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318 条记录 (耗时 0.022 秒)

    PHASE DETERMINATION SYSTEM AND METHOD
    31.
    发明申请
    PHASE DETERMINATION SYSTEM AND METHOD 审中-公开
    相位测定系统及方法

    公开(公告)号：WO2006039368A3

    公开(公告)日：2009-04-09

    申请号：PCT/US2005034926

    申请日：2005-09-29

    申请人： UNIV INDIANA RES & TECH CORP ,  RUBINSTEIN JACOB ,  WOLANSKY GERSHON

    发明人： RUBINSTEIN JACOB ,  WOLANSKY GERSHON

    IPC分类号： G01J1/00 ,  G01J1/20

    CPC分类号： G01J9/00 ,  A61B3/1015 ,  A61B3/103

    摘要： The present invention relates to the field of optics, and, in particular to a system and method for determining the phase of a wave. The system and method of the present invention calculates the phase of any type of wave based on the intensity of the wave. In particular, the system and method provides a means for finding the ray mapping between two surfaces in space from information on the wave's intensity measured at those two surfaces.

    摘要翻译： 本发明涉及光学领域，特别涉及用于确定波相位的系统和方法。 本发明的系统和方法基于波的强度来计算任何类型的波的相位。 特别地，该系统和方法提供了一种用于从在这两个表面测量的波浪强度的信息中找到空间中的两个表面之间的射线映射的手段。

    EUV OPTICS
    32.
    发明申请
    EUV OPTICS 审中-公开

    公开(公告)号：WO2008020965A3

    公开(公告)日：2008-10-16

    申请号：PCT/US2007016648

    申请日：2007-07-24

    申请人： CYMER INC ,  FOMENKOV IGOR V ,  BOWERING NORBERT R

    发明人： FOMENKOV IGOR V ,  BOWERING NORBERT R

    IPC分类号： G02B1/00 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00 ,  G01J1/00 ,  G02B5/08 ,  G02B7/182 ,  G03F9/00 ,  G21G4/00 ,  H01J35/20 ,  H01L21/31 ,  H01L21/311

    CPC分类号： G03F7/7015 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/182 ,  G21K1/062 ,  Y10T29/49982

    摘要： In a first aspect, a method of fabricating an EUV light source mirror is disclosed which may comprise the acts/steps of providing a plurality of discrete substrates; coating each substrate with a respective multilayer coating; securing the coated substrates in an arrangement wherein each coated substrate is oriented to a common focal point; and thereafter polishing at least one of the multilayer coatings. In another aspect, an optic for use with EUV light is disclosed which may comprise a substrate; a smoothing layer selected from the group of materials consisting of Si, C, Si 3 N 4 , B 4 C, SiC and Cr, the smoothing layer material being deposited using highly energetic deposition conditions ^nd a multilayer dielectric coating. In another aspect, a corrosion resistant, multilayer coating for an EUV mirror may comprise alternating layers of Si and a compound material having nitrogen and a 5th period transition metal.

    摘要翻译： 在第一方面，公开了一种制造EUV光源反射镜的方法，其可以包括提供多个离散基板的动作/步骤; 用相应的多层涂层涂覆每个基材; 将涂覆的基底固定在其中每个涂覆的基底被定向到公共焦点的布置中; 然后抛光至少一个多层涂层。 在另一方面，公开了一种用于EUV光的光学元件，其可以包括基底; 选自由Si，C，Si 3 N 4，B 4 C，SiC和Cr组成的材料组中的平滑层， 使用高能沉积条件沉积的平滑层材料和多层介电涂层。 另一方面，用于EUV反射镜的耐腐蚀多层涂层可以包括交替的Si层和具有氮和第五段过渡金属的复合材料。

    LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE
    33.
    发明申请
    LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE 审中-公开
    激光生产等离子体光源与预脉冲

    公开(公告)号：WO2006091948A3

    公开(公告)日：2008-01-24

    申请号：PCT/US2006006947

    申请日：2006-02-24

    申请人： CYMER INC ,  BYKANOV ALEXANDER N ,  KHODYKIN OLEH

    发明人： BYKANOV ALEXANDER N ,  KHODYKIN OLEH

    IPC分类号： G01J1/00 ,  H01J35/08

    CPC分类号： H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

    摘要： A method for generating EUV light is disclosed which may include the acts / steps of providing a source material; generating a plurality of source material droplets; simultaneously irradiating a plurality of source material droplets with a first light pulse to create irradiated source material; and thereafter exposing the irradiated source material to a second light pulse to generate EUV light, e.g. by generating a plasma of the source material. In another aspect, an EUV light source may include a droplet generator delivering a plurality of source material droplets to a target volume; a source of a first light pulse for simultaneously irradiating a plurality of droplets in the target volume to produce an irradiated source material; and a source of a second light pulse for exposing the irradiated source material to generate EUV light. The droplet generator may comprise a non-modulating droplet generator and may comprise a multi-orifice nozzle.

