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41.
公开(公告)号:WO2021131538A1
公开(公告)日:2021-07-01
申请号:PCT/JP2020/044733
申请日:2020-12-01
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: C07C65/05 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D493/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/40
摘要: 断面形状が矩形であるレジストパターンを形成しやすく、感度が良好で、且つ酸発生剤の分解を抑制することができる化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物と、当該化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物からなる感光性層を備える感光性ドライフィルム及びその製造方法と、化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物を用いるパターン化されたレジスト膜の製造方法と、鋳型付き基板の製造方法と、めっき造形物の製造方法を提供すること。 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤(A)と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂(B)と、酸拡散抑制剤(C)とを含む化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物であって、酸発生剤(A)が活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生するノニオン系酸発生剤を含み、酸拡散抑制剤(C)が、活性光線又は放射線の照射により分解する特定構造の化合物を含む。
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公开(公告)号:WO2021039654A1
公开(公告)日:2021-03-04
申请号:PCT/JP2020/031693
申请日:2020-08-21
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: C07C63/04 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D211/16 , C07D211/46 , C07D217/08 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C08F12/24 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C69/06
摘要: 本発明により、固形分濃度が10質量%以上である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、樹脂(A)、光酸発生剤(B-1)、光酸発生剤(B-2)、及び酸拡散制御剤(D)を含有し、上記光酸発生剤(B-1)から発生する酸のpKaは0未満であり、上記光酸発生剤(B-2)から発生する酸のpKaは、上記光酸発生剤(B-1)から発生する酸のpKaよりも大きく、上記光酸発生剤(B-2)の含有量は、上記光酸発生剤(B-1)の含有量に対して、0.001質量%以上0.10質量%以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物から形成された感活性光線性又は感放射線性膜、並びに上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法が提供される。
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公开(公告)号:WO2020175495A1
公开(公告)日:2020-09-03
申请号:PCT/JP2020/007539
申请日:2020-02-25
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: C07C25/18 , C07C31/40 , C07C39/27 , C07C53/08 , C07C63/70 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C381/12 , C07C49/167
摘要: 本発明により、M + X - とYHを反応させて、XHとM + Y - を生成させ、その後、生成した上記XHを除去して、上記M + Y - を得る、塩の製造方法であって、 上記M + X - は、M + で表されるカチオンとX - で表されるアニオンの塩であり、 上記M + Y - は、M + で表されるカチオンとY - で表されるアニオンの塩であり、 上記XHは、X - の共役酸であり、 上記YHは、Y - の共役酸であり、 上記M + Y - は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であり、 上記XHのpKaが、上記YHのpKaよりも大きく、 上記XHのClogP値が2より大きい、塩の製造方法が提供される。
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公开(公告)号:WO2018116916A1
公开(公告)日:2018-06-28
申请号:PCT/JP2017/044599
申请日:2017-12-12
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C08F220/26 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12
摘要: (A)活性光線又は放射線の照射によりpKaが-1.40以上の酸を発生する光酸発生剤、及び、(B)酸分解性基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記酸分解性基を有する繰り返し単位のEth感度が5.64以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により、特に、超微細のパターンの形成において、ラフネス性能と露光ラチチュードとフォーカス余裕度とを非常に優れたものとできる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、光酸発生剤、並びに、これらを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。
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公开(公告)号:WO2018003470A1
公开(公告)日:2018-01-04
申请号:PCT/JP2017/021601
申请日:2017-06-12
申请人: サンアプロ株式会社
IPC分类号: C07F5/00 , C07C381/12 , C07D335/16 , C07F7/08 , C08G59/68 , C09K3/00
摘要: 毒性金属を含まず、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート塩以上のカチオン重合性能や架橋反応性能を有するスルホニウム塩、該スルホニウム塩を含有することを特徴とする光酸発生剤、及びこのものを使用した硬化物は特に耐熱試験後に強酸が残存しないため、部材の腐食がなく、樹脂の劣化により透明性が低下する問題がないカチオン重合開始剤(酸発生剤)を利用した、エネルギー線硬化性組成物及び硬化体を提供する。本発明は、下記一般式(1)、(2)及び(3)で示される群から選ばれるスルホニウムカチオンと式(a)で示されるガレートアニオンからなるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を含有することを特徴とする光酸発生剤、及び該酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含有してなる、エネルギー線硬化性組成物及びこれらを硬化してなる硬化体である。
摘要翻译: 具有硼酸根或多种阳离子的聚合性能和交联反应的性能,光产酸剂
不含毒性金属的,四(五氟苯基)锍盐,其特征在于含有锍盐 剂,以及用于使用是特别强后的耐热性试验没有残留的固化产物,没有该部件的腐蚀,存在降低树脂降解的阳离子聚合引发剂(光酸产生剂)这一项的透明性没有问题 能量射线固化性组合物及其固化物。 本发明具有下述通式(1),(2)和(3)由通过从由下式表示,基团(a)中选择的式I的锍阳离子表示没食子酸阴离子的锍盐,它包含锍盐 包含光酸产生剂和产酸剂和阳离子聚合性化合物的能量射线固化性组合物,以及使该能量射线固化性组合物固化而得到的固化物。 p>
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46.
