)日：2013-07-18

申请号：PCT/EP2012/075989

申请日：2012-12-18

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： BRIZARD, Aurelie ,  KOOLE, Roelof ,  PEETERS, Emiel

IPC: B82Y30/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B05D3/107 ,  B05D1/28 ,  B05D1/60 ,  B05D3/007 ,  B82Y40/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0002

Abstract: A method of forming a self-assembled block polymer layer, oriented to form an ordered array of alternating domains, is disclosed. The method involves providing a layer of the self-assemblable block copolymer on the substrate and depositing a first surfactant onto the external surface of the layer prior to inducing self-assembly of the layer to form the ordered array of domains. The first surfactant has a hydrophobic tail and a hydrophilic head group and acts to reduce the interfacial energy at the external surface of the block copolymer layer in order to promote formation of assembly of the block copolymer polymer into an ordered array having the alternating domains.

Abstract translation: 公开了一种形成定向以形成交替畴的有序阵列的自组装嵌段聚合物层的方法。 该方法包括在衬底上提供一层可自组装的嵌段共聚物，并在引导层的自组装形成畴的有序阵列之前，在层的外表面上沉积第一表面活性剂。 第一表面活性剂具有疏水性尾巴和亲水性头基，并且用于降低嵌段共聚物层的外表面处的界面能，以促进嵌段共聚物聚合物组装成具有交替域的有序阵列。

公开(公告)号：WO2013061747A1

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：PCT/JP2012/075757

申请日：2012-10-04

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 伊藤　敦史 ,  竹田　洋介

IPC: B05D7/24 ,  B05D3/10 ,  C09D183/04 ,  C09D201/10

CPC classification number: B05D3/107 ,  B05D1/36 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/30 ,  C03C17/3405 ,  C03C2217/76 ,  C07F7/10 ,  C07F7/12 ,  C07F7/1836 ,  C07F7/184 ,  C09D183/08

Abstract: 　被膜を有する被膜付き基板を製造する方法において、用いる被膜形成用組成物の貯蔵安定性を確保しながら、簡便で生産効率がよく、さらに基板の劣化がなく外観が良好であり、高い耐久性を備えた被膜付き基板の製造が可能な方法を提供する。　基板上に被膜を有する、被膜付き基板を製造する方法であって、加水分解可能な官能基を有するシラン化合物を含み、実質的に加水分解反応触媒を含有しない被膜形成用組成物を調製する工程、前記被膜形成用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成する工程、前記塗膜を乾燥して前駆膜とする工程、および、加水分解反応触媒を主成分として含む処理液により前記前駆膜の表面を処理する工程、を含むことを特徴とする被膜付き基板の製造方法。

Abstract translation: 提供一种制造具有涂膜的涂布基板的方法，其能够在确保用于其的涂膜组合物的储存稳定性的同时，以高效率容易地制造高度耐用的涂布基板，防止所述基板的劣化 并具有良好的外观。 一种在基板上具有涂膜的涂布基板的制造方法。 该涂布基板的制造方法的特征在于，包括：制备含有可水解官能团但基本上不含有水解反应催化剂的硅烷化合物的涂膜组合物的工序; 通过将涂膜组合物涂布在基材上形成涂膜的步骤; 通过干燥涂膜获得前体膜的步骤; 以及使用包含水解反应催化剂作为主要成分的处理液来处理前体膜的表面的步骤。

公开(公告)号：WO2013025635A3

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：PCT/US2012050638

申请日：2012-08-13

Applicant: MCALISTER TECHNOLOGIES LLC ,  MCALISTER ROY E

Inventor： MCALISTER ROY EDWARD

IPC: C01B31/02 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B05D5/00 ,  B01D39/20 ,  B05D1/36 ,  B05D3/0218 ,  B05D3/107 ,  B05D3/12 ,  B05D7/50 ,  C01B32/05 ,  C01B32/186 ,  C01B32/19 ,  C01B32/194 ,  C01B35/14 ,  C23C16/01 ,  C23C16/26 ,  C23C16/342 ,  C30B25/02 ,  C30B29/02 ,  C30B29/64 ,  C30B29/68 ,  C30B31/00 ,  C30B31/04 ,  C30B31/06 ,  C30B33/00 ,  H02K7/025 ,  H02N2/0005 ,  Y10T74/2119 ,  Y10T428/24793 ,  Y10T428/2495

Abstract: An architectural construct is a synthetic material that includes a matrix characterization of different crystals. An architectural construct can be configured as a solid mass or as parallel layers that can be on a nano-, micro-, and macro-scale. Its configuration can determine its behavior and functionality under a variety of conditions. Implementations of an architectural construct can include its use as a substrate, sacrificial construct, carrier, filter, sensor, additive, and catalyst for other molecules, compounds, and substances, or may also include a means to store energy and generate power.

