走査アンテナおよびその製造方法
    61.
    发明申请
    走査アンテナおよびその製造方法 审中-公开
    扫描天线及其制造方法

    公开(公告)号:WO2017065255A1

    公开(公告)日:2017-04-20

    申请号:PCT/JP2016/080482

    申请日:2016-10-14

    Abstract: 走査アンテナ(1000)は、アンテナ単位(U)が配列された走査アンテナであって、第1誘電体基板(1)と、TFTと、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、パッチ電極(15)とを有するTFT基板と、第2誘電体基板(51)と、第2誘電体基板の第1主面上に形成されたスロット電極(55)とを有するスロット基板(201)と、TFT基板とスロット基板との間に設けられた液晶層(LC)と、第2誘電体基板(51)の第1主面と反対側の第2主面に誘電体層(54)を介して対向するように配置された反射導電板(65)とを有する。TFT基板(TFT基板部分(101Cb))は、シール部(73)の外側に端子領域(TR)を有し、ゲートバスラインまたはソースバスラインと、端子領域に形成されたゲート端子部またはソース端子部との接続は、シール部(73)とTFT基板との間に設けられた透明導電層(14b)を介して行われている。

    Abstract translation: 扫描天线(1000)是扫描天线,其中排列有天线单元(U),并且包括第一电介质基板(1),TFT,栅极总线,源极总线 一种槽衬底,具有一个具有一条线和一个贴片电极(15)的TFT衬底,一个第二介质衬底(51)以及一个形成在第二介质衬底的第一主表面上的槽电极(55) 设置在TFT基板和槽基板之间的液晶层(LC);形成在与第二电介质基板(51)的第一主表面相对的第二主表面上的电介质层(LC层) 以及反射导电板(65),通过反射板(54)的中介而相对配置。 TFT基板(TFT基板部(101Cb))在密封部(73)的外侧具有端子区域(TR),栅极总线或源极总线与栅极端子部或源极端子 通过设置在密封部(73)与TFT基板之间的透明导电层(14b)进行。

    디스플레이 백플레인 및 이의 제조 방법
    65.
    发明申请
    디스플레이 백플레인 및 이의 제조 방법 审中-公开
    显示背板及其制造方法

    公开(公告)号:WO2015130082A1

    公开(公告)日:2015-09-03

    申请号:PCT/KR2015/001836

    申请日:2015-02-25

    Abstract: 유기 전계 발광 표시 장치가 제공된다. 유기 발광 표시 장치는 복합형 박막 트랜지스터 및 유기 발광 소자를 포함한다. 복합형 박막 트랜지스터는 LTPS 박막 트랜지스터 및 LTPS 박막 트랜지스터 상에 배치된 산화물 반도체 박막 트랜지스터를 갖는다. 유기 발광 소자는 복합형 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다. LTPS 박막 트랜지스터와 산화물 반도체 박막 트랜지스터는 동일한 게이트 라인과 연결된다.

    Abstract translation: 提供了一种有机电致发光显示装置。 有机电致发光显示装置包括复合薄膜晶体管和有机发光元件。 复合薄膜晶体管包括布置在LTPS薄膜晶体管上的LTPS薄膜晶体管和氧化物半导体薄膜晶体管。 有机发光元件与复合薄膜晶体管电连接。 LTPS薄膜晶体管和氧化物半导体薄膜晶体管与相同的栅极线连接。

    薄膜半導体装置及びその製造方法
    69.
    发明申请
    薄膜半導体装置及びその製造方法 审中-公开
    薄膜半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:WO2013061553A1

    公开(公告)日:2013-05-02

    申请号:PCT/JP2012/006699

    申请日:2012-10-19

    Abstract:  本発明に係る薄膜半導体装置(100)の製造方法は、基板(1)を準備する工程と、基板(1)の上方にゲート電極(2)を形成する工程と、基板(1)の上方にゲート絶縁膜(3)を形成する工程と、基板(1)の上方に非晶質膜(非晶質シリコン膜(4a))を形成する工程と、非晶質膜を結晶化して、一つの結晶内に異なる結晶方位により形成された複数の副結晶を内包し、前記複数の副結晶の間に複数の結晶面によって形成された副粒界を有する第1結晶(41C)と、平均粒径が前記第1結晶の平均結晶粒径よりも小さい第2結晶(42C)を有する結晶性膜(結晶性シリコン膜(4C))を形成する工程と、結晶性膜の膜厚を薄くする工程と、基板(1)の上方に、ソース電極(7S)及びドレイン電極(7D)を形成する工程と、を含む。

    Abstract translation: 制造薄膜半导体器件(100)的方法包括:准备衬底(1)的步骤; 在基板(1)的上方形成有栅电极(2)的工序; 在基板(1)的上方形成有栅极绝缘膜(3)的工序; 在基板(1)的上方形成非晶质膜(非晶硅膜(4a))的工序。 使非晶膜结晶化的步骤,在单晶内封入形成有不同结晶取向的多个亚晶粒,以及具有亚晶的第一晶体(41C)的结晶膜(结晶硅膜(4C)) 形成由多个亚晶粒之间的多个晶面形成的边界和平均晶粒尺寸小于第一晶体的平均晶粒尺寸的第二晶体(42C); 结晶膜的厚度变薄的步骤; 以及在基板(1)的上方形成源电极(7S)和漏电极(7D)的工序。

    薄膜トランジスタ及びその製造方法
    70.
    发明申请
    薄膜トランジスタ及びその製造方法 审中-公开
    薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:WO2013018126A1

    公开(公告)日:2013-02-07

    申请号:PCT/JP2011/004353

    申请日:2011-07-29

    Abstract:  本発明の薄膜トランジスタは、優れたオン特性と優れたオフ特性とを両立させることができる薄膜トランジスタを提供することを目的とするものであって、基板(100)と、ゲート電極(110)と、ゲート絶縁層(120)と、ゲート絶縁層(120)上であってゲート電極(110)の上方に形成された結晶性シリコン層(131)と、ゲート絶縁層(120)上であって結晶性シリコン層(131)の両側に形成された非結晶性シリコン層(130)と、ソース電極(171)およびドレイン電極(172)とを備え、結晶性シリコン層(131)および非結晶性シリコン層(130)は、非結晶性シリコン層にレーザー光を照射して形成される。

    Abstract translation: 该薄膜晶体管的目的是提供一种薄膜晶体管,其可以建立优异的ON特性和优异的OFF特性。 薄膜晶体管设置有:基板(100); 栅电极(110); 栅极绝缘层(120); 形成在所述栅极绝缘层(120)上并在所述栅电极(110)上方的晶体硅层(131); 形成在所述栅极绝缘层(120)上并且在所述晶体硅层(131)的两侧上的非晶硅层(130); 和源电极(171)和漏电极(172)。 通过用激光照射非晶硅层来形成晶体硅层(131)和非晶硅层(130)。

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