Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren (100) zum Herstellen einer Ätzmaske, wobei das Verfahren (100) einen Schritt (105) des Bereitstellens eines Substrates umfasst, sowie einen Schritt (110) des Aufbringens einer Metallschicht, wobei die Metallschicht wenigstens ein Übergangsmetall und/oder Aluminium umfasst oder aus einem solchen ausgebildet ist, einen Schritt (115) des Auftragens einer Maskierungsschicht, einen Schritt (120) des Strukturierens der Maskierungsschicht, wobei an wenigstens einem Prozessierungsbereich die Metallschicht freigelegt wird, einen Schritt (125) des Beschichtens des Substrats mit einer Tetrelschicht, die zumindest teilweise ein Tetrel aufweist, wobei sich an dem Prozessierungsbereich an einer Grenzfläche zwischen der Metallschicht und der Tetreischicht eine Interdiffusionszone zwischen dem Übergangsmetall oder Aluminium und dem Tetrel ausbildet, einem Schritt (130) des Abtragens der Maskierungsschicht und einen Schritt (135) des selektiven Ätzens der Metallschicht, wobei an wenigstens einem Ätzbereich, welcher von dem Prozessierungsbereich verschieden ist, das Substrat freigelegt wird und an dem Prozessierungsbereich die Metallschicht wenigstens teilweise erhalten bleibt.
Abstract:
Eine Kalottenvorrichtung (102) zum Ausrichten eines Oberelements (104) gegenüber einem Unterelement (106) weist einen Verbindungsabschnitt (110) zum Verbinden der Kalottenvorrichtung (102) mit einem Hubarm (108) einer Positioniervorrichtung (100) auf. Ein äußeres Kalottenelement (112) ist mit dem Verbindungsabschnitt (110) verbunden und weist eine konkave Kontaktfläche auf. Ein mittleres Kalottenelement weist eine konvexe Außenfläche und eine konkave Innenfläche auf. Das mittlere Kalottenelement ist beweglich zu dem äußeren Kalottenelement (112) angeordnet. Ein beweglich mit dem Verbindungsabschnitt (110) verbundenes Stempelelement ist zum Andrücken des mittleren Kalottenelements an das äußere Kalottenelement (112) vorgesehen. Ein mit dem mittleren Kalottenelement verbundenes Aufnahmeelement (114) dient zum Aufnehmen des Oberelements (104). Ein Magnetelement (116) ist an dem äußeren Kalottenelement (112) angeordnet und ausgebildet, um eine Magnetkraft zum Fixieren des mittleren Kalottenelements gegenüber dem äußeren Kalottenelement (112) bereitzustellen.
Abstract:
Vorrichtung und Verfahren zum Erfassen einer optischen Eigenschaft eines Werkstücks Der hier vorgestellte Ansatz betrifft Vorrichtung (100) zum Erfassen einer optischen Eigenschaft eines Werkstücks (105). Die Vorrichtung (100) weist eine eingangsseitig fokussierende Spiegeleinrichtung (110) auf, die ausgeformt ist, um Licht (120) von einer Lichtquelle (125) zu einem Aufnahmebereich (130) zum Aufnehmen des Werkstückes (105) zu leiten. Ferner weist die Vorrichtung (100) eine ausgangsseitig fokussierende Spiegeleinrichtung (115) auf, die ausgeformt ist, um das Licht (120) von dem Aufnahmebereich (130) zu einer Erfassungseinrichtung (135) zu leiten.
Abstract:
Kontaktierungsmodul und Verfahren zur Montage eines Kontaktierungsmoduls, mit einem Optikmodul (1), enthaltend einen Optikblock (1.1) aus Glas, der in einer optischen Schnittstellenebene (Eopt) eine Anordnung von optischen Schnittstellen (Sopt) aufweist und einem Elektronikmodul (2), der in einer elektrischen Schnittstellenebene (Eele) eine Anordnung von elektrischen Schnittstellen(Sele) aufweist, wobei das Optikmodul (1) und das Elektronikmodul (2) so zueinander angeordnet sind, dass die Anordnung von optischen Schnittstellen(Sopt) und die Anordnung von elektrischen Schnittstellen (Sele) eine definierte Justierlage zueinander aufweisen. Das Optikmodul (1) enthält eine Montageplatte (1.2) die über eine wiederholt lösbare, reproduzierbare Verbindung mit dem Elektronikmodul (2) in Verbindung steht.
