公开(公告)号：WO2003099428A1

公开(公告)日：2003-12-04

申请号：PCT/JP2003/006592

申请日：2003-05-27

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  明間 博 ,  山腰 強

Inventor： 明間 博 ,  山腰 強

IPC: B01J19/00

CPC classification number: B01J19/0093 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00822 ,  B01J2219/00831 ,  B01J2219/00833 ,  B01J2219/0086 ,  B01J2219/00862 ,  B01J2219/00873 ,  B01J2219/00889 ,  B01J2219/00891 ,  B01J2219/0095 ,  B01L3/502738 ,  B01L2300/0861 ,  B01L2300/087 ,  B01L2300/0874 ,  B01L2400/0633 ,  B01L2400/0666 ,  B33Y80/00 ,  Y10T137/2191 ,  Y10T137/2213

Abstract: A device for a fluid processor has a micro passage network (preferably with fluid staying parts at the intersections of passages) formed on a plate base, wherein the network is composed of first micro passages and second micro passages intersecting each other. The valve of each passage is closed by a valve control mechanism to perform a processing in the passage that is set up. In a fluid route setting device, a passage portion open/close mechanism, which operates each valve control mechanism in the device described above, is driven by a flow route set-up command sent to a computer. In the fluid processor, a fluid stimulation providing mechanism may be installed in a micro passage in the device. When the fluid is liquid, a temporary flow route, set up according to the target processing time, is corrected by the flow time of the processed fluid for setting up a flow route for fluid processing.

Abstract translation: 用于流体处理器的装置具有形成在板底座上的微通道网络（优选地在通道的交叉点处具有流体滞留部分），其中网络由彼此相交的第一微通道和第二微通道组成。 每个通道的阀门由阀门控制机构关闭，以在设置的通道中进行处理。 在流体路径设定装置中，通过发送到计算机的流路建立命令驱动在上述装置中操作各阀控制机构的通路部开闭机构。 在流体处理器中，流体刺激提供机构可以安装在装置中的微通道中。 当流体是液体时，根据目标处理时间建立的临时流动路径通过用于设置用于流体处理的流动路径的处理流体的流动时间被校正。

公开(公告)号：WO2003095579A1

公开(公告)日：2003-11-20

申请号：PCT/JP2003/005899

申请日：2003-05-12

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  横山 泰明 ,  別所 信夫 ,  花村 政暁

Inventor： 横山 泰明 ,  別所 信夫 ,  花村 政暁

IPC: C09J11/00

CPC classification number: B24B37/042 ,  B24B37/30 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T428/1059

Abstract: 2つの固体を相互に且つ一時的に堅固に固定する方法である。その方法は、2つの固体を、液晶化合物またはそれを含む組成物により、相互に且つ一時的に固定する一時的固定法である。この方法は、例えば1つの固体を半導体デバイス用ウエハの化学機械研磨用パッドとし、もう1つの固体をそれを固定するための定盤としたとき、半導体デバイス用ウエハをその上に固定して研磨するための、化学機械研磨用パッドの一時的固定法として用いられる。

Abstract translation: 一种用于牢固地固定两种固体的方法。 该方法是通过液晶化合物或含有它们的组合物相互临时固定两种固体的临时固定方法。 该方法是用于化学机械抛光垫的临时固定方法，其中当例如使用固体作为半导体器件晶片的化学机械抛光垫时，使用另一种固体作为其上固定的表面板，半导体 将器件晶片固定在其上并进行抛光。

公开(公告)号：WO2003084741A1

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/JP2003/004220

申请日：2003-04-02

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  有限会社エイチエスプランニング ,  松村 喜雄 ,  篠原 弘信

Inventor： 松村 喜雄 ,  篠原 弘信

IPC: B32B7/02

CPC classification number: B32B27/00 ,  G02B1/111

Abstract: 透明性、帯電防止性に優れ、反射率が低く、反射防止膜に有用な積層フィルムを得る。　透明樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に（Ａ）透明樹脂フィルムの屈折率よりも高い屈折率を有する光学的に透明な化合物からなる層を設け、さらにその上に（Ｂ）透明性および導電性を有する化合物からなる層を設けた積層フィルム。

