公开(公告)号：WO2015183661A1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：PCT/US2015/031753

申请日：2015-05-20

申请人： WD MEDIA, LLC

发明人： BOUREZ, Allen J. ,  CHIONG, Yew Ming

IPC分类号： G11B5/84

CPC分类号： H01J37/32899 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

摘要： Various embodiments provide a substrate carrier configured to rotatably carry at least one substrate through a plurality of processing stations. The substrate carrier includes an integrated heater for heating a first side of the substrate while the second side of the substrate undergoes one or more manufacturing processes at each of the plurality of processing stations, e.g., to promote the desired growth of HAMR media. This can result in the elimination of one or more processing stations, thereby realizing cost savings, decreased substrate processing time, as well as a reduced area within which a substrate processing system can be implemented.

摘要翻译： 各种实施例提供了一种被配置为可旋转地承载至少一个基板通过多个处理站的基板载体。 衬底载体包括用于加热衬底的第一侧的集成加热器，而衬底的第二侧在多个处理站中的每一个处经历一个或多个制造工艺，例如以促进HAMR介质的期望生长。 这可以导致一个或多个处理站的消除，从而实现成本节约，减少的基板处理时间，以及可以实现基板处理系统的减小的面积。

公开(公告)号：WO2015154493A1

公开(公告)日：2015-10-15

申请号：PCT/CN2014/093104

申请日：2014-12-05

申请人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

发明人： 张鹏

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/68792 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

摘要： 一种半导体加工设备，包括反应腔室（201）和设置在反应腔室底部的抽气腔室（207），在反应腔室的底部设置有排气口（202），且对应地在抽气腔室的顶部设置有进气口（207c），进气口与排气口连接；在抽气腔室的侧壁上设置有出气口（207b），用以排出抽气腔室内的气体。在抽气腔室内，且位于出气口的下方设置有呈漏斗状的锥状环（207a），锥状环的下端口小于上端口；锥状环用于将抽气腔室分隔为上腔室和下腔室，上腔室和下腔室通过锥状环的环孔相连通。半导体加工设备可以减少气流中携带的部分副产物颗粒的积存，而且可以抑制积存的副产物颗粒被气流扬起，从而避免副产物颗粒返回反应腔室。

公开(公告)号：WO2015138094A1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：PCT/US2015/016199

申请日：2015-02-17

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： BALASUBRAMANIAN, Ganesh ,  ROCHA-ALVAREZ, Juan Carlos ,  SANKARAKRISHNAN, Ramprakash ,  KIM, Robert ,  DU BOIS, Dale, R. ,  FLOYD, Kirby Hane ,  BANSAL, Amit Kumar ,  NGUYEN, Tuan Anh

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02274 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/505 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32743 ,  H01J2237/3321 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68792

摘要： A method and apparatus for processing a substrate are provided. The apparatus includes a pedestal and rotation member, both of which are moveably disposed within a processing chamber. The rotation member is adapted to rotate a substrate disposed in the chamber. The substrate may be supported by an edge ring during processing. The edge ring may selectively engage either the pedestal or the rotation member. In one embodiment, the edge ring engages the pedestal during a deposition process and the edge ring engages the rotation member during rotation of the substrate. The rotation of the substrate during processing may be discrete or continuous.

摘要翻译： 提供了一种用于处理衬底的方法和设备。 该装置包括基座和旋转构件，两者都可移动地设置在处理室内。 旋转构件适于旋转设置在腔室中的衬底。 衬底可以在加工过程中被边缘环支撑。 边缘环可以选择性地接合基座或旋转构件。 在一个实施例中，边缘环在沉积工艺期间接合基座，并且边缘环在基底旋转期间接合旋转构件。 处理过程中衬底的旋转可以是离散的或连续的。