    摘要翻译： 公开了一种用于产生EUV光的方法，其可以包括提供源材料的动作/步骤; 产生多个源材料液滴; 同时用第一光脉冲照射多个源材料液滴以产生辐射源材料; 然后将照射的源材料暴露于第二光脉冲以产生EUV光，例如， 通过产生源材料的等离子体。 在另一方面，EUV光源可以包括将多个源材料液滴输送到目标体积的液滴发生器; 用于同时照射目标体积中的多个液滴的第一光脉冲源，以产生照射的源材料; 以及第二光脉冲源，用于曝光照射的源材料以产生EUV光。 液滴发生器可以包括非调节液滴发生器，并且可以包括多孔喷嘴。

    TEST-LICHTQUELLE
    34.
    发明申请
    TEST-LICHTQUELLE 审中-公开
    测试光源

    公开(公告)号：WO2007147493A1

    公开(公告)日：2007-12-27

    申请号：PCT/EP2007/005108

    申请日：2007-06-09

    申请人： BERTHOLD DETECTION SYSTEMS GMBH ,  NOFER, Lothar

    发明人： NOFER, Lothar

    IPC分类号： F21V8/00 ,  G01J1/00 ,  G01J3/00

    CPC分类号： G01J1/04 ,  G01J1/0474 ,  G01J1/08 ,  G02B6/0041 ,  G02B6/006

    摘要： Beschrieben wird eine Vorrichtung zum Abgeben von Licht mit bestimmter Intensität mit einer Lichtquelle, mit einem der Lichtquelle zugeordneten Lichtübertrager, in welchen die Lichtquelle Licht einstrahlt, und mit wenigstens einem Fenster, durch welches ein Teil des in den Lichtübertrager eingestrahlten Lichtes wieder austritt. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der Lichtübertrager aus einem das eingestrahlte Licht streuenden Material besteht.

    摘要翻译： 描述了一种用于具有一定强度随着与光源发射器，其中，所述光源照射的光关联的光源发射的光，并具有至少一个窗口，通过它注入到光发射器的光的一部分射出。 根据本发明，它提供了经照射的光散射材料的光变压器。

    METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING ALIGNMENT PERFORMANCE IN A FLEET OF EXPOSURE TOOLS
    35.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING ALIGNMENT PERFORMANCE IN A FLEET OF EXPOSURE TOOLS 审中-公开
    在接触工具中优化对准性能的方法和系统

    公开(公告)号：WO2007109103A2

    公开(公告)日：2007-09-27

    申请号：PCT/US2007/006569

    申请日：2007-03-15

    申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION ,  ADEL, Michael, E. ,  ROBINSON, John ,  IZIKSON, Pavel ,  EICHELBERGER, Brad ,  WIDMANN, Amir ,  KATO, Atsuhiko

    发明人： ADEL, Michael, E. ,  ROBINSON, John ,  IZIKSON, Pavel ,  EICHELBERGER, Brad ,  WIDMANN, Amir ,  KATO, Atsuhiko

    IPC分类号： G01J1/00

    CPC分类号： G03F7/70458 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/706 ,  G03F9/7046

    摘要： A method for optimizing alignment performance in a fleet of exposure systems involves characterizing each exposure system in a fleet of exposure systems to generate a set of distinctive distortion profiles associated with each exposure system. The set of distinctive distortion profiles are stored in a database. A wafer having reference pattern formed thereon is provided for further pattern fabrication and an exposure system is selected from the fleet to fabricate a next layer on the wafer. Linear and higher order parameters of the selected exposure system are adjusted using the distinctive distortion profiles to model the distortion of the reference pattern. Once the exposure system is adjusted, it is used to form a lithographic pattern on the wafer.

    摘要翻译： 用于优化曝光系统队列中的对准性能的方法涉及表征曝光系统中的每个曝光系统，以产生与每个曝光系统相关联的一组独特的失真曲线。 一组有特色的失真简档存储在数据库中。 提供具有形成在其上的参考图案的晶片用于进一步的图案制造，并且从车队中选择曝光系统以在晶片上制造下一层。 使用不同的失真曲线来调整所选曝光系统的线性和高阶参数以对参考图案的失真进行建模。 一旦调整曝光系统，就用于在晶片上形成平版印刷图案。

    SPECIFIC DENSITY DETECTOR WITH ELECTRO MECHANICAL ACTUATOR AND IMPROVED MIRROR
    36.
    发明申请
    SPECIFIC DENSITY DETECTOR WITH ELECTRO MECHANICAL ACTUATOR AND IMPROVED MIRROR 审中-公开

    公开(公告)号：WO2006083335A3

    公开(公告)日：2006-08-10

    申请号：PCT/US2005/038889

    申请日：2005-10-31

    申请人： NUCLEAR SOLUTIONS, INC. ,  MUCHNIK, Boris

    发明人： MUCHNIK, Boris

    IPC分类号： G01J1/00

    摘要： An object is placed at a particular distance away from the nonreflecting side of a mirror, such that the gravitational force of the object affects the mirror. A laser is then pointed at the opposite, reflecting side of the mirror, thereby itself reflecting off the mirror and going back in to the cavity of the laser, creating a mode-hopping effect. The mirror will be affected by three forces, the force of a spring (F s ), the force of a modulating signal (F Ms ). created by an electro mechanical device attached to the mirror, and the gravitational force of objects as they approach and recede away from the mirror.