Abstract translation: 一种层压膜，其包含透明树脂膜，并且在其至少一个表面上设置（A）包含折射率高于透明树脂膜的折射率并且是光学透明的化合物的层，并且设置在 该层，（B）包含具有透明性和导电性的化合物的层。 层压膜的透明性和抗静电性优异，反射率低，因此可用作抗反射涂膜。

公开(公告)号：WO2003029299A1

公开(公告)日：2003-04-10

申请号：PCT/JP2002/009831

申请日：2002-09-25

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  突廻 恵介 ,  小林 直一 ,  豊島 司 ,  但木 稔弘 ,  谷口 孝太

Inventor： 突廻 恵介 ,  小林 直一 ,  豊島 司 ,  但木 稔弘 ,  谷口 孝太

IPC: C08C19/25

CPC classification number: C08F297/04 ,  B60C1/00 ,  B60C1/0016 ,  B60C1/0025 ,  C08C19/25 ,  C08C19/44 ,  C08K3/013 ,  C08K5/01 ,  C08L15/00 ,  C08L53/02 ,  Y10S152/905 ,  C08L2666/02

Abstract: A conjugated diolefin (co)polymer rubber formed from either a conjugated diolefin or a conjugated diolefin and an aromatic vinyl compound and having a primary amino group and alkoxysilyl group bonded to the (co)polymer chain. It has satisfactory processability and can give an automotive tire tread having a balance among wearing resistance, failure characteristics, low hysteresis loss, and wet skid characteristics.

Abstract translation: 由共轭二烯烃或共轭二烯烃和芳族乙烯基化合物形成并具有键合到（共）聚合物链的伯氨基和烷氧基甲硅烷基的共轭二烯烃（共）聚合物橡胶。 它具有令人满意的加工性，并且可以赋予汽车轮胎胎面在耐磨性，故障特性，低滞后损失和湿滑特性之间的平衡。

公开(公告)号：WO2003025055A1

公开(公告)日：2003-03-27

申请号：PCT/JP2002/006522

申请日：2002-06-27

Applicant: ジェイエスアール株式会社

Inventor： ,  ,  ,  , 

IPC: C08L23/00

CPC classification number: C08L23/16 ,  C08L9/00 ,  C08L23/02 ,  C08L23/0869 ,  C08L23/10 ,  C08L23/14 ,  C08L23/142 ,  C08L33/04 ,  C08L33/12 ,  C08L53/025 ,  C08L83/04 ,  C08L91/00 ,  C08L2205/02 ,  C08L2205/035 ,  C08L2207/04 ,  C08L2207/14 ,  C08L2312/00 ,  C08L2666/04 ,  C08L2666/02

Abstract: A thermoplastic elastomer composition which is obtained by dynamically crosslinking a polymer composition comprising a rubber, an olefin resin, etc. and in which the rubber particles have an average particle diameter in a specific range. Due to this constitution, the composition has an excellent balance between mechanical properties, such as flexibility and elastic recovery, and moldability. When the composition contains a methacrylate resin and a hydrogenated diene polymer, it especially has excellent scratch resistance. When the composition contains a maleimide compound, it especially has excellent injection fusibility. When the composition contains an unmodified organopolysiloxane having a specific viscosity and a modified organopolysiloxane, it is excellent especially in initial sliding properties and long-term sliding properties.

Abstract translation: 一种热塑性弹性体组合物，其通过动态交联包含橡胶，烯烃树脂等的聚合物组合物，其中所述橡胶颗粒的平均粒径在特定范围内而获得。 由于这种结构，组合物在诸如柔软性和弹性恢复性的机械性能和成型性方面具有优异的平衡。 当组合物含有甲基丙烯酸酯树脂和氢化二烯聚合物时，其具有优异的抗划伤性。 当组合物含有马来酰亚胺化合物时，其具有优异的注射熔融性。 当组合物含有未改性的具有比粘度的有机聚硅氧烷和改性的有机聚硅氧烷时，特别是在初始滑动性能和长期滑动性能方面是优异的。

公开(公告)号：WO2003012547A1

公开(公告)日：2003-02-13

申请号：PCT/JP2002/007561

申请日：2002-07-25

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  西村 功 ,  別所 信夫 ,  熊野 厚司 ,  山田 憲司