公开(公告)号：WO2015087925A1

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：PCT/JP2014/082723

申请日：2014-12-10

申请人： 日本精工株式会社

发明人： 中村　剛 ,  金　秀樹 ,  樋口　英也

IPC分类号： F16J15/32 ,  F16C19/04 ,  F16C33/78 ,  F16C35/063 ,  F16C35/07 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/68792 ,  F16C19/54 ,  F16C33/7886 ,  F16C35/06 ,  H01L21/67126

摘要： 　密封性を高めるシール機構、シール機構の駆動装置、搬送装置及び製造装置を提供すること。シール機構は、圧力又は気体の異なる２つの空間を隔てるシール機構であって、ハウジングと、ハウジングに挿入されるシャフトと、シャフトの一部又はシャフトに固定された回転部の径方向外側表面に接して、隙間を密封する複数の環状シール部材と、を含む。複数の環状シール部材は、それぞれ異なる材質の材料を含み、シャフトの中心軸と平行な軸方向の異なる位置に配置される。

摘要翻译： 提供具有高密封性能的密封机构，用于密封机构的驱动装置，输送装置和制造装置。 密封机构分离具有不同压力或气体的两个空间，并且包括：壳体; 插入壳体中的轴; 以及多个环形密封构件，其与所述轴的一部分或固定到所述轴的旋转部的径向外表面接触，从而密封间隙。 多个环状密封构件中的每一个包括不同物质的材料，并且被布置在平行于轴的中心轴线的轴向方向上的不同位置。

公开(公告)号：WO2015047722A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/US2014/054767

申请日：2014-09-09

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： KOBAYASHI, Satoru ,  FLOYD, Kirby H. ,  HANAWA, Hiroji ,  PARK, Soonam ,  LUBOMIRSKY, Dmitry ,  KENNEY, Jason A.

IPC分类号： H01L21/683

CPC分类号： H01J37/32697 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J2237/332 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/68792 ,  H02K7/14

摘要： A substrate support assembly includes a shaft assembly, a pedestal coupled to a portion of the shaft assembly, and a first rotary connector coupled to the shaft assembly, wherein the first rotary connector comprises a first coil member surrounding a rotatable shaft member that is electrically coupled to the shaft assembly, the first coil member being rotatable with the rotatable shaft, and a second coil member surrounding the first coil member, the second coil member being stationary relative to the first coil member, wherein the first coil member electrically couples with the second coil member when the rotating radio frequency applicator is energized and provides a radio frequency signal/power to the pedestal through the shaft assembly.

摘要翻译： 基板支撑组件包括轴组件，联接到轴组件的一部分的基座和联接到轴组件的第一旋转连接器，其中第一旋转连接器包括围绕可旋转轴构件的第一线圈构件，该第一线圈构件电耦合 所述第一线圈构件能够与所述可旋转轴一起旋转，所述第一线圈构件围绕所述第一线圈构件，所述第二线圈构件相对于所述第一线圈构件是固定的，其中所述第一线圈构件与所述第二线圈构件电耦合， 线圈构件，并且通过轴组件向基座提供射频信号/功率。

公开(公告)号：WO2015038361A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：PCT/US2014/053508

申请日：2014-08-29

申请人： TEL FSI, INC.

发明人： GOLUCH, Mark ,  ZIMMERMAN, David C. ,  LARSON, Robert E. ,  HANZLIK, Edward Deneen ,  THOMES, Gregory Paul ,  RATHMAN, Christina Ann

IPC分类号： C23C14/50

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B3/022 ,  B08B3/024 ,  B08B3/04 ,  B08B5/02 ,  B08B15/023 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68792

摘要： An apparatus for treating the surface of a microelectronic workpiece via impingement of the surface with at least one fluid and a method for operating the apparatus are described. In particular, the apparatus includes a treatment chamber defining an interior space to treat the microelectronic workpiece with at least one fluid within the treatment chamber, and a movable chuck that supports the workpiece within the treatment chamber. The apparatus further includes a workpiece translational drive system configured to translate the movable chuck between a workpiece load position and at least one processing position at which the workpiece is treated with the at least one fluid using at least one nozzle connected to at least one fluid supply, and a workpiece rotational drive system configured to rotate the microelectronic workpiece.

