Abstract:
Vorgeschlagen wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mikroelektronikvorrichtung (10), insbesondere eines MEMS-Chips, mit zumindest einem Trägersubstrat (12), wobei in zumindest einem Verfahrensschritt zumindest ein elektrodynamischer Aktor (14) aus einem metallischen Leiter, welcher zumindest zum Großteil aus Kupfer ausgebildet ist, auf das Trägersubstrat (12) aufgebracht wird und wobei in zumindest einem weiteren Verfahrensschritt zumindest ein piezoelektrischer Aktor (16) auf das Trägersubstrat aufgebracht wird.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Mikromechanisches Schwingungssystem (40a), welches beispielsweise als Mikrospiegelanordnung ausgebildet ist. Das mikromechanische Schwingungssystem (40a) umfasst einen mikromechanischen Schwingkörper (10a) mit wenigstens einem Mikrospiegel (1a). Der mikromechanische Schwingkörper (10a) ist in diesem Zusammenhang dazu ausgebildet, um eine Schwingungsachse (100), insbesondere mit einer Resonanzfrequenz des Schwingkörpers (10a), zu schwingen. Der mikromechanische Schwingkörper (10a) weist eine Gesamtmasse m, bestehend aus Masseelementen mi (17a, 17b), auf. Die Masseelemente (17a, 17b) mi sind in Abhängigkeit einer lateralen, horizontalen Beabstandung (29a, 29b) der Masseelemente (17a, 17b) mi zu der Schwingungsachse (100) verteilt.
Abstract:
Eine Beleuchtungsvorrichtung (1) weist mehrere Halbleiter-Primärlichtquellen (Dij) zum Emittieren jeweiliger Primärlichtstrahlen (Pij), eine mittels der Primärlichtstrahlen beleuchtbare Strahlumlenkeinrichtung (5), insbesondere mindestens einen beweglichen Spiegel, die mindestens zwei Strahlumlenkstellungen einnehmen kann, und einen Leuchtstoffkörper (9), der mittels von der Strahlumlenkeinrichtung (5) umgelenkter Primärlichtstrahlen (Pij) beleuchtbar ist, auf, wobei Leuchtflecke (Fij) der einzelnen Primärlichtstrahlen (Pij) auf dem mindestens einen Leuchtstoffkörper (9) örtlich unterscheidbar sind, ein sich aus den Leuchtflecken (Fij) der einzelnen Primärlichtstrahlen (Pij) zusammensetzender Gesamt-Leuchtfleck (Fges) abhängig von der Strahlumlenkstellung der Strahlumlenkeinrichtung (5) auf dem mindestens einen Leuchtstoffkörper (9) örtlich unterscheidbar ist und mindestens ein auf den mindestens einen Leuchtstoffkörper (9) fallender Primärlichtstrahl (Pij) bei Betrieb der Beleuchtungsvorrichtung (1) selektiv ein- und ausschaltbar ist. Die Beleuchtungsvorrichtung (1) ist beispielsweise anwendbar auf Projektionsvorrichtungen, insbesondere Fahrzeugscheinwerfer oder Vorrichtungen zur professionellen Beleuchtung, beispielsweise für eine Effektbeleuchtung, z.B. als ein Bühnenscheinwerfer oder als eine Disco-Leuchte.
Abstract:
Es wird ein Telekommunikationsgerät (10) mit einer Projektionseinrichtung (11) zum Projizieren von Bildinformationen auf eine außerhalb des Telekommunikationsgeräts (10) befindliche Projektionsfläche vorgeschlagen, wobei das Telekommunikationsgerät (10) derart konfiguriert ist, dass die Projektionseinrichtung (11) die Bildinformation ausgehend von dem Telekommunikationsgerät (10) in verschiedene erste Richtungen eines Projektionsrichtungsbereichs (20) auf die Projektionsfläche projiziert, wobei das Telekommunikationsgerät (10) neben der Projektionseinrichtung (11) eine Eingabedetektionseinrichtung (12) aufweist, wobei das Telekommunikationsgerät (10) ferner derart konfiguriert ist, dass mittels der Eingabedetektionseinrichtung (12) eine mittels einer Bewegung eines Körperteils eines Benutzers vorgenommene Benutzereingabe detektierbar ist, wobei die Benutzereingabe ausgehend von dem Telekommunikationsgerät (10) in einem außerhalb des Projektionsrichtungsbereichs (20) befindlichen Detektionsrichtungsbereich (30) erfolgt, wobei die Benutzereingabe in Bezug auf das Telekommunikationsgerät (10) berührungslos ist.
