公开(公告)号：WO2018135792A1

公开(公告)日：2018-07-26

申请号：PCT/KR2018/000419

申请日：2018-01-09

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： CHO, Saeng Hyun ,  AHN, Sung Il

IPC分类号： H01L51/56 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/203 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/67712 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/67715 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

摘要： According to the present disclosure, there may be provided a substrate processing system including a transfer chamber transferring a pair of carriers including at least one of a substrate carrier and a mask carrier perpendicular to a ground, and at least a pair of process chambers forming a processing space for substrate processing and coupled to the transfer chamber. The transfer chamber provided in the substrate processing system includes: a rail portion in which a pair of rails are formed in parallel along a transfer direction of the carrier so that the pair of carriers carried into the transfer chamber moves; a rail rotating portion rotating the rail portion to carry the pair of carriers into the process chamber or to carry the pair of carriers out of the process chamber; and a rail interval adjusting portion adjusting an interval between the pair of rails. As a result, it is possible to improve productivity in substrate processing, and to reduce a space and costs required for configuring the system.

公开(公告)号：WO2016152721A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/JP2016/058508

申请日：2016-03-17

申请人： 株式会社日立国際電気

发明人： 小前　泰彰 ,  野上　孝志 ,  谷山　智志 ,  小竹　繁

IPC分类号： H01L21/677 ,  B25J18/02 ,  B65G49/07

CPC分类号： H01L21/677 ,  B25J9/104 ,  B25J18/02 ,  B65G49/07 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

摘要： 基板保持具に保持された基板を処理する処理室と、基板を基板保持具に移載する移載機と、を有する基板処理装置であって、移載機は、基台と、基台の上に設置され、基台の筐体外に設置された第１機構部に接続される第１移動部と、第１移動部の上に設置され、第１移動部の筐体内に設置された第２機構部に接続される第２移動部と、を備え、鉛直方向において、第１機構部の設置位置と第２機構部の設置位置とが少なくとも一部重なるように構成される。

摘要翻译： 基板处理装置包括用于处理由基板保持器保持的基板的处理室和用于将基板转印到基板保持器的转印机，其中转印机设置有基底; 第一移动单元，安装在基座上并连接到安装在基座的壳体外部的第一机构单元; 以及第二移动单元，其安装在所述第一移动单元的上方并且连接到安装在所述第一移动单元的壳体中的第二机构单元，所述转移机构被构造成使得所述第一机构单元的安装位置和所述安装位置 所述第二机构单元在垂直方向上至少部分地彼此重叠。

公开(公告)号：WO2015174981A1

公开(公告)日：2015-11-19

申请号：PCT/US2014/038130

申请日：2014-05-15

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： JEE, Byung Wook

IPC分类号： B08B1/02 ,  B08B5/02 ,  C23C16/44 ,  H01L21/67 ,  B65G45/24

CPC分类号： B08B1/02 ,  B08B5/023 ,  B08B15/04 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4401 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712

摘要： A particle removal device (200) for a vacuum processing system for processing a substrate supported on a carrier (40) is described. The particle removal device (200) includes a base body (210) having a recess, wherein the recess is configured such that a portion of the carrier (40) can be moved through the recess, and a brush (210) provided in the recess and being configured to be in contact with the portion of the carrier (40) when moved through the recess.

摘要翻译： 描述了用于处理支撑在载体（40）上的基板的真空处理系统的颗粒去除装置（200）。 颗粒去除装置（200）包括具有凹部的基体（210），其中凹部构造成使得载体（40）的一部分能够移动通过凹部，并且设置在凹部中的刷（210） 并且被构造成当移动通过所述凹部时与所述托架（40）的所述部分接触。

公开(公告)号：WO2013132882A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：PCT/JP2013/050411

申请日：2013-01-11

申请人： 日本電気硝子株式会社

发明人： 田川　広行 ,  塚田　将夫 ,  佐伯　彰久 ,  三成　泰紀

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/06

CPC分类号： B65G17/323 ,  B65G49/066 ,  C03B35/20 ,  C03B35/205 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/68707

摘要： 縦姿勢のガラス基板（Ｇ）における上縁部（Ｕ）を把持してガラス基板（Ｇ）を吊り下げ支持する複数の把持手段（１０）、（１１）を備え、把持手段（１０）、（１１）により吊り下げ支持されたガラス基板（Ｇ）を上縁部（Ｕ）に沿う搬送方向Ｔに搬送するガラス基板の搬送装置（１）であって、複数の把持手段（１０）、（１１）の内、少なくとも一の把持手段を、水平面上で位置及び／または姿勢が可変とされた可動把持手段（１０）とした。

摘要翻译： 一种玻璃基板输送装置（1），其具有多个用于抓握垂直取向的玻璃基板（G）的上边缘部分（U）以便以悬挂方式支撑玻璃基板（G）的把持装置（10） （10），（11）以由悬挂方式支撑的玻璃基板（G）输送与上边缘部分（U）对准的输送方向（T）的输送装置（1），其中， 多个把持装置（10），（11）中的至少一个把持装置是可移动的抓握装置（10），水平面中的位置和/或取向可被改变。

公开(公告)号：WO2013122779A1

公开(公告)日：2013-08-22

申请号：PCT/US2013/024754

申请日：2013-02-05

申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.

