公开(公告)号：WO2015043957A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/EP2014/069302

申请日：2014-09-10

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： BECKER, Klaus ,  THOMAS, Stephan

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/008

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat für einen EUV-Spiegel, das einen von der statistischen Verteilung abweichenden Verlauf der Nulldurchgangstemperatur aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Substrates für einen EUV-Spiegel und dessen Verwendung, wobei der Verlauf der Nulldurchgangstemperatur im Substrat der Betriebstemperatur des Spiegels angepasst ist sowie ein Lithographieverfahren unter Verwendung eines solchen Substrates.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板的EUV反射镜，其具有从过零温度具有当然的统计分布的偏差。 此外，本发明涉及一种用于EUV反射镜的制造衬底的方法，它的使用，其中，所述过零温度的过程中的反射镜的操作温度的基板，以及使用这样的衬底上的光刻工艺被调节。

公开(公告)号：WO2013037877A1

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：PCT/EP2012/067927

申请日：2012-09-13

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  BECKER, Klaus ,  HOFMANN, Achim ,  HÜNERMANN, Michael ,  SCHENK, Christian

Inventor： BECKER, Klaus ,  HOFMANN, Achim ,  HÜNERMANN, Michael ,  SCHENK, Christian

IPC: F24J2/07 ,  F24J2/50 ,  C03B20/00 ,  C30B15/10

CPC classification number: F24S10/40 ,  C03B19/09 ,  C03B19/095 ,  C03B29/02 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/08 ,  F24S20/20 ,  F24S80/52 ,  F24S2080/503 ,  Y02E10/41

Abstract: Übliche Solarstrahlungsempfänger sind mit einer Kammer zwecks Durchleitung eines Arbeitsgases ausgestattet, das zur Wärmeaufnahme an einem Absorber für Solarstrahlung entlang geleitet wird. Der Absorber ist mit einem kuppelförmigen Eintrittsfenster aus Quarzglas versehen, bei dem die dem Absorber zugewandte Innenseite beim bestimmungsgemäßen Einsatz eine nominale Innentemperatur Ti von mindestens 950 °C, vorzugsweise mindestens 1000 °C, annimmt, wohingegen die dem Absorber abgewandte Außenseite der Umgebung ausgesetzt ist und der Gefahr einer Entglasung unterliegt. In der Erfindung geht es darum, den bekannten Solarstrahlungsempfänger so zu modifizieren, dass eine hohe Absorbertemperatur einstellbar ist und damit eine hohe Effizienz der solarthermischen Aufheizung ermöglicht wird, und zwar ohne eine Vergrößerung der Gefahr einer Entglasung im Bereich der Außenseite des Eintrittsfensters.

Abstract translation: 常规的太阳能辐射接收器配备有用于工作气体，其被沿着传导到太阳辐射的吸收器的热吸收的通路的腔室。 吸收体的区域的外侧设置有由石英玻璃构成的圆顶状入射窗，其中，所述预期使用期间面对内部的吸收体的一侧，至少950℃的标称内部温度T℃，优选至少1000℃，接受，而远离吸收体被暴露并且 受反玻璃化的风险。 在本发明中，它涉及到修改已知的太阳辐射接收器，使得高吸收温度是可调节的，因而太阳能热加热的高效率是可能的，而不入射窗外侧增加的区域的失透的风险。

公开(公告)号：WO2015071167A1

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：PCT/EP2014/073921

申请日：2014-11-06

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OCHS, Stefan ,  BECKER, Klaus

IPC: C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/066 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1095 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G03F1/24

