公开(公告)号：WO2016123107A1

公开(公告)日：2016-08-04

申请号：PCT/US2016/014929

申请日：2016-01-26

Applicant: THE ADMINISTRATORS OF THE TULANE EDUCATIONAL FUND

Inventor： GRAYSON, Scott ,  EJAZ, Muhammad ,  ALB, Alina, M.

IPC: C07F7/08

CPC classification number: C08L67/04 ,  C07B2200/11 ,  C07F7/0852 ,  C08G63/08 ,  C08G65/34 ,  C08J3/05 ,  C08J2467/04 ,  C08J2471/08 ,  C08K3/26 ,  C08K2003/265 ,  C08L2205/18 ,  G01N23/2251 ,  G01N2021/3595

Abstract: Disclosed herein are amphiphilic surfactants which comprise a polymer chain having a hydrophobic unit and hydrophilic unit wherein the polymer is tethered to an inorganic nanoparticle. Further disclosed are methods for preparing the disclosed amphiphilic surfactants.

Abstract translation: 本文公开了包含具有疏水单元和亲水单元的聚合物链的两亲性表面活性剂，其中聚合物束缚于无机纳米颗粒。 进一步公开了制备所公开的两亲性表面活性剂的方法。

公开(公告)号：WO2016101978A1

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：PCT/EP2014/079018

申请日：2014-12-22

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  MUELLER, Bernhard ,  LEDL, Ludwig ,  WENZEL, Axel ,  PARISOLI, Lidia ,  BRUNNER, Matthias

Inventor： MUELLER, Bernhard ,  LEDL, Ludwig ,  WENZEL, Axel ,  PARISOLI, Lidia ,  BRUNNER, Matthias

IPC: G01N23/225 ,  G01N23/04 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01N23/203 ,  G01N23/2251 ,  G01N23/2252 ,  G01N2223/61 ,  H01J37/145 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/0216

Abstract: An apparatus for inspecting a large area substrate for display manufacturing is described. The apparatus includes a vacuum chamber; a substrate support arranged in the vacuum chamber, wherein the substrate support is configured for supporting the large area substrate for display manufacturing; and a first imaging charged particle beam microscope configured for generating a charged particle beam for inspecting a substrate supported by the substrate support, wherein the first imaging charged particle beam microscope includes a retarding field lens component of an objective lens.

Abstract translation: 对用于显示制造的大面积基板进行检查的装置进行说明。 该装置包括真空室; 布置在所述真空室中的衬底支撑件，其中所述衬底支撑件被配置为支撑用于显示器制造的所述大面积衬底; 以及构造成产生用于检查由所述基板支撑体支撑的基板的带电粒子束的第一成像带电粒子束显微镜，其中所述第一成像带电粒子束显微镜包括物镜的延迟场透镜部件。

公开(公告)号：WO2016086908A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：PCT/CZ2015/000145

申请日：2015-12-03

Applicant: ADVACAM s.r.o.

Inventor： SOHAR, Jan

IPC: G01N23/225 ,  G01N23/04

CPC classification number: G01N23/046 ,  G01N23/2251 ,  G01N2223/045 ,  G01N2223/419

Abstract: The invention describes a method and a device (9) for executing a method of X-ray nano-radiography and nanotomography using a scanning electron microscope (1) consisting of the focus of an electron beam (2) from an electron microscope (1) onto one point of the surface of a scanned sample (3), the emission of bremsstrahlung and fluorescent radiation (6) from the focal point of the impact of the electron beam (2), the sensing of the scanned sample (3), and recording an image of the structure of the scanned sample (3) based on the change of intensities of the bremsstrahlung and fluorescent radiation (6) by the imaging detector (7) arranged behind the sample (3).

Abstract translation: 本发明描述了使用由电子显微镜（1）的电子束（2）的焦点组成的扫描电子显微镜（1）来执行X射线纳米射线照相术和纳米成像方法的方法和装置（9） 在扫描样品（3）的表面的一个点上，从电子束（2）的冲击的焦点发射bre致辐射和荧光辐射（6），扫描样品（3）的感测和 基于由配置在样品（3）后面的成像检测器（7）基于bre致辐射强度和荧光辐射（6）的强度的变化记录扫描样品（3）的结构的图像。