摘要翻译： 描述了通过至少一种流体冲击表面来处理微电子工件的表面的装置和用于操作该装置的方法。 特别地，该设备包括处理室，其限定内部空间以利用处理室内的至少一个流体处理微电子工件;以及可移动卡盘，其在处理室内支撑工件。 该装置还包括工件平移驱动系统，该工件平移驱动系统构造成使用至少一个连接至少一个流体供应器的喷嘴将可动夹头在工件装载位置与至少一个处理位置之间平移， 以及构造成旋转微电子工件的工件旋转驱动系统。

公开(公告)号：WO2014144502A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：PCT/US2014/028937

申请日：2014-03-14

申请人： COMPONENT RE-ENGINEERING COMPANY , INC. ,  ELLIOT, Brent D. ,  BALMA, Frank ,  ELLIOT, Alfred Grant ,  VEYTSER, Alexander ,  REX, Dennis G. ,  SCHUSTER, Richard E.

发明人： ELLIOT, Brent D. ,  BALMA, Frank ,  ELLIOT, Alfred Grant ,  VEYTSER, Alexander ,  REX, Dennis G. ,  SCHUSTER, Richard E.

IPC分类号： H01L21/145 ,  H01L21/22

CPC分类号： H01L21/02002 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68792 ,  H05B3/283 ,  H05B2203/002 ,  H05B2203/037

摘要： A wafer chuck including a shaft having an axis and a plate joined to an end of the shaft. The plate can have a portion extending radially outwardly from the axis beyond the shaft. A temperature sensor can be disposed in the portion of the plate and an electrical lead can extend from the temperature sensor through the shaft for measuring the temperature of the plate in the vicinity of the temperature sensor during a semiconductor manufacturing process.

摘要翻译： 一种晶片卡盘，其包括具有连接到所述轴的端部的轴线和板的轴。 板可以具有从轴线径向向外延伸超过轴的部分。 温度传感器可以设置在板的部分中，并且电引线可以从温度传感器延伸穿过轴，用于在半导体制造过程中测量温度传感器附近的板的温度。

公开(公告)号：WO2014143505A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：PCT/US2014/017047

申请日：2014-02-19

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： SAMIR, Mehmet Tugrul ,  LAU, Shu-Kwan

IPC分类号： H01L21/683

CPC分类号： H01L21/68792 ,  B05C11/08 ,  H01L21/68742

摘要： Embodiments of the invention generally relate to susceptor support shafts and process chambers containing the same. A susceptor support shaft supports a susceptor thereon, which in turn, supports a substrate during processing. The susceptor support shaft reduces variations in temperature measurement of the susceptor and/or substrate by providing a consistent path for a pyrometer focal beam directed towards the susceptor and/or substrate, even when the susceptor support shaft is rotated. The susceptor support shafts also have a relatively low thermal mass which increases the ramp up and ramp down rates of a process chamber.

摘要翻译： 本发明的实施例通常涉及承载支撑轴和包含该基座的处理室。 基座支撑轴支撑在其上的基座，其在加工期间又支撑基板。 基座支撑轴通过为指向基座和/或基板的高温计焦距梁提供一致的路径来减小基座和/或基板的温度测量的变化，即使基座支撑轴旋转。 基座支撑轴还具有相对低的热质量，这增加了处理室的斜坡上升和下降速率。

公开(公告)号：WO2014087761A1

公开(公告)日：2014-06-12

申请号：PCT/JP2013/079253

申请日：2013-10-29

申请人： リソテックジャパン株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社パルサ

发明人： 扇子　義久 ,  原　史朗 ,  クンプアン　ソマワン ,  武内　翔 ,  土井　幹夫 ,  荒崎　成雄 ,  杉山　幸弘 ,  服部　晃一

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC分类号： H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