Abstract translation: 建筑结构是一种合成材料，包括不同晶体的基体表征。 一个建筑结构可以配置为一个固体质量或平行层，可以是纳米级，微米级和宏观级。 其配置可以在各种条件下确定其行为和功能。 建筑结构的实施可以包括其作为基材，牺牲结构，载体，过滤器，传感器，添加剂以及用于其他分子，化合物和物质的催化剂的用途，或者还可以包括储存能量和发电的手段。

公开(公告)号：WO2011134956A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：PCT/EP2011/056575

申请日：2011-04-26

Applicant: DE HELLER DESIGN B.V. ,  JONKER, Robert, Alexander ,  VAN ANDEL, Arnoldus, Gijsbertus, Wilhelmus

Inventor： JONKER, Robert, Alexander ,  VAN ANDEL, Arnoldus, Gijsbertus, Wilhelmus

IPC: B05D1/04 ,  B05D1/06 ,  H05K3/10 ,  B05D1/34 ,  B05D3/02 ,  B05D3/10 ,  B05D3/12 ,  B05D5/06

CPC classification number: C23C16/50 ,  B05D1/04 ,  B05D1/045 ,  B05D1/06 ,  B05D1/12 ,  B05D1/34 ,  B05D3/0263 ,  B05D3/107 ,  B05D3/12 ,  B05D5/067 ,  B05D2503/00 ,  C23C16/56 ,  H05K3/14 ,  H05K2203/122 ,  H05K2203/1344

Abstract: The present invention relates to a method for providing a metallic coat covering a surface, said method comprises: (i) applying an electrically conductive two component binder on said surface; (ii) electrostatic spraying a metal powder on the binder applied in step (i); wherein the metal powder comprises metal particles with an average diameter less than 80 micron.

Abstract translation: 本发明涉及一种提供覆盖表面的金属涂层的方法，所述方法包括：（i）在所述表面上施加导电双组分粘合剂; （ii）在步骤（i）中施加的粘合剂上静电喷涂金属粉末; 其中所述金属粉末包含平均直径小于80微米的金属颗粒。

公开(公告)号：WO2011116223A1

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：PCT/US2011/028867

申请日：2011-03-17

Applicant: BOARD OF REGENTS THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM ,  WILLSON, C., Grant ,  BATES, Christopher ,  STRAHAN, Jeffrey ,  ELLISON, Christopher

Inventor： WILLSON, C., Grant ,  BATES, Christopher ,  STRAHAN, Jeffrey ,  ELLISON, Christopher

IPC: H01L51/40

CPC classification number: B05D3/107 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/16 ,  G03F7/165 ,  G03F7/2051 ,  H01L21/02

Abstract: The present invention describes the synthesis of silicon-containing monomers and copolymers. The synthesis of a monomer, trimethyl-(2-methylenebut-3-enyl)silane (TMSI) and subsequent synthesis of diblock copolymer with styrene, forming polystyrene-block-polytrimethylsilyl isoprene, and synthesis of diblock copolymer Polystyrene-block-polymethacryloxymethyltrimethylsilane or PS-b-P(MTMSMA). These silicon containing diblock copolymers have a variety of uses. One preferred application is as novel imprint template material with sub- 100 nm features for lithography.

Abstract translation: 本发明描述了含硅单体和共聚物的合成。 合成单体，三甲基 - （2-甲基丁烯-3-烯基）硅烷（TMSI），随后与苯乙烯合成二嵌段共聚物，形成聚苯乙烯嵌段聚三甲基甲硅烷基异戊二烯，合成二嵌段共聚物聚苯乙烯嵌段聚甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷或PS -bP（MTMSMA）。 这些含硅二嵌段共聚物具有多种用途。 一个优选的应用是作为新颖的印模模板材料，具有用于光刻的亚100nm特征。