Inventor： 西村 功 ,  別所 信夫 ,  熊野 厚司 ,  山田 憲司

IPC: G03F7/004

CPC classification number: H05K1/162 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02186 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/312 ,  H05K1/0286 ,  H05K2201/0116 ,  H05K2201/0187 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/1163 ,  Y10S430/106

Abstract: A composition having a permitivity being radiation−sensitively changeable, which comprises (A) a decomposable compound, (B) a non−decomposable compound, (C) a radiation− sensitive decomposer and (D) a stabilizer. The composition allows the achievement of the change of the permitivity of a material, which is satisfactorily great and stable, in an easy and simple manner, and thus can provide a permitivity pattern and an optical material having a satisfactory distribution of permitivity being stable independently of the condition for its use.

Abstract translation: 一种具有辐射敏感变化的介电常数的组合物，其包含（A）可分解化合物，（B）不可分解化合物，（C）辐射敏感分解剂和（D）稳定剂。 该组成允许以简单和简单的方式实现令人满意地大而稳定的材料的介电常数的变化，从而可以提供具有令人满意的容纳率分布稳定的容性图形和光学材料， 其使用条件。

公开(公告)号：WO2003010603A1

公开(公告)日：2003-02-06

申请号：PCT/JP2002/007343

申请日：2002-07-19

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  玉木 研太郎 ,  宇高 友広 ,  西川 昭

Inventor： 玉木 研太郎 ,  宇高 友広 ,  西川 昭

IPC: G03F7/075

CPC classification number: G02B6/13 ,  G02B6/122 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/1347 ,  G02B6/138 ,  G02B2006/12097 ,  G02B2006/121 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757

Abstract: A positive type radiosensitive composition comprising the following components (A) to (C): (A) at least one compound selected from the group consisting of a hydrolyzable silane compound represented by the general formula (1): (R 1 ) p Si(X) 4−p (1) wherein R 1 represents a non−hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms, X represents a hydrolyzable group, and p represents an integer of 0 to 3, a hydrolyzate thereof and a condensed product therefrom; (B) an agent generating an acid by the irradiation with a light; and (C) a basic compound. The use of the above composition allows the production of a cured product excellent in the precision of a pattern and the like, and the above composition can be used as a material for forming an optical wave guide.

Abstract translation: 一种阳离子型放射敏感性组合物，其包含以下成分（A）〜（C）：（A）至少一种选自由通式（1）表示的可水解硅烷化合物的化合物：（R 1） （1）其中R 1表示具有1至12个不可水解的有机基团，其中R 1表示不可水解的有机基团，其具有1至12个 碳原子，X表示可水解基团，p表示0〜3的整数，其水解产物和缩合产物; （B）通过用光照射产生酸的试剂; 和（C）碱性化合物。 通过使用上述组合物，可以制造图案等的精度优异的固化物，并且可以将上述组合物用作形成光波导的材料。

公开(公告)号：WO2004003105A1

公开(公告)日：2004-01-08

申请号：PCT/JP2003/008109

申请日：2003-06-26

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  榊原 満彦 ,  安田 博幸 ,  江利山 祐一

Inventor： 榊原 満彦 ,  安田 博幸 ,  江利山 祐一

IPC: C09K11/06

CPC classification number: H01L51/004 ,  C07B2200/11 ,  C07F15/004 ,  C07F15/0046 ,  C08F30/04 ,  C08F230/04 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1029 ,  C09K2211/1048 ,  C09K2211/14 ,  C09K2211/185 ,  H01L51/0042 ,  H01L51/007 ,  H01L51/0085 ,  H01L51/5012 ,  H05B33/14

Abstract: Disclosed are phosphors which can easily form thin film by a wet process and give organic electroluminescent devices permitting high-brightness light output, and a process for the production thereof; luminescent compositions containing the phosphors; and organic electroluminescent devices equipped with light-emitting layers containing the phosphors, and processes for the production thereof. The phosphor consists of a polymer containing in the molecule structural units represented by the general formula (1) wherein M is a di- to tetra-valent metal atom; R and R are each hydrogen, halogeno, alkyl, cycloalkyl, aryl, or a heterocyclic group and may be the same or different from each other; X is phenylene or carbonyloxy; X is alkylene; L is an organic ligand; p is an integer of 1 to 3; and q is 0 or 1.