摘要： 【課題】小型の処理基板であっても回転テーブルとの間に洗浄液が浸入し難く、且つ、洗浄後に処理基板の裏面を確実に乾燥させることができる基板処理機構及びこれを用いた小型製造装置を提供する。 【解決手段】洗浄液ノズルに、回転軸の載置面を囲むように、環状のノズル口を形成する。そして、洗浄液の液面をノズル口から隆起させて、半導体ウェハの裏側露出面に接触させ、この洗浄液の表面張力によって裏側露出面に略環状に付着させる。付着した洗浄液は、半導体ウェハの回転によって遠心力を与えられて外側に移動して、この半導体ウェハの外周縁に付着したフォトレジスト液を洗い流す。その後、回転軸を上昇させて、裏側露出面に付着した洗浄液をノズル口から引き離し、半導体ウェハの回転によって洗浄液を飛散させる。これにより、半導体ウェハの裏側露出面を簡単に乾燥させることができる。

摘要翻译： [问题]提供一种基板处理机构，由此清洗液难以进入旋转台和甚至小基板之间，并且在清洁之后可以可靠地干燥所述基板的底表面。 此外，提供使用所述基板处理机构的小型制造装置。 [解决方案]环形喷嘴开口形成在清洁溶液喷嘴中，以围绕旋转轴的放置表面。 清洗溶液的表面被制成从喷嘴开口凸起，与半导体晶片的底部暴露表面接触，并且由于所述清洁溶液的表面张力而以基本环形的形状粘附到所述底部暴露表面 。 附着的清洗液由于半导体晶片的旋转而受到离心力的作用，向外移动，从而洗去附着在半导体晶片外缘的光致抗蚀剂溶液。 然后使旋转轴升高，使得附着在底部暴露表面上的清洁溶液与喷嘴开口分离，并且半导体晶片的旋转导致清洁溶液飞散。 以这种方式，可以容易地干燥半导体晶片的底部暴露表面。

公开(公告)号：WO2013191415A1

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：PCT/KR2013/005263

申请日：2013-06-14

申请人： 주식회사 유진테크

发明人： 양일광 ,  송병규 ,  김경훈 ,  김용기 ,  신양식

IPC分类号： H01L21/205 ,  H05H1/30

CPC分类号： H01J37/3211 ,  C23C16/455 ,  C23C16/505 ,  H01J37/321 ,  H01L21/68792 ,  H05H2001/463

摘要： 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 상부가 개방되며, 일측에 기판이 출입하는 통로가 형성되는 챔버; 상기 챔버의 상부를 폐쇄하여 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하며, 천정벽을 관통하도록 형성된 가스공급홀을 가지는 챔버덮개; 상기 챔버덮개의 상부 중앙에 설치되어 상기 내부공간의 중앙부에 전계를 형성하며, 상기 내부공간에 공급된 소스가스로부터 플라즈마를 생성하는 상부안테나; 상기 챔버덮개의 측부를 감싸도록 설치되어 상기 내부공간의 가장자리부에 전계를 형성하며, 상기 내부공간에 공급된 소스가스로부터 플라즈마를 생성하는 측부안테나; 그리고 상기 가스공급홀과 연결되어 상기 내부공간에 상기 소스가스를 공급하는 가스공급관을 포함하며, 상기 가스공급홀은 상기 상부안테나의 외측에 배치된다.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的基板处理装置包括：一个室，其上部是开放的，并具有一个通道，形成在其一侧，基板通过该通道移入和移出; 封闭室的上部的室盖，以提供进行基板的处理的内部空间，并且具有形成为穿透顶壁的气体供给孔; 安装在室盖的顶部中心处并在内部空间的中心产生电场的顶部天线，同时从提供给内部空间的源气体产生等离子体; 侧面天线，其安装成覆盖室盖的侧部并且在内部空间的周围产生电场，同时从设置到内部空间的源气体产生等离子体; 以及气体供给管，其与所述气体供给孔连接并将所述源气体供给到所述内部空间，所述气体供给孔设置在所述顶部天线的外部。