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公开(公告)号:CN107132472A
公开(公告)日:2017-09-05
申请号:CN201710372213.0
申请日:2017-05-23
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国家电网公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
IPC分类号: G01R31/307 , H01L21/311
摘要: 本发明公开了一种用于分析深亚微米级SOI工艺芯片的腐蚀溶液及方法,其中,该方法包括:利用特性腐蚀溶液腐蚀掉待测芯片的器件层上的二氧化硅,特性腐蚀溶液包括:氢氟酸、二氧化硅刻蚀液、丙三醇和水;将腐蚀后的待测芯片用去离子水清洗后晾干;将晾干后的待测芯片放置于反性酸性染色溶液中进行染色处理,反性酸性染色溶液包括:氢氟酸、硝酸和冰醋酸;根据扫描电子显微镜采集的染色后的待测芯片的图像数据确定待测芯片的类型。该特性腐蚀溶液可以实现均匀腐蚀性,并且能有效的降低反应速度,保证成功率,且可以平整保留器件层;染色处理后的待测芯片非常平整,方便快速确定待测芯片的类型。
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公开(公告)号:CN114062740A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202111189327.4
申请日:2021-10-12
申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
IPC分类号: G01R1/18
摘要: 本发明实施例提供一种用于多信号单线进入暗室的滤波装置,属于滤波技术领域。所述装置包括:金属外壳;暗室屏蔽体;所述金属外壳与所述暗室屏蔽体围合构成具有密封腔的箱体结构,所述密封腔内封装有金属沙;所述暗室屏蔽体用于接入包覆有金属屏蔽层的单芯导线并容许剥离金属屏蔽层的所述单芯导线穿过所述密封腔后进入暗室,所述单芯导线的金属屏蔽层断面与所述暗室屏蔽体接触,以通过所述暗室屏蔽体、所述金属外壳及所述金属沙构成的导电平面消耗干扰信号。本发明方案既保证了单芯导线上的各种有用信号顺利进入电波暗室,又防止了其它干扰信号进入电波暗室,满足了同一线路上多种信号进入暗室的相关要求。
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公开(公告)号:CN113945773A
公开(公告)日:2022-01-18
申请号:CN202110283041.6
申请日:2021-03-16
申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 国家电网有限公司 , 国网江苏省电力有限公司常州供电分公司
IPC分类号: G01R29/12
摘要: 本发明实施例提供一种用于静电测试的监测装置及静电测试系统,属于CDM测试技术领域。所述监测装置包括:采集模块,与用于静电测试的静电泄放弹性针连接,用于在对所述静电泄放弹性针进行测试位置调试的过程中,采集所述静电泄放弹性针与被测试物体的接触压力,并生成对应的压力信号;控制模块,与所述采集模块连接,用于接收所述压力信号,并根据所述压力信号确定所述静电泄放弹性针与所述被测试物体的接触状态,以及生成对应于不同接触状态的不同控制指令;以及告警模块,与所述控制模块连接,用于响应于不同的所述控制指令而进行告警提示。通过该技术方案可以精确定位静电泄放弹性针的测试位置,提高测试的效率性和准确性。
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公开(公告)号:CN113782528A
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202111330860.8
申请日:2021-11-11
申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 西安电子科技大学 , 国网江苏省电力有限公司常州供电分公司 , 国家电网有限公司
IPC分类号: H01L27/02 , H01L27/092 , H01L23/552 , H01L21/8238
摘要: 本发明提供一种半导体器件、集成电路产品以及制造方法,属于半导体器件技术领域。所述半导体器件包括:基体;第一掺杂区,形成于所述基体,所述第一掺杂区是第一MOS的源区和漏区的掺杂区;第二掺杂区,形成于所述基体,所述第二掺杂区与所述源区的距离小于所述第二掺杂区与所述漏区的距离,所述第二掺杂区与所述源区的导电类型相反;互连层,具有导电性,与所述第二掺杂区和所述源区有接触。本发明可为半导体器件提供抗电磁干扰能力。
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公开(公告)号:CN110299299A
公开(公告)日:2019-10-01
申请号:CN201910602633.2
申请日:2019-07-05
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
摘要: 本发明公开了一种基于手动绑线机的高密度封装芯片失效定位方法,包括如下步骤:S1:提供COB转接板,并对转接板进行开窗预处理;S2:提供透明薄载玻片;S3:将芯片背面开封或者正面开封,露出硅基面;S4:将芯片的开封面朝向载波片,并进行粘接固定;S5:芯片粘接固定后将透明薄载玻片粘到转接板的开窗部位,使得硅基面朝向待观测面;S6:设置绑线机参数;S7:使用绑线机将芯片的待测针脚与转接板的指定管脚相连接;以及S8:使用EMMI定位芯片失效位置。本发明的高密度封装芯片失效定位方法克服了直接开封测试法中由许多类型封装无外延针脚无法测试问题,也可以规避芯片取die直测法无法背面定位的问题,同时具备价格低廉、使用范围广的优点。
