摘要:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas unter Verwendung einer speziellen Reinigungsvorrichtung, eine Vorrichtung zur Herstellung von synthetischem Quarzglas, umfassend eine spezielle Reinigungsvorrichtung, die Verwendung einer Schüttung aus porösen Silica-Partikeln zur Reinigung eines Einsatzmaterialdampfes zur Herstellung von synthetischem Quarzglas sowie das synthetische Quarzglas, welches nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhalten wird.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels mit einer Innenschicht aus transparentem, blasenarmem und reinem Quarzglas mit langer Standzeit anzugeben. Diese Aufgabe gemäß der Erfindung durch ein Verfahren gelöst, das folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Bereitstellen eines eine Innenseite aufweisenden Tiegelbasiskörpers aus Quarzglas, (b) Erzeugen einer porösen SiO 2 -Sootschicht auf mindestens einer Teilfläche der Innenseite des Tiegelbasiskörpers durch Gasphasenabscheidung, Trocknen der porösen SiO 2 -Sootschicht zur Reduzierung des Hydroxylgruppengehalts und Sintern der Sootschicht zu der Innenschicht aus transparentem Quarzglas in einer wasserstoffarmen Atmosphäre, so dass sich in dem Quarzglas der Innenschicht ein Hydroxylgruppengehalt von weniger als 100 Gew.-ppm einstellt.
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Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Quarzglaszylinders wird durch Abscheiden von SiO 2 -Partikeln auf einer Zylindermantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Trägers, der eine Schicht aus Siliciumcarbid (SiC-Schicht) aufweist, ein poröses Sootrohr hergestellt, das zu dem Quarzglaszylinder gesintert wird. Um hiervon ausgehend einen Träger mit hoher Bruchfestigkeit anzugeben, der sich einerseits leicht entfernen lässt und von dem andererseits eine geringe Kontaminationsgefahr für den Sootkörper ausgeht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die SiC-Schicht vor dem Abscheiden der SiO 2 -Partikel bei hoher Temperatur in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre behandelt wird, derart, dass durch Oxidation eine SiO 2 -Schutzschicht mit einer Dicke von mindestens 0,1 μm erzeugt wird.
摘要:
To provide a method for the reproducible and reliable production of synthetic, UV- radiation resistant quartz glass which has a predetermined hydroxyl group content and containshardly any chlorine and oxygen defect centers, if possible, the present invention suggests a method which comprises the following steps: (a) producing an SiO 2 soot body, (b) drying the soot body such that a mean hydroxyl group content of less than 60 wtppm is obtained, and (c) vitrifying the soot body with formation of a cylindrical quartz glass blank which is further processed into the optical component, wherein prior to vitrification according to method step (c) the soot body is subjected to a conditioning treatment which comprises a treatment with a nitrogen containing gas, preferably a nitrogen oxide,or a sequence of treatments with ammonia and an oxidizing agent.
摘要:
Es sind Verfahren zur Herstellung einer Antiresonanten Hohlkernfaser bekannt, die einen sich entlang einer Faser-Längsachse erstreckenden Hohlkern und einen den Hohlkern umgebenden inneren Mantelbereich aufweist, der mehrere Antiresonanzelemente umfasst. Die bekannten Verfahren umfassen die Verfahrensschritte: des Bereitstellens eines Hüllrohres, das eine Hüllrohr-Innenbohrung und eine Hüllrohr-Längsachse aufweist, entlang der sich eine von einer Innenseite und einer Außenseite begrenzte Hüllrohr-Wandung erstreckt; des Bereitstellens einer Anzahl von rohrförmigen Antiresonanzelement-Vorformlingen; des Anordnens der Antiresonanzelement-Vorformlinge an Soll-Positionen der Innenseite der Hüllrohr-Wandung unter Bildung einer primären Vorform, die einen hohlen Kernbereich und einen inneren Mantelbereich aufweist; der Weiterverarbeitung der primären Vorform zu einer sekundären Vorform, die ein Elongieren der primären Vorform direkt zu der Hohlkernfaser oder zu der sekundären Vorform umfasst. Um hiervon ausgehend eine hohe Präzision und eine exakte Positionierung der Antiresonanzelemente in einer ausreichend stabilen und reproduzierbaren Weise zu erreichen, wird vorgeschlagen, dass beim Elongieren eine primäre Vorform eingesetzt wird, die einen Außendurchmesser im Bereich von 20 bis 70 mm aufweist.
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Für die Herstellung zylinderförmiger Bauteile aus Fluor enthaltendem, synthetischem Quarzglas sind folgende Verfahrensschritte bekannt: Erzeugen eines SiO 2 - Sootkörpers; Entfernen von Hydroxylgruppen aus dem Sootkörper, Beladen des Sootkörpers mit Fluor, Nachchlorieren des mit Fluor beladenen Sootkörpers und Verglasen des Sootkörpers zu dem zylinderförmigen Bauteil. Um reproduzierbar axial und radial besonders homogene Verteilungen insbesondere von Fluor zu erreichen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass beim Trocknen im Sootkörper eine Konzentration an Hydroxylgruppen im Bereich von 1 bis 300 Gew.-ppm und beim Beladen mit Fluor ein mittlerer Fluorgehalt von mindestens 1500 Gew.-ppm eingestellt wird, und dass beim Nachchlorieren eine Beladung mit Chlor erfolgt, die nach dem Verglasen im synthetischen Quarzglas des Bauteils einen mittleren Chlorgehalt von mindestens 50 Gew.-ppm ergibt, unter der weiteren Maßgabe, dass das Gewichtsverhältnis der Gehalte von Fluor und Chlor kleiner als 30 ist.
