公开(公告)号：CN109632819A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201811326714.6

申请日：2015-05-11

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： N·沙皮恩 ,  A·V·舒杰葛洛夫 ,  S·潘戴夫

IPC: G01N21/93 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01N21/93 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/95607 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/062 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/1296

Abstract: 本揭露涉及用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计。在一个实施例中，揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散射测量结构获得散射测量信号。基于所述图像及所述散射测量信号两者确定所述目标的至少一个参数，例如叠对误差。

公开(公告)号：CN104303048B

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：CN201380025799.3

申请日：2013-03-07

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 卡尔·E·赫斯 ,  石瑞芳

IPC: G01N21/88 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/95 ,  G01M11/00 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/9511 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/062 ,  G01N2201/10 ,  G03F1/84

Abstract: 在检验期间使用光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于从光罩的每一局部区域的多个子区域反射的光的多个反射强度值的平均值。还在所述检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于透射通过所述光罩的每一局部区域的所述子区域的光的多个透射强度值的平均值。通过针对每一局部区域组合多个反射强度值的所述平均值与多个透射强度值的所述平均值而产生组合强度分布图，使得:如果光罩尚未劣化，那么从所述组合强度分布图消除所述光罩的光罩图案；且如果所述光罩已劣化，那么不从所述组合强度分布图消除所述光罩的所述光罩图案。

公开(公告)号：CN106463428B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201580023431.2

申请日：2015-05-04

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： A·塞兹希内尔 ,  石瑞芳

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G06T7/00 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8887 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/12 ,  G06T7/0008 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148

Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。实施例包含产生及/或使用包含光罩图案的成对的预定分段及对应近场数据的数据结构。可基于光罩的由光罩检验系统的检测器产生的实际图像通过回归来确定所述预定分段的所述近场数据。接着，检验光罩可包含：将所述光罩上的检验区中所包含的图案的两个或两个以上分段分别与所述预定分段进行比较；及基于所述分段中的至少一者最类似于的所述预定分段而将近场数据指派到所述分段中的所述至少一者。接着，可使用所述所指派近场数据来模拟将由所述检测器针对所述光罩形成的图像，可将所述图像与由所述检测器产生的实际图像进行比较以进行缺陷检测。

公开(公告)号：CN106471333B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201480080388.9

申请日：2014-07-08

Applicant: 日产自动车株式会社

Inventor： 柴山博久 ,  盐谷英尔 ,  樱井谕 ,  杉山精一 ,  清水明 ,  寺田大辅 ,  熨斗良次 ,  内海贵人

IPC: G01B11/30 ,  B23Q17/24 ,  B24B33/02 ,  G01B11/22 ,  G01N21/88

CPC classification number: G06T7/0004 ,  B05B9/01 ,  B05B13/06 ,  B23Q17/24 ,  B24B33/02 ,  G01B11/22 ,  G01B11/30 ,  G01N21/88 ,  G01N21/954 ,  G01N2021/9548 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/12 ,  G06T7/507 ,  G06T7/62 ,  G06T2207/30108 ,  G06T2207/30148

Abstract: 提供一种能够高精度地测定表面缺陷的体积的缺陷检查装置(1)。缺陷检查装置(1)具备：拍摄装置(3)，其对检查对象的图像进行拍摄；二值化处理部(11)，其通过针对图像利用互不相同的第1以及第2二值化阈值进行第1以及第2二值化处理，从而针对图像中的同一缺陷而计算出第1以及第2尺寸；比率计算部(12)，其对第2尺寸相对于第1尺寸的第1比率进行计算；以及深度判定部(13)，其根据第1比率而判定缺陷的深度。

公开(公告)号：CN104937401A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201380054608.6

申请日：2013-10-17

Applicant: 生物辐射实验室股份有限公司

Inventor： J·巴里奇 ,  R·勒迈尔-阿德金斯 ,  D·尼兹 ,  A·诺特柯维奇 ,  P·帕特 ,  R·肖特 ,  S·史沃特 ,  E·思拉什