Abstract:
Die Erfindung beinhaltet ein Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung, insbesondere die Verbindung eines Halbleiterchips mit einer Wärmesenke. Eine erste metallische Schicht aus Pb, Cd, In oder Sn wird so dünn ausgeführt, dass sie mittels einer gegenüberliegenden zweiten Metallschicht aus einem anderen Metall, beispielsweise Gold, in einer Schicht aus intermetallischen Phasen gebunden wird. Dadurch kann eine Migration der Weichmetalle verhindert werden. Das Aufreißen der spröden intermetallischen Schicht wird durch eine permanente Andruckkraft verhindert.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bearbeitung eines eine erste Schicht (118) und eine zweite Schicht (120) aufweisenden Verbundmaterials (102) mittels eines Laserstrahls (108), wobei bei einem Auftreffen des Laserstrahls (108) auf einen Bearbeitungsbereich des Verbundmaterials (102) Material des Verbundmaterials (102) entfernt wird. Das Verfahren umfasst einen Schritt des Ermittelns einer Änderung, insbesondere einer Frequenzänderung und/oder einer Intensitätsänderung, unter Verwendung eines Sensorsignals (128), das eine aus dem Bearbeitungsbereich ausgesandte Detektionsstrahlung (122) repräsentiert, einem Beleuchten des Bearbeitungsbereichs mit einer sich von dem Laserstrahl unterscheidenden Beleuchtungsstrahlung zur Identifizierung des definierten Spektrums der Schicht oder einer Grenzfläche,einen Schritt des Vergleichens der Änderung mit einer vorgegebenen Änderung, die bei einem Übergang des Bearbeitungsbereichs aus der ersten Schicht (118) in eine weitere Schicht (120) erwartet wird, und einen Schritt des Ausgebens zumindest eines Steuersignals (134, 138, 140) zum Steuern der Bearbeitung abhängig von einem Ergebnis des Vergleichens der Änderung mit der vorgegebenen Änderung.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Linsenfassung mit einem monolithischen Fassungskörper (1), der in einen Außenring (3), einen Innenring (4) und den Innenring (4) und den Außenring (3) miteinander monolithisch verbindende elastische Verbindungsstrukturen unterteilt ist. Die Verbindungsstrukturen sind wenigstens teilweise im Außenring (3) integriert angeordnet. Der Außenring (3) und die Verbindungsstrukturen sind beidseitig wenigstens teilweise durch zwei Abdeckringe (6) abgedeckt. Um eine Klemmung der Verbindungsstrukturen durch die Abdeckringe (6) zu vermeiden, weisen entweder die Verbindungsstrukturen eine gegenüber der Dicke (d) des Fassungskörpers (1) reduzierte Dicke (d r ) auf oder die zwei Abdeckringe (6) weisen jeweils eine Ausnehmung auf, durch die die Verbindungsstrukturen freigestellt sind.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer hydrophoben und/ oder lyophoben Beschichtung eines Substrats (1) mit den folgenden Merkmalen: Bereitstellen eines Substrats (1); Abscheiden einer Funktionsschicht (2) auf dem Substrat, wobei eine Oberfläche der Funktionsschicht eine erste mittlere Rauheit aufweist; Abscheiden einer haftvermittelnden Schicht (3) auf der Funktionsschicht, wobei eine Oberfläche der haftvermittelnden Schicht (3) eine zweite mittlere Rauheit aufweist, die größer als die erste mittlere Rauheit ist; und Abscheiden einer hydrophoben und/oder lyophoben Schicht (4) auf die haftvermittelnde Schicht (3).
Abstract:
Thermisch kompensierte optische Baugruppe bestehend aus einer monolithischen Fassung, die durch Schlitze in einen Fassungsring (1.1) und wenigstens drei elastische Verbindungen (2.1) unterteilt ist, die mit einem optischen Element (3.1) verbunden sind, wobei die elastischen Verbindungen (2.1) die thermischen Dehnungsunterschiede zwischen dem Fassungsring (1.1) und dem optischen Element (3.1) durch Verformung kompensieren. Die durch die Verformung hervorgerufenen temperaturabhängigen Reaktionskräfte (FR) werden kompensiert. Dazu sind Kompensationselemente (5.1) in einer Anzahl gleich der Anzahl von Verbindungen (2.1) vorhanden, die jeweils aus einem Dehnungskörper (8.1) und einem Federelement (11.1) bestehen.
Abstract:
Justierbare Fassungsbaugruppe (7) bestehend aus zwei zueinander justierbaren Fassungsteilen (1, 2), die selbst justierbare Fassungen darstellen, jeweils bestehend aus einem äußeren Fassungsrahmen (1.1, 2.1) und einem inneren Fassungsrahmen (1.2, 2.2). Die Fassungsbaugruppe (7) erlaubt eine hochgenaue Justierung zweier optischer Bauteile (1.5, 2.5) in einer Ebene senkrecht zu einer Achse (5) zueinander sowie eine Justierung der beiden zueinander justierten optischen Bauteile (1.5, 2.5) zu einer Bezugsbasis.