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公开(公告)号:CN107564829A
公开(公告)日:2018-01-09
申请号:CN201710734193.7
申请日:2017-08-24
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 国家电网公司
IPC分类号: H01L21/66
摘要: 本发明公开了一种用于TSV封装芯片的内部信号量测的方法,该方法包括如下步骤:S1,将待测TSV封装芯片的背面进行研磨抛光,以露出TSV通孔和硅基板;S2,在距离TSV通孔的边缘的硅基板上沉积一个SiO2薄膜区域,以隔离硅基板;S3,清理TSV通孔的表面;S4,在TSV通孔下方的芯片和SiO2薄膜之间沉积金属Pt;S5,在SiO2薄膜上沉积测试板;S6,使用探针与测试板接触,从而将测试力施加在芯片上,以实现芯片内部信号的量测。本发明的方法简单易操作,便于探针的连接测试,同时避免了在探针测试过程中由于探针接触到硅基板而导致信号无法施加在TSV通孔上的问题,从而显著提高了测试的效率和准确性。
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公开(公告)号:CN108922861B
公开(公告)日:2021-01-05
申请号:CN201810456357.9
申请日:2018-05-14
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 国家电网公司 , 国网河北省电力有限公司 , 中国电力科学研究院有限公司
摘要: 本发明公开了一种基于红外成像定位法的集成电路修补装置及方法。该集成电路修补装置包括红外成像定位单元和集成电路修补单元。红外成像定位单元用于对被测的集成电路进行失效点定位。集成电路修补单元用于对所述失效点进行电路修补。所述基于红外成像定位法的集成电路修补装置及方法能够对集成电路无损伤地进行失效点的快速精准定位且能够观察到集成电路的内部结构,提高失效定位成功率以及修补效率。
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公开(公告)号:CN107132472B
公开(公告)日:2020-06-09
申请号:CN201710372213.0
申请日:2017-05-23
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国家电网公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
IPC分类号: G01R31/307 , H01L21/311
摘要: 本发明公开了一种用于分析深亚微米级SOI工艺芯片的腐蚀溶液及方法,其中,该方法包括:利用特性腐蚀溶液腐蚀掉待测芯片的器件层上的二氧化硅,特性腐蚀溶液包括:氢氟酸、二氧化硅刻蚀液、丙三醇和水;将腐蚀后的待测芯片用去离子水清洗后晾干;将晾干后的待测芯片放置于反性酸性染色溶液中进行染色处理,反性酸性染色溶液包括:氢氟酸、硝酸和冰醋酸;根据扫描电子显微镜采集的染色后的待测芯片的图像数据确定待测芯片的类型。该特性腐蚀溶液可以实现均匀腐蚀性,并且能有效的降低反应速度,保证成功率,且可以平整保留器件层;染色处理后的待测芯片非常平整,方便快速确定待测芯片的类型。
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公开(公告)号:CN108267348A
公开(公告)日:2018-07-10
申请号:CN201711479741.2
申请日:2017-12-29
申请人: 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 国家电网有限公司
摘要: 本发明公开了一种IC产品的样品截面的纳米级高精度制备方法,包括如下步骤:S1.将所述IC产品的样品注塑或者粘贴在陪片上,得到待研磨样品,对待研磨样品进行初步观察,并对待测区域进行标记;S2.采用粗砂纸对待研磨样品进行粗磨处理,得到粗磨样品;S3.确认粗磨样品的最终研磨位置和样品状态;S4.若样品状态不符合试验需求,则采用细砂纸对粗磨样品进行精磨处理;S5.对符合试验需求的细磨样品或粗磨样品进行清洗、吹干处理,得到待FIB处理样品;S6.将待FIB处理样品放置于FIB样品室中,调整FIB设备的样品台高度和旋转角度;S7.调整FIB设备的电压和电流参数进行截面精修处理,完成样品截面制备。本发明的制备方法效率高,精度高,截面样品辨识度可达纳米级。
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公开(公告)号:CN114268310A
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN202111331236.X
申请日:2021-11-11
申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司 , 芯创智(北京)微电子有限公司
IPC分类号: H03K19/0185
摘要: 本发明提供一种电平移位器和数字隔离器,该电平移位器还包括偏置电流瞬态增强单元和边沿快速响应单元;所述输入信号端连接电平移位主体单元、偏置电流瞬态增强单元和边沿快速响应单元;所述偏置电流瞬态增强单元的输出端与边沿快速响应单元的输入端连接,所述边沿快速响应单元的输出端与所述电平移位主体单元的输入端连接,所述电平移位主体单元的输出端作为所述输出信号端;所述偏置电流瞬态增强单元用于在输入信号跳变过程中为边沿快速响应单元提供瞬态增强后的偏置电流,所述边沿快速响应单元用于在所述偏置电流的作用下快速响应,以加快电平移位主体单元输出电平的转换速度。解决了传统电平移位器在输入信号电平突变时响应较慢的问题。
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