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Bei einem bekannten Verfahren für die Herstellung eines maßhaltigen Halbzeugs zum Einsatz bei der Faserherstellung aus synthetischem Quarzglas wird auf der Außenwandung eines Quarzglas-Innenzylinders eine SiO 2 -Sootschicht aufgebracht und diese einer Sinterbehandlung unterzogen, bei der eine Sinterzone von außen nach innen durch die SiO 2 -Sootschicht wandert. Um hiervon ausgehend einerseits eine maßgenaue und verformungsarme Herstellung und andererseits eine hohe Kosteneffizienz zu erreichen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, die Sinterbehandlung zu unterbrechen, bevor die Sinterzone die Außenwandung des Innenzylinders erreicht, so dass an der Innenzylinder-Außenwandung eine Zwischenschicht aus Poren enthaltendem, synthetischem Quarzglas verbleibt. Dass so erhaltene Halbzeug wird zu dem optischen Bauteil elongiert, wobei die Zwischenschicht vollständig zu transparentem Quarzglas sintert.
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Es sind Verfahren zur Herstellung von opakem Quarzglas bekannt, bei denen eine amorphe SiO 2 -Teilchen enthaltende Suspension erzeugt, daraus ein poröser Grünkörper gebildet, der Grünkörper getrocknet und dieser durch Sintern unter Bildung des opaken Quarzglases verdichtet wird. Um hiervon ausgehend eine reproduzierbare Herstellung von wenig rissanfälligem opakem Quarzglas nach der Schlickermethode zu ermöglichen, und einen Grünkörper (Halbzeug) bereitzustellen, der sich durch eine geringe Rissanfälligkeit auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, ein Grünkörper aus einer SiO 2 -Matrix und darin eingebetteten Filamenten aus Quarzglas gebildet wird. Der nach dem Verfahren erhaltene Grünkörper zeichnet sich dadurch aus, dass in einer durch Formgießen und Trocknen einer amorphe SiO 2 -Teilchen enthaltenden Suspension erzeugten Matrix Filamente aus Quarzglas eingebettet sind.
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Es sind Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas bekannt, bei denen die Bauteil-Oberfläche mindestens teilweise mit einer SiO 2 -Glasmasse versehen wird, die sich vom Quarzglas des Basiskörpers unterscheidet. Um hiervon ausgehend eine neue Art der Beschichtung eines Quarzglas-Bauteils mit einer SiO 2 -Glasmasse anzugeben, die kostengünstig und reproduzierbar und in beliebiger Stärke hergestellt werden kann, und die je nach ihrer konkreten Ausgestaltung unterschiedliche Funktionen erfüllen kann, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass ein amorphe SiO 2 -Teilchen enthaltender Schlicker erzeugt und auf der Oberfläche des Basiskörpers unter Bildung einer Schlicker-Schicht aufgebracht wird, die Schlicker-Schicht getrocknet und anschließend unter Bildung der SiO 2 -Glasmasse verglast wird. Die so beschichteten Quarzglas-Bauteil sind insbesondere in der Halbleiterfertigung vorteilhaft einsetzbar.
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Es sind Verfahren zur Herstellung einer Antiresonanten Hohlkernfaser bekannt, die einen sich entlang einer Faser-Längsachse erstreckenden Hohlkern und einen den Hohlkern umgebenden inneren Mantelbereich aufweist, der mehrere Antiresonanzelemente umfasst. Die bekannten Verfahren umfassen die Verfahrensschritte: des Bereitstellens eines Hüllrohres, das eine Hüllrohr-Innenbohrung und eine Hüllrohr-Längsachse aufweist, entlang der sich eine von einer Innenseite und einer Außenseite begrenzte Hüllrohr-Wandung erstreckt; des Bereitstellens einer Anzahl von rohrförmigen Antiresonanzelement-Vorformlingen; des Anordnens der Antiresonanzelement-Vorformlinge an Soll-Positionen der Innenseite der Hüllrohr- Wandung unter Bildung einer primären Vorform, die einen hohlen Kernbereich und einen inneren Mantelbereich aufweist; des Elongieren der primären Vorform zu der Hohlkernfaser oder der Weiterverarbeitung der primären Vorform zu einer sekundären Vorform. Um hiervon ausgehend eine hohe Präzision und eine exakte Positionierung der Antiresonanzelemente in einer ausreichend stabilen und reproduzierbaren Weise zu erreichen, wird vorgeschlagen, dass beim Durchführen eines Prozesses gemäß Verfahrensschritt (c) Bestandteile der primären Vorform aus Quarzglas und/oder die primäre Vorform umgebende Bauteile aus Quarzglas gemeinsam erhitzt und erweicht werden, wobei das Quarzglas von mindestens einem der Vorform-Bestandteile und/oder das Quarzglas von mindestens einem der die Vorform umgebenden Bauteile mindestens einen Dotierstoff enthält, der die Viskosität von Quarzglas absenkt oder erhöht.