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titandotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas mit einem vorgegebenen Fluorgehalt für den Einsatz in der EUV-Lithographie, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient über die Einsatztemperatur möglichst stabil bei Null liegt. Der Verlauf des thermischen Ausdehnungskoeffizienten von Ti-dotiertem Kieselglas hängt von mehreren Einflussfaktoren ab. Neben dem absoluten Titan-Gehalt ist die Verteilung des Titans von großer Bedeutung, wie auch der Anteil und die Verteilung von weiteren Dotierelementen, wie etwa Fluor. Erfindungsgemäß wird ein Verfahren vorgeschlagen, das einen Syntheseprozess umfasst, bei dem fluordotierte TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel erzeugt und durch Konsolidieren und Verglasen zu dem Rohling weiterverarbeitet werden, dadurch gekennzeichnet, dass der Syntheseprozess einen Verfahrensschritt umfasst, bei dem mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel gebildet werden und einen nachfolgenden Verfahrensschritt, in dem die TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikel in einem bewegten Pulverbett einem Fluor enthaltenden Reagenz ausgesetzt und zu den fluordotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootpartikeln umgesetzt werden.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备由钛掺杂，高二氧化硅玻璃坯料与预定氟含量在EUV光刻，其中，在所述工作温度的热膨胀系数尽可能为零作为稳定的用途。 的Ti掺杂的石英玻璃的热膨胀系数的过程取决于几个因素。 除了绝对钛含量，钛的分布是非常重要的，以及其它的掺杂元素，如氟的比例和分布。 根据提出了一种方法的本发明，其包括合成过程中氟掺杂TiO2-SiO2的烟尘颗粒产生并进一步通过整合和坯料的玻璃化处理，其特征在于，所述合成方法包括的处理步骤，其中含有硅和钛的火焰水解装置 开始形成TiO2-SiO2的烟灰颗粒材料和随后的方法步骤中，在包含在氟试剂暴露于并与氟掺杂的TiO 2的SiO 2系Sootpartikeln反应的粉末的移动床的TiO2-SiO2的烟灰颗粒。

公开(公告)号：WO2015003966A1

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：PCT/EP2014/064036

申请日：2014-07-02

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： BECKER, Klaus

IPC: G01N21/958 ,  B24B13/00 ,  G01N21/896

CPC classification number: B24B49/12 ,  B24B7/241 ,  B24B13/0018 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/958 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8967 ,  G01N2201/06113

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Spiegelsubstrat- Rohlings aus Titan-dotiertem Kieselglas für die EUV-Lithographie mit einer Dicke von mindestens 40 Millimetern mit den folgenden Verfahrensschritten vorgeschlagen: • a) Planschleifen der Oberfläche des Rohlings • b) Ermittlung von Daten zu Defekten in einer Oberflächenschicht des Rohlings, wobei bl) Licht an einer Stelle der planen Oberfläche des Rohlings in einem vorbestimmten Einstrahlwinkel a kleiner 90° in den Rohling eindringt, b2) das Licht an einem Defekt im Rohling gestreut und b3) das Streulicht in einem Abstand x zur Eindringstelle an der Oberfläche des Rohlings von einem senkrecht darüber angeordneten Lichterfassungselement detektiert wird; • c) Bestimmung der Position des Defektes in der Oberflächenschicht anhand der beim Verfahrensschritt b) erhaltenen Daten • d) Teilweise oder vollständiges Entfernen der Oberflächenschicht unter Berücksichtigung der Positionsbestimmung gemäß Verfahrensschritt c) und unter Ausbildung des Spiegelsubstrat-Rohlings.

Abstract translation: 它提出了一种用于产生从掺杂钛的石英玻璃一Spiegelsubstrat-空白的EUV光刻用厚度至少为40毫米，其包括以下步骤的方法：获取数据缺陷•一个）的空白•B的表面的研磨） 该铸锭，其中BL）的光在所述坯件的平的表面的一个位置处进入的小于90°入射一个在空白的预定角度的表面层，b2）的光在一个距离x，以散射由于在空白中的缺陷和b3）中的散射光 入侵在坯料的从垂直排列的光感测元件上的表面检测到的; •c）确定从在步骤b）获得的数据•d中的表面层中的缺陷的位置）所考虑的位置确定的部分或完全去除所述表面层的按照工艺步骤c）和以形成所述镜基板坯料。

公开(公告)号：WO2015022152A1

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：PCT/EP2014/065686

申请日：2014-07-22

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： OCHS, Stefan ,  BECKER, Klaus ,  THOMAS, Stephan

IPC: C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2204/00 ,  G03F1/52 ,  G03F1/60