Abstract translation: 公开了可以通过湿法容易地形成薄膜并且产生允许高亮度光输出的有机电致发光器件的荧光体及其制造方法; 含荧光体的发光组合物; 以及配备有含荧光体的发光层的有机电致发光元件及其制造方法。 荧光体由分子中含有由通式（1）表示的结构单元的聚合物组成，其中M为二价至四价金属原子; R 1和R 2各自为氢，卤代，烷基，环烷基，芳基或杂环基，并且可以彼此相同或不同; X 1是亚苯基或羰基氧基; X 2是亚烷基; L是有机配体; p为1〜3的整数， q为0或1。

公开(公告)号：WO2003072681A1

公开(公告)日：2003-09-04

申请号：PCT/JP2003/002207

申请日：2003-02-27

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  江利山 祐一 ,  安田 博幸 ,  榊原 満彦

Inventor： 江利山 祐一 ,  安田 博幸 ,  榊原 満彦

IPC: C09K11/06

CPC classification number: H05B33/14 ,  C07F15/004 ,  C08F8/42 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1014 ,  C09K2211/1029 ,  C09K2211/14 ,  C09K2211/1466 ,  C09K2211/185 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0042 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/005 ,  H01L51/0078 ,  H01L51/0084 ,  H01L51/0085 ,  H01L51/0086 ,  H01L51/5016

Abstract: Phosphors characterized by containing in the molecule structural units represented by the general formula (1) and having a molecular weight of 1,000 to 500,000; a process for the production thereof; phosphorescent compositions containing the phosphors; and articles made by using the same: (1) wherein M is a di- to tetra-valent metal atom; R1 is hydrogen or a monovalent group selected from among halogeno, alkyl, and aryl; R2 is hydrogen or methyl; Y is a single bond or a carbonyl-containing divalent organic group; L is an organic ligand; m is an integer of 1 to 3; and p is an integer of 1 to 4.

Abstract translation: 特征在于在分子中含有由通式（1）表示的结构单元，分子量为1,000〜500,000的荧光体; 一种生产过程; 含磷光体的磷光组合物; 和使用它们的制品：（1）其中M是二价至四价的金属原子; R1是氢或选自卤代，烷基和芳基的一价基团; R2是氢或甲基; Y是单键或含羰基的二价有机基团; L是有机配体; m为1〜3的整数。 p为1〜4的整数。

公开(公告)号：WO2003065124A1

公开(公告)日：2003-08-07

申请号：PCT/JP2002/011936

申请日：2002-11-15

Applicant: ジェイエスアール株式会社 ,  太田 克 ,  伊藤 淳史 ,  望月 勇 ,  猪俣 克巳 ,  岩永 伸一郎

Inventor： 太田 克 ,  伊藤 淳史 ,  望月 勇 ,  猪俣 克巳 ,  岩永 伸一郎

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0236 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/095 ,  G03F7/40

Abstract: A method of forming a film by vapor deposition and/or sputtering by the lift−off technique; and a two−layer resist film with which a burr−free film layer can be easily formed on a substrate surface. The method of forming a pattern uses this two−layer resist film. The method of pattern formation is characterized by including the step of forming, on a substrate (1), a two−layer film which comprises: a resist film (2) formed from a positive radiation−sensitive resin composition comprising (A) a radical polymer having a hydroxy and/or carboxy group, (B) a compound having a quinonediazide group, and (C) a solvent; and a resist film (3) formed from a positive radiation−sensitive resin composition comprising (D) a polymer having a phenolic hydroxy group, (E) a compound having a quinonediazide group, and (F) a solvent.

Abstract translation: 通过剥离技术通过气相沉积和/或溅射形成膜的方法; 以及可以在基板表面上容易地形成无毛刺膜层的双层抗蚀剂膜。 形成图案的方法使用该双层抗蚀剂膜。 图案形成方法的特征在于包括在基板（1）上形成双层膜的步骤，该双层膜包括：由正性辐射敏感性树脂组合物形成的抗蚀剂膜（2），其包含（A）基团 具有羟基和/或羧基的聚合物，（B）具有醌二叠氮基的化合物和（C）溶剂; 和由（D）具有酚羟基的聚合物，（E）具有醌二叠氮基的化合物和（F）溶剂）的正性辐射敏感性树脂组合物形成的抗蚀剂膜（3）。