Abstract:
Ein Magnetfeldsensor umfasst mit einen magnetisierbaren Kern mit einer wenigstens abschnittweise gekrümmten Oberfläche, eine Magnetisierungseinrichtung zum Magnetisieren des Kerns und eine Bestimmungseinrichtung zum Bestimmen eines magnetischen Feldes im Kern.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ansteuerung einer piezoelektrischen Antriebseinheit (81). Hierbei wird ein erstes Ansteuersignal an eine erste Elektrode (90a) eines ersten Piezoelements (95) der piezoelektrischen Antriebseinheit (81) angelegt. Zusätzlich wird ein zweites Ansteuersignal an eine zweite Elektrode (90b) des ersten Piezoelements (95) der piezoelektrischen Antriebseinheit (81) angelegt. Das erste Ansteuersignal ist als ein durchgehend positives erstes Spannungssignal ausgebildet. Das zweite Ansteuersignal ist als ein konstantes zweites Spannungssignal ausgebildet. Das erste Ansteuersignal ist stets größer als das zweite Ansteuersignal.
Abstract:
An ultrasound transducer of a vehicle system, comprising a membrane configured to vibrate to generate an ultrasound when voltage is applied and further configured to vibrate in an out-of-plane movement, wherein the membrane includes a first piezoelectric film at a center of the membrane, a supporting member including a second piezoelectric film, the supporting member supporting and surrounding the membrane, wherein in response to a translation of motion or actuation from the membrane, the supporting member mode does not move when there is the out-of-plane movement from the membrane.
Abstract:
Vorrichtung und Verfahren zum Überwachen eines Halbleiterbauelements (100), wobei in einem Betrieb des Halbleiterbauelements (100) ein Leckstrom erfasst wird, der durch eine erste Elektrode (102) und eine zweite Elektrode (104) des Halbleiterbauelements (100) fliest, wobei der Leckstrom in einem Vergleich mit einem ersten Grenzwert für den Leckstrom verglichen wird und abhängig von einem Ergebnis des Vergleichs eine Ausgabe bestimmt wird und/oder wobei ein Zeitpunkt bestimmt wird, zu dem ein Extremalpunkt, insbesondere ein Maximum, des Leckstroms auftritt und abhängig vom Zeitpunkt eine Ausgabe bestimmt wird, wobei die Ausgabe einen Zustand des Halbleiterbauelements (100) umfasst, und die Ausgabe ausgegeben wird.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement (200), welches wenigstens eine dielektrische Schicht (230), sowie wenigstens eine erste (202) und eine zweite Elektrode (201) umfasst. Zusätzlich liegen wenigstens zwei voneinander unterschiedliche Defektarten (212, 215, 217) in der dielektrischen Schicht (230) vor. Diese wenigstens zwei voneinander unterschiedlichen Defektarten (212, 215, 217) bewegen sich in Abhängigkeit einer zwischen der ersten (202) und zweiten Elektrode (201) angelegten Betriebsspannung und einer vorliegenden Betriebstemperatur entlang lokalisierter Defektzustände (235) mit jeweils einem mittleren effektiven Abstand a 0 (210) in Richtung einer der beiden Elektroden (201, 202). Hierbei gilt für den mittleren effektiven Abstand a 0 (210), dass dieser größer als 3,2nm ist.
Abstract:
Die Erfindung schafft einen Mikrospiegelscanner und ein Verfahren zur Steuerung eines Mikrospiegelscanners. Das Verfahren umfasst dabei die folgenden Verfahrensschritte: Bereitstellen (S01) eines Schussmusters (13), welches zumindest Informationen über erste Ansteuersignale in Abhängigkeit von Spiegelstellungen (α1, α2, α3) eines verstellbaren mikromechanischen Spiegels (14) des Mikrospiegelscanners umfasst, welche zum Ansteuern einer Lichtquelle (10) des Mikrospiegelscanners bestimmt sind; Bestimmen (S02) einer aktuellen Spiegelstellung (α1, α2, α3) des Spiegels (14); Aussenden (S03) von Lichtstrahlen (20) in einen Raumwinkels durch Ablenken der Lichtstrahlen (20), welche in Abhängigkeit von der bestimmten (S02) aktuellen Spiegelstellung (α1, α2, α3) des Spiegels (14) gemäß den ersten Ansteuersignalen des Schussmusters (13) erzeugt werden, mittels des Spiegels (14) in der bestimmten aktuellen Spiegelstellung (α1, α2, α3); Messen (S04) von an einem Objekt (30) in dem Raumwinkel reflektierten Lichtstrahlen (22) mittels eines Lichtsensors (16) des Mikrospiegelscanners zum Bestimmen einer Distanz zwischen dem Objekt (30) und dem Mikrospiegelscanner; Bestimmen (S05) einer Position des Objekts (30) und/oder einer Art des Objekts (30) zumindest in Abhängigkeit von der bestimmten Distanz und der aktuellen Spiegelstellung (α1, α2, α3) des Spiegels (14); und Anpassen (S06) des Schussmusters (13) in Abhängigkeit von der Position und/oder Art des Objekts (30).