公开(公告)号：WO2016047077A1

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：PCT/JP2015/004629

申请日：2015-09-11

Applicant: JFEスチール株式会社

Inventor： 名越　正泰 ,  松島　朋裕 ,  渡邉　誠 ,  高城　重宏 ,  ▲高▼宮　俊人 ,  上坂　正憲 ,  寺島　敬

IPC: C21D8/12 ,  G01N21/62 ,  G01N23/225 ,  H01F1/16 ,  H01F1/18

CPC classification number: C21D9/46 ,  C21D8/12 ,  C21D8/1233 ,  C21D8/1255 ,  C21D8/1272 ,  C21D8/1283 ,  C21D8/1288 ,  C22C38/02 ,  G01N21/62 ,  G01N23/225 ,  G01N23/2251 ,  H01F1/16 ,  H01F1/18 ,  H01F27/245 ,  H02K1/02 ,  H02K1/06

Abstract: 　鋼板上にフォルステライト被膜を有する方向性電磁鋼板であって、表面から見てフォルステライト被膜に散在する欠損部の合計面積率が、フォルステライト層の表面積に対して１．５％未満であることを特徴とする方向性電磁鋼板とする。また、本発明においては、欠損部の少なくとも一部は、筋状であることが好ましい。　また、鋼板上にフォルステライト被膜を有する方向性電磁鋼板の、フォルステライト被膜と鋼板表面との密着性を評価する方向性電磁鋼板評価方法であって、前記方向性電磁鋼板表面に電子線を照射し、発生する光のスペクトルを分光し、波長３８０～６００ｎｍに出現する発光ピークＡおよび／または発光ピークＢの強度とこれらの強度比の少なくとも一方を用いて、フォルステライト被膜と鋼板表面との密着性を評価することを特徴とする方向性電磁鋼板の評価方法とする。

Abstract translation: 一种在钢板上具有镁橄榄石涂层的方向性电磁钢板，所述方向性电磁钢板的特征在于，从表面观察时，散布在镁橄榄石涂层上的缺陷部分的总面积的比例小于1.5 镁橄榄石层表面积的％。 在本发明中，至少一些缺陷部分优选为条纹形式。 一种用于评价在钢板上具有镁橄榄石涂层的方向性电磁钢板的镁橄榄石涂层与钢板表面之间的粘附性的晶粒取向电工钢板评价方法，其特征在于， 用电子束照射方向性电磁钢板的表面，将生成的光分解成光谱，并使用发光峰A和强度A的至少一个来评价镁橄榄石涂层与钢板表面之间的粘附性 /或出现波长380-600nm的发光峰B及其强度比。

公开(公告)号：WO2015198781A1

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：PCT/JP2015/065318

申请日：2015-05-27

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 大谷　祐子 ,  浦野　雄太 ,  本田　敏文

IPC: G01N21/956 ,  G01B11/30 ,  G01N21/84 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/2513 ,  G01B11/2527 ,  G01B11/30 ,  G01B15/08 ,  G01B21/00 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/84 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N23/2251 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2201/068 ,  G01N2223/33 ,  G01N2223/418 ,  G01N2223/6116 ,  G01N2223/646 ,  G02B21/0016 ,  G02B21/10 ,  G02B21/26 ,  G02B27/0933 ,  G02B27/58 ,  G03F7/7065

Abstract: 半導体デバイスの製造工程において半導体ウェハ上に発生した欠陥等を高速かつ高分解能に検出できるようにするために、他の検査装置で検出した試料上の欠陥の位置情報を用いて欠陥を光学的に検出し、この検出した欠陥の位置情報を修正し、この修正した位置情報を用いて欠陥を走査型電子顕微鏡で観察する欠陥観察方法において、他の検査装置で検出した試料上の欠陥の位置情報を用いて欠陥を光学的に検出することが、欠陥を含む試料の表面に複数の照明光を一方向に位相変調させる共に一方向とは異なる方向に順次微動させて試料の表面に照射することにより試料を２次元方向に周期的に強度変化を持つ照明強度パターンで照明し、この２次元方向に周期的に強度変化を持つ照明強度パターンで照明された他の検査装置で検出した欠陥を含む試料の表面を撮像し、試料の表面を撮像して得た画像から他の検査装置で検出した欠陥を検出するようにした。

Abstract translation: 一种缺陷观察方法，用于通过以下方式实现在半导体器件制造过程中在半导体晶片上形成的缺陷的快速，高分辨率检测：通过使用位置的另一个检查装置光学检测样品上检测到的缺陷 对缺陷的信息，校正检测到的缺陷的位置信息，并使用校正的位置信息来使用扫描型电子显微镜来观察缺陷。 光学检测利用其他检查装置检测到的缺陷，使用缺陷的位置信息：通过将多个照明光束照射到第二维上照射具有二维周期性强度变化的照明强度图案的包含缺陷的样品 表面，同时沿着单个方向对光束进行相位调制，并且以不同于单个方向的方向以小的运动连续移动光束，对由具有周期性强度变化的照明强度图案照射的样品的表面进行成像 并且包括由其他检查装置检测到的缺陷，并且通过对样品表面的成像获得的图像检测由其他检查装置检测到的缺陷。

公开(公告)号：WO2015175404A1

公开(公告)日：2015-11-19

申请号：PCT/US2015/030145

申请日：2015-05-11

Applicant: KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： KULKARNI, Ashok V.