公开(公告)号:WO2017154345A1
公开(公告)日:2017-09-14
申请号:PCT/JP2017/000986
申请日:2017-01-13
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要: 本発明は、LWRの小さいパターンを形成することができ、かつ、形成されたパターンの倒れがより抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(1)で表される光酸発生剤、又は、一般式(1)で表される光酸発生剤から1個の水素原子を取り除いた残基を有する樹脂、を含有する。
摘要翻译:
本发明可形成小的LWR的图案,并且所形成的图案的光化射线崩溃被抑制或辐射敏感树脂组合物,抗蚀剂膜 ,图案形成方法和制造电子装置的方法。 本发明的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物含有由通式(1)表示的光酸产生剂或由通式(1)表示的光酸产生剂从一种氢 具有从中除去原子的残基的树脂。 p>
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47.感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物 审中-公开
标题翻译: 活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物,图案形成方法,制造电子器件的方法,电子器件和化合物公开(公告)号:WO2015045977A1
公开(公告)日:2015-04-02
申请号:PCT/JP2014/074494
申请日:2014-09-17
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07C59/135 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D211/96 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07F7/18 , C07F9/09 , C07F9/59 , C07F9/655 , C07F9/6553 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号: C07F9/6552 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/42 , C07C311/03 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/04 , C07F9/091 , C07F9/12 , C07F9/592 , C07F9/655345 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/085 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要: 本発明は、ネガ型現像に使用する場合にはパターン倒れが抑制され、ポジ型現像に使用する場合にはパターンプロファイルに優れたパターンが形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物を提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、基板上に感活性光線性又は放射線性樹脂組成物膜を形成するために使用される感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、下記(A1)及び(A2)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物(A)、及び (A1)基板密着性基を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 (A2)基板密着性基及び酸基を有する化合物 酸の作用によって分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(P) を少なくとも含有する。
摘要翻译: 本发明提供:当用于负显影时抑制图案塌陷的图案形成的主动感光性或辐射敏感性树脂组合物,当用于阳性显影时获得优异的图案图案; 图案形成方法; 电子设备的制造方法; 电子设备; 和化合物。 该主动感光或辐射敏感性树脂组合物用于在基材上形成活性光敏或辐射敏感性树脂组合物膜,其中组合物至少包含至少一种选自以下的化合物(A): 包含化合物(A1)和化合物(A2)的基团和通过酸的作用分解的树脂(P),树脂相对于显影液的溶解度是可变的。 化合物(A1)具有底物粘附基团,当用活性光或辐射照射时产生酸,化合物(A2)具有底物粘附基团和酸基团。
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48.