发明人： FORDERHASE, Paul ,  BLAKE, Julian ,  WEAVER, William

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67046 ,  H01L21/67333 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67781

摘要： Techniques for handling media arrays are disclosed. The techniques may be realized as a system for handling a plurality of substrates. The system may comprise a plurality of row elements for supporting the plurality of substrates, wherein the plurality of row elements may be operable to change configuration of the substrates from open configuration to a high-density configuration, where a distance between adjacent substrates in the open configuration may be greater than a distance between the adjacent substrates in the high-density configuration.

摘要翻译： 公开了处理介质阵列的技术。 这些技术可以被实现为用于处理多个基板的系统。 所述系统可以包括用于支撑多个基板的多个行元件，其中所述多个行元件可操作以将所述基板的构型从开放构型改变为高密度配置，其中所述开放 配置可以大于高密度配置中的相邻基板之间的距离。

公开(公告)号：WO2013030982A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/JP2011/069776

申请日：2011-08-31

申请人： 三洋電機株式会社 ,  東方田 悟司 ,  平 茂治 ,  西脇 毅

发明人： 東方田　悟司 ,  平　茂治 ,  西脇　毅

IPC分类号： H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67326 ,  F26B5/00 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67712

摘要： 　乾燥用ホルダー（１０）は、太陽電池（７０）を立てた状態で保持するホルダーであって、電極乾燥過程で使用される。乾燥用ホルダー（１０）は、太陽電池（７０）が載置される基部（１１）と、基部（１１）上に設けられ、太陽電池（７０）を収容可能な支持スロット（１３）を形成する支持部（１２）とを備え、基部（１１）及び支持部（１２）の少なくとも一方に通気孔が形成されている。

摘要翻译： 干燥架（10）将太阳能电池单体保持为直立状态的太阳能电池（70），并用于电极干燥工序。 干燥架（10）设置有设置有太阳能电池（70）的基部（11）和设置在基部（11）上的支撑部（12），形成支撑槽（ 13），其能够容纳太阳能电池（70）。 通气口形成在基部（11）和/或支撑部（12）上。

公开(公告)号：WO2012067332A1

公开(公告)日：2012-05-24

申请号：PCT/KR2011/005148

申请日：2011-07-13

申请人： 엠파워(주) ,  최현철 ,  김영균 ,  정인순 ,  윤종국 ,  문동진

发明人： 최현철 ,  김영균 ,  정인순 ,  윤종국 ,  문동진

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  C25D17/06

CPC分类号： H01L21/67712 ,  C25D17/04 ,  C25D17/08

摘要： 본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로서, 기판을 수직한 상태로 고정시켜 이송하는 기판 이송 장치에 있어서, 상기 기판 이송 장치는 서로 평행하게 일정 간격 이격되도록 배치되는 한쌍의 지지 브라켓, 상기 한쌍의 지지 브라켓 중 어느 하나에 그 길이 방향을 따라 배치되고, 축 방향을 따라 다수개의 구동 기어가 일정 간격으로 배치되는 구동축, 상기 한쌍의 지지 브라켓 사이에서 상기 구동축에 대해 직교되도록 배치되며, 그 일측에는 상기 구동 기어와 맞물리는 종동 기어가 구비된 다수개의 종동축, 상기 종동축 상에 고정되고, 상기 종동축에 연동하여 회전되는 적어도 하나의 지지 롤러 및 상기 지지 롤러에 안착되어 이송되는 지그를 포함하며, 상기 지그의 표면에는 코팅재가 도포되어 코팅되고, 상기 코팅재는 테프론 또는 레이던트 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.

摘要翻译： 本发明涉及一种基板输送装置。 当衬底垂直固定时，被配置为传送衬底的衬底传送装置包括：平行布置并彼此隔开预定距离的一对支撑托架; 驱动轴，多个驱动齿轮沿着驱动轴的轴向以预定距离设置在所述驱动轴上，所述驱动轴从所述一对支撑托架沿一个支架的长度方向设置; 在所述一对支撑托架之间垂直于所述驱动轴布置的多个从动轴分别与所述驱动齿轮啮合的从动齿轮设置在所述多个从动轴的一侧; 固定到所述从动轴的至少一个支撑辊，其中所述至少一个支撑辊可旋转地与所述从动轴互锁; 以及坐在支撑辊上并由支撑辊传送的夹具。 夹具的表面涂覆有涂层材料。 涂层材料包括Teflon或Raydent。

公开(公告)号：WO2011137371A3

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/US2011034619

申请日：2011-04-29

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  KURITA SHINICHI ,  KUDELA JOZEF ,  ANWAR SUHAIL ,  WHITE JOHN M ,  YIM DONG-KIL ,  WOLF HANS ,  ZVALO DENNIS ,  INAGAWA MAKOTO ,  MORI IKUO