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G06T7/001 ,  G01B21/16 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N23/2251 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/8887 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/12 ,  G01N2223/6116 ,  G06F17/5045 ,  G06T7/60 ,  G06T7/74 ,  G06T2207/30148 ,  H01L21/67288 ,  H01L22/12

Abstract: Methods and systems for determining a position of inspection data with respect to a stored high resolution die image are provided. One method includes aligning data acquired by an inspection system for alignment sites on a wafer with data for predetermined alignment sites. The predetermined alignment sites have a predetermined position in die image space of a stored high resolution die image for the wafer. The method also includes determining positions of the alignment sites in the die image space based on the predetermined positions of the predetermined alignment sites in the die image space. In addition, the method includes determining a position of inspection data acquired for the wafer by the inspection system in the die image space based on the positions of the alignment sites in the die image space.

Abstract translation: 提供了用于确定检查数据相对于存储的高分辨率管芯图像的位置的方法和系统。 一种方法包括将通过检查系统获取的数据对准用于晶片上的对准位置的数据与用于预定对准位置的数据。 预定的对准位置在晶片的存储的高分辨率芯片图像的管芯图像空间中具有预定位置。 该方法还包括基于管芯图像空间中的预定对准位置的预定位置来确定管芯图像空间中的对准位置的位置。 此外，该方法包括基于管芯图像空间中的对准位置的位置来确定由管芯图像空间中的检查系统为晶片获取的检查数据的位置。

公开(公告)号：WO2015089113A1

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：PCT/US2014/069405

申请日：2014-12-09

Applicant: NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY

Inventor： SANG, Xiahan ,  LEBEAU, James, Michael

IPC: G01N23/00

CPC classification number: H01J37/222 ,  G01N23/04 ,  G01N23/2251 ,  G01N2223/401 ,  G01N2223/418 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2802

Abstract: The subject matter described herein includes methods, systems, and computer readable media for measuring and correcting drift distortion in images obtained using the scanning microscope. One method includes obtaining an image series of a sample acquired using scanning- microscope by rotating scan coordinates of the microscope between successive image frames. The method further includes determining at least one measurement of an angle or a distance associated with an image feature as a function of rotation angle from the series of rotated images. The method further includes using the at least one measurement to determine a model for drift distortion in the series of images. The method further includes using the drift distortion model to generate a drift corrected image from the series of images.

Abstract translation: 本文描述的主题包括用于测量和校正使用扫描显微镜获得的图像中的漂移失真的方法，系统和计算机可读介质。 一种方法包括通过在连续的图像帧之间旋转显微镜的扫描坐标来获得使用扫描显微镜获取的样本的图像序列。 该方法还包括根据旋转图像序列确定与图像特征相关联的角度或距离的至少一个测量值作为旋转角度的函数。 该方法还包括使用至少一个测量来确定该系列图像中的漂移失真的模型。 该方法还包括使用漂移失真模型从该系列图像生成漂移校正图像。

公开(公告)号：WO2015048473A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/US2014/057758

申请日：2014-09-26

Applicant: KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： FAN, Gary ,  GUVINDAN RAJU, Kumar Raja ,  JENSEN, Wade ,  XIAO, Hong ,  YOUNG, Lorraine

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01J37/261 ,  G01N23/2251 ,  G01N2223/6116 ,  H01J37/222 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/24592 ,  H01J2237/30405

Abstract: One embodiment relates to an electron beam apparatus for inspection and/or review. An electron source generates a primary electron beam, and an electron-optics system shapes and focuses said primary electron beam onto a sample held by a stage. A detection system detects signal-carrying electrons including secondary electrons and back-scattered electrons from said sample, and an image processing system processes data from said detection system. A host computer system that controls and coordinates operations of the electron-optics system, the detection system, and the image processing system. A graphical user interface shows a parameter space and provides for user selection and activation of operating parameters of the apparatus. Another embodiment relates to a method for detecting and/or reviewing defects using an electron beam apparatus. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.