Abstract: Die in Ti-dotiertem Kieselglas vorhandenen Ti 3+ Ionen führen zu einer Braunfärbung des Glases, wodurch eine Inspektion des Glases erschwert wird. Es ist bekannt die Reduzierung von Ti 3+ Ionen zugunsten von Ti 4+ Ionen in Ti-dotiertem Kieselglas entweder durch einen ausreichen hohen Anteil an OH-Gruppen sicherzustellen, wodurch eine interne Oxidation mit Ausdiffusion von Wasserstoff erfolgt, oder bei niedrigem OH-Gruppenanteil eine Sauerstoffbehandlung vor dem Verglasen durchzuführen, die eine hohe Behandlungstemperatur und spezielle korrosionsbeständige Öfen erfordert und dementsprechend kostspielig ist. Um ein kostengünstiges Herstellungsverfahren für Ti-dotiertes Kieselglas anzugeben, das bei einem Hydroxylgruppengehalt von weniger als 120 ppm eine interne Transmission (Probendicke 10 mm) von mindestens 70% im Wellenlängenbereich von 400 nm bis 1000 nm zeigt, wird ausgehend vom flammenhydrolytischen Sootabscheideverfahren erfindungsgemäß vorgeschlagen, den TiO 2 -SiO 2 -Sootkörper vor dem Verglasen einer Konditionierungsbehandlung zu unterziehen, die eine Behandlung mit einem Stickoxid umfasst. Der so hergestellte Rohling aus Ti-dotiertem Kieselglas zeichnet sich dadurch aus, dass das Verhältnis Ti 3+ /Ti 4+ ≤ 5 x 10 -4 beträgt.

Abstract translation: 现有的以Ti掺杂的二氧化硅玻璃的Ti 3+离子导致玻璃，由此，玻璃的检查变得困难的褐色着色。 已知的是有利于的Ti4 +离子的Ti掺杂的二氧化硅玻璃的减小的Ti 3+离子的或者通过OH基团的足够高的比例，以确保从而与氢气的外扩散进行内部氧化，或具有低OH基团含量，氧处理的玻璃化之前 执行，这需要一个高温处理和特殊的抗腐蚀炉和因此是昂贵的。 对于钛掺杂的二氧化硅玻璃的低成本制造方法表明，（10毫米的样本厚度）示出了具有在波长范围为400nm至1000nm的小于120ppm的至少70％的羟基含量的内部传输，准备了根据本发明起始提出通过火焰水解Sootabscheideverfahren， 使该TiO 2 -SiO 2烟炱体前玻璃化的调节处理，其包括具有氮氧化物的处理。 从而由Ti掺杂的石英玻璃产生的坯件，其特征在于所述比率的Ti 3+ / Ti 4+的≤5×10 -4重量。

公开(公告)号：WO2014122111A2

公开(公告)日：2014-08-14

申请号：PCT/EP2014/052106

申请日：2014-02-04

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： THOMAS, Stephan ,  BECKER, Klaus ,  OCHS, Stefan

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B25/02 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

Abstract: Um einen Rohling aus TiO 2 -SiO 2 -Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie bereitzustellen, bei dem der Anpassungsbedarf zur Optimierung des Verlaufs des thermischen Ausdehnungskoeffizient und damit auch des Verlaufs der Nulldurchgangstemperatur T zc gering ist, weist das TiO 2 -SiO 2 -Glas bei einem Mittelwert der fiktiven Temperatur T f im Bereich zwischen 920 °C und 970 °C eine Abhängigkeit seiner Nulldurchgangstemperatur T zc von der fiktiven Temperatur T f auf, die, ausgedrückt als Differentialquotient dT zc /dT f kleiner als 0,3 ist.

Abstract translation: 为了提供用于镜基板制成的TiO 2 -SiO 2玻璃的在EUV光刻中使用的空白，其中需要进行调整，以优化的热膨胀系数的过程中和过零点温度因而也过程TZC小，TiO2-SiO2的 与假想温度Tf的在920℃，970℃，其过零点温度假想温度Tf，它表示为一个微商dTzc / DTF的TZC的函数之间的范围内的平均值为小于0.3的玻璃。