公开(公告)号:WO2015025859A1
公开(公告)日:2015-02-26
申请号:PCT/JP2014/071687
申请日:2014-08-19
申请人: JSR株式会社
发明人: 生井 準人
IPC分类号: G03F7/004 , C07C59/21 , C07C69/36 , C07C69/757 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C327/22 , C07C381/12 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D307/77 , C07D309/30 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: C07D307/77 , C07C69/36 , C07C69/757 , C07C205/12 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C327/06 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D309/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要: 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、放射線分解性を有するオニウムカチオンとカウンターアニオンとからなる化合物、及び溶媒を含有し、上記カウンターアニオンが、カルボニル基を2以上有し、上記カルボニル基同士が、単結合、置換若しくは非置換の炭素数1~10のアルカンジイル基、又は置換若しくは非置換の1,2-ベンゼンジイル基を介して結合する感放射線性樹脂組成物である。上記化合物としては、下記式(1-1)で表される化合物が好ましい。式(1-1)中、Aは、炭素数1~30の1価の有機基である。E - は、SO 3 - 又はCOO - である。X + は、1価の放射線分解性オニウムカチオンである。Lは、単結合又は酸素原子である。R 1 は、単結合又は置換若しくは非置換の炭素数1~10のアルカンジイル基である。R 2 は、炭素数1~20の2価の有機基である。kは、1以上3以下の整数である。
摘要翻译: 一种辐射敏感性树脂组合物,其包含具有酸解离基团的结构单元的聚合物,包含放射性鎓阳离子和抗衡阴离子的化合物和溶剂,其中所述反阴离子具有两个或更多个羰基,并且所述羰基 基团通过单键,取代或未取代的具有1-10个碳原子的烷二基或取代或未取代的1,2-苯二基彼此键合。 作为上述化合物,优选式(1-1)表示的化合物。 式(1-1)中,A表示碳原子数为1〜30的1价有机基团, E-表示SO 3 - 或COO-; X +表示一价放射性鎓阳离子; L表示单键或氧原子; R1表示单键或具有1-10个碳原子的取代或未取代的烷二基; R2表示具有1-20个碳原子的二价有机基团; k为1〜3的整数。
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49.感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス 审中-公开
标题翻译: 化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物,使用组合物形成的电阻膜,使用组合物形成图案的方法,用于制造电子器件的方法和电子器件公开(公告)号:WO2014103644A1
公开(公告)日:2014-07-03
申请号:PCT/JP2013/082616
申请日:2013-12-04
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07D217/08 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D333/46 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12
CPC分类号: G03F7/0045 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、トリフェニルスルホニウムノナフレートを基準とした場合の、相対吸光度をε r とし、相対量子効率をφ r とするとき、相対吸光度ε r が0.4~0.8であり、かつ、ε r ×φ r が0.5~1.0である活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(A)を含有する。
摘要翻译: 一种光化学射线敏感或辐射敏感性树脂组合物,其含有在光化射线或辐射照射时产生酸的化合物(A),相对吸光度η为0.4-0.8的化合物(A) 的浓度为0.5-1.0,其中&egr r是相对于三苯基锍非卤化物的吸光度,r为相对量子效率。
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50.CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, RESIST-COATED MASK BLANK, METHOD OF FORMING PHOTOMASK AND PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE 审中-公开
标题翻译: 化学放大电阻组合物,使用其的电阻膜,电阻膜掩模,形成光电子和图案的方法,以及制造电子器件和电子器件的方法公开(公告)号:WO2013176063A1
公开(公告)日:2013-11-28
申请号:PCT/JP2013/063863
申请日:2013-05-10
申请人: FUJIFILM CORPORATION
IPC分类号: G03F7/004 , C07C309/05 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/31 , C07C381/12 , C08F212/14 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0382 , C08F212/14 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F1/56 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0388 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30
摘要: A chemical amplification resist composition according to the present invention includes (A) a compound including a triarylsulfonium cation having one or more fluorine atoms and capable of generating an acid with a volume of 240 Å 3 or higher by irradiation of active rays or radiation; and (B) a compound including a phenolic hydroxyl group.
摘要翻译: 根据本发明的化学增幅抗蚀剂组合物包括(A)包含具有一个或多个氟原子的三芳基锍阳离子并且能够通过活性射线或辐射的照射产生体积为240或更高的酸的化合物; 和(B)包含酚羟基的化合物。
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