Abstract translation: 一个实施例涉及用于检查和/或审查的电子束装置。 电子源产生一次电子束，并且电子 - 光学系统将所述一次电子束形成并聚焦在由载物台保持的样品上。 检测系统检测来自所述样品的包含二次电子和反向散射电子的信号携带电子，并且图像处理系统处理来自所述检测系统的数据。 控制和协调电子光学系统，检测系统和图像处理系统的主机计算机系统。 图形用户界面显示参数空间，并提供用户选择和激活设备的操作参数。 另一实施例涉及使用电子束装置检测和/或检查缺陷的方法。 还公开了其它实施例，方面和特征。

公开(公告)号：WO2015025098A1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：PCT/FR2014/052060

申请日：2014-08-07

Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

Inventor： FOUCHER, Johann ,  HAZART, Jérôme

IPC: G03F7/20 ,  G01N23/225

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01B2210/56 ,  G01N23/2251 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/2826

Abstract: La présente invention concerne un procédé de calibration d'une technique CD-SEM, ledit procédé comportant les étapes suivantes : - détermination d'une fonction de correspondance transformant au moins un paramètre obtenu par modélisation d'une mesure fournie par la technique CD-SEM en une fonction d'au moins un paramètre représen- tatif d'une mesure fournie par une technique de caractérisation de réfé- rence différente de la technique CD-SEM, ladite fonction de correspon- dance étant caractérisée par une pluralité de coefficients; - réalisation de mesures sur une pluralité de motifs choisis pour couvrir le domaine de validité souhaité pour la calibration, lesdites mesures étant réalisées en utilisant à la fois la technique CD-SEM à calibrer et la technique de référence; - détermination, à partir desdites mesures, d'un jeu de coefficients de la fonction de correspondance minimisant la distance entre les fonctions des paramètres mesurés par la technique de référence et l'application de la fonction de correspondance aux paramètres obtenus par modéli- sation des mesures fournies par la technique CD-SEM; - utilisation dudit jeu de coefficients lors de la mise en œuvre de la tech- nique CD-SEM calibrée.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于CD-SEM技术的校准方法，所述方法包括以下步骤： - 确定匹配函数，将匹配函数转换成至少一个参数，所述至少一个参数通过将由CD-SEM技术提供的测量建模为至少 代表通过与CD-SEM技术不同的表征技术提供的测量的一个参数，所述匹配函数的特征在于多个系数; - 对选择的覆盖期望的有效范围的多个图案执行测量，所述测量使用要校准的CD-SEM技术和参考技术来完成; - 从所述测量中确定所述匹配函数的一组系数，使使用所述参考技术测量的参数的函数之间的距离最小化，并将所述匹配函数应用于通过由所述CD-SEM提供的建模测量获得的参数; - 在校准的CD-SEM技术的实施期间使用所述系数集合。

公开(公告)号：WO2014065663A1

公开(公告)日：2014-05-01

申请号：PCT/NL2013/050746

申请日：2013-10-24

Applicant: TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT

Inventor： KRUIT, Pieter

IPC: G01N23/203 ,  G01N23/225 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01N23/2251 ,  G01N2223/33 ,  G01N2223/3307 ,  G01N2223/413 ,  G01N2223/418 ,  H01J37/244 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/2446

Abstract: The invention relates to an apparatus and method for inspecting a sample. The apparatus comprises a generator for generating an array of primary charged particle beams (33), and a charged particle optical system with an optical axis (38). The optical system comprises a first lens system (37, 310) for focusing all primary beams (33) into a first array of spots in an intermediate plane, and a second lens system (313, 314) for focusing all primary beams (33) into a second array of spots on the sample surface (315). The apparatus comprises a position sensitive backscattered charged particle detector (311) positioned at or near the intermediate plane. The second lens system comprises an electromagnetic or electrostatic lens which is common for all charged particle beams. Preferably the second lens system comprises a magnetic lens for rotating the array of primary beams (33) around the optical axis (38) to position the second array of charged particle spots with respect to the first array at an angle.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于检查样品的装置和方法。 该装置包括用于产生初级带电粒子束（33）的阵列的发生器和具有光轴（38）的带电粒子光学系统。 光学系统包括用于将所有主光束（33）聚焦成中间平面中的第一阵列的第一透镜系统（37,310）和用于聚焦所有主光束（33）的第二透镜系统（313,314） 成为样品表面上的第二阵列的斑点（315）。 该装置包括位于中间平面处或附近的位置敏感反向散射带电粒子检测器（311）。 第二透镜系统包括对于所有带电粒子束是共同的电磁或静电透镜。 优选地，第二透镜系统包括用于围绕光轴（38）旋转主光束阵列（33）的磁透镜，以相对于第一阵列以一定角度定位带电粒子斑点的第二阵列。