发明人： KURITA SHINICHI ,  KUDELA JOZEF ,  ANWAR SUHAIL ,  WHITE JOHN M ,  YIM DONG-KIL ,  WOLF HANS ,  ZVALO DENNIS ,  INAGAWA MAKOTO ,  MORI IKUO

IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67712 ,  C23C16/4587 ,  C23C16/46 ,  C23C16/463 ,  C23C16/511 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32889 ,  H01J37/32899 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67201

摘要： The present invention generally relates to a vertical CVD system having a processing chamber that is capable of processing multiple substrates. The multiple substrates are disposed on opposite sides of the processing source within the processing chamber, yet the processing environments are not isolated from each other. The processing source is a horizontally centered vertical plasma generator that permits multiple substrates to be processed simultaneously on either side of the plasma generator, yet independent of each other. The system is arranged as a twin system whereby two identical processing lines, each with their own processing chamber, are arranged adjacent to each other. Multiple robots are used to load and unload the substrates from the processing system. Each robot can access both processing lines within the system.

摘要翻译： 本发明一般涉及具有能够处理多个基板的处理室的垂直CVD系统。 多个基板设置在处理室内的处理源的相对侧上，但处理环境彼此不隔离。 处理源是水平居中的垂直等离子体发生器，其允许在等离子体发生器的任一侧上同时处理多个基板，但彼此独立。 该系统被布置为双系统，由此两个相同的处理线各自具有它们自己的处理室，彼此相邻布置。 多个机器人用于从处理系统装载和卸载基板。 每个机器人可以访问系统内的两条处理线。

公开(公告)号：WO2011152587A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：PCT/KR2010/004314

申请日：2010-07-02

申请人： 김영태 ,  장영배

发明人： 김영태 ,  장영배

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B65G51/03 ,  G02F1/13

CPC分类号： B65G51/03 ,  B65G49/063 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67784

摘要： 본 발명은 저면이 이송대상물의 상면과 평행으로 설치되는 비접촉 플레이트와; 상기 비접촉 플레이트 내부에 배열설치되는 것으로서 토출되는 유체에 의해 이송대상물 쪽으로 인력과 척력을 동시에 발생하여 이송대상물의 비접촉 이송시 이송대상물이 어느 한쪽으로 기울어 지지않고 비접촉 플레이트와 평행을 이룬 상태로 이송될 수 있도록 하는 인력발생부 및 척력발생부와; 상기 비접촉 플레이트 내부에 설치되는 것으로서 인력발생부의 인력발생과 척력발생부의 척력발생에 지장을 주지않도록 인력발생부와 척력발생부가 배열설치되는 배열과 배열 사이에 위치하도록 설치하여 토출하는 유체에 의해 비접촉식으로 이송대상물을 이송하는 이송수단을; 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.

摘要翻译： 本发明包括：平板安装在物体的顶表面上以在其底表面传送的非接触板; 吸引力产生部分和排斥力产生部分，其设置在非接触板中，用于同时产生吸引力并产生朝向物体的排斥力以通过排出的流体传递，使得当转移物体而不接触时，传递物体 可以没有倾斜地传送到任何一侧，而是在与非接触板平行的状态下传送; 以及安装在非接触板中的传送装置，以定位在吸引力产生部分和排斥力产生部分的布置之间，以便防止产生吸引力产生部分的吸引力和排斥力的干扰 排斥力产生部分的力，其中转移装置转移物体而不与排出的流体接触。

公开(公告)号：WO2010087435A1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：PCT/JP2010/051228

申请日：2010-01-29

申请人： シャープ株式会社 ,  田辺 真

发明人： 田辺　真

IPC分类号： H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC分类号： B08B3/022 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776

摘要： 　薬液処理された基板に純水などの洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室から排出される濃厚排液を減少させると共に、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる基板処理装置を提供すること。　直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送される基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室（１０３）と下流側の精密洗浄室（１０４）とに区切られ、粗洗浄室と精密洗浄室のそれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、粗洗浄室には、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋（１１２）が、精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、仕切板を越えて精密洗浄室内に臨むように設けられている。

摘要翻译： 公开了一种设置有清洗室的基板处理装置，其中将诸如纯净水的清洗液供给已用化学溶液处理的基板。 在该装置中，减少了从清洗室排出的浓缩排水，提高了从清洗室回收的稀释排水的使用效率。 基板处理装置设置有清洁室，其中通过从直立状态向后表面侧倾斜预定角度，通过清洗液喷射装置将清洗液供给到基板的表面上。 在该设备中，清洁室通过直立在底壁上的分隔板而分隔成上游的大致清洁室（103）和下游的精确清洁室（104）。 排水口分别设置在大致清洁室和精确清洁室的底壁上，大致清洁室设置有回收槽（112），该回收槽接收从清洗液喷射装置喷射的清洗液 并且没有在基板的表面上延伸，使得流槽朝向精确清洁室向下倾斜，并且设置排出在回收槽中流动的清洁液体的回收槽排出口以面对精确清洗的内部 在隔板上。