IPC: G01N27/26 ,  G01N27/447 ,  G06K9/36

CPC classification number: G01N21/63 ,  G01N21/6452 ,  G01N27/44726 ,  G01N2021/6484 ,  G01N2201/0833 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/103 ,  G01N2201/127 ,  H04N5/2624 ,  H04N5/349 ,  H04N5/3572 ,  H04N5/361

Abstract: 通过形成整个阵列的子图像且通过基于计算机的拼接技术将所述子图像拼接在一起，或者通过利用与分析物阵列同延的薄膜光敏元件阵列形成阵列的单幅图像，对诸如电泳后厚板型凝胶中的溶质的分析物阵列并且尤其是超过3cm2且直到25cm2和更高的分析物阵列以5cm或更小的距离进行成像。

公开(公告)号：CN104112687A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201410287383.5

申请日：2014-06-24

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

Inventor： 王守坤 ,  郭会斌 ,  冯玉春 ,  李梁梁 ,  张小祥 ,  郭总杰

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/67

CPC classification number: G01N21/8422 ,  G01B11/00 ,  G01B11/14 ,  G01B11/24 ,  G01N21/8851 ,  G01N2201/10 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明公开了一种膜边检测方法和膜边检测装置。所述膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；所述膜边检测方法包括：获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值；根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。本发明提供的膜边检测方法和膜边检测装置的技术方案提高了生产良率以及降低了产品损失。

公开(公告)号：CN103885216A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201410046259.X

申请日：2014-02-10

Applicant: 北京京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 叶超 ,  王涛 ,  陈远丹 ,  关盛祚 ,  郭光龙

IPC: G02F1/13 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01N21/8851 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95661 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/12

Abstract: 本发明公开了一种基板检测装置及方法，用以实现对液晶显示器外围电路区域中的引线的宽区域和高兼容性检测。所述装置包括：转换单元，用于根据基板的电路引线区的灰度图像进行灰度计算，并根据计算得到的电路引线区中的引线和衬底基板之间的灰度差异，将所述灰度图像转化为电路引线区中的引线图像；判断单元，用于根据所述电路引线区中的引线图像，对所述电路引线区中的引线状态进行判断。

公开(公告)号：CN102483378A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080033122.0

申请日：2010-07-19

Applicant: BT成像股份有限公司

Inventor： 托斯顿.特鲁普克

IPC: G01N21/64 ,  H01L35/18 ,  G01N21/66 ,  G01N21/95 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/6489 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/10 ,  H01L22/12

Abstract: 分离由掺杂浓度和少数载流子寿命分别对半导体材料产生的光致发光(PL)的影响的方法。在一个实施方式中本底掺杂浓度以其他技术被测量，使得PL测量结果根据有效少数载流子寿命被分析。在另一个实施方式中有效寿命以其他技术被测量，使得PL测量结果根据本底掺杂浓度被分析。在又一个实施方式中，通过计算两次PL测量结果的强度比本底掺杂浓度的影响被消除，所述PL测量结果是在不同的光谱范围下被获得，或者在不同的激发波长下被产生。本方法特别适用与诸如硅块或硅锭的体样品，其中相比于薄的、表面受限的样品如硅晶片，信息可以在很大的体寿命值范围内被获得。本方法还可应用于太阳电池的生产中以改善硅块和硅锭的制造，以及为晶片提供切割导引。

公开(公告)号：CN101203744B

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN200580049795.4

申请日：2005-06-02

Applicant: 博奥生物有限公司 ,  清华大学

Inventor： 王宪华 ,  徐辉 ,  叶建新 ,  孙烨磊 ,  黄国亮 ,  程京

IPC: G01N21/64

CPC classification number: G01N21/6458 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/6452 ,  G01N2021/6421 ,  G01N2201/10 ,  G01N2201/103

Abstract: 本发明涉及一种激光微阵列芯片扫描仪，该仪器由光学系统，扫描运动平台和数据处理系统构成。在扫描过程中，光学系统保持固定，而放置在扫描运动平台上的微阵列芯片相对于光学系统发生运动。该微阵列芯片扫描仪具有高速扫描，高灵敏度，高分辨率和高信噪比，因此在微阵列芯片扫描中具有理想的用途。

公开(公告)号：CN105683803B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201480058548.X

申请日：2014-08-27

Applicant: 想象光学公司 ,  国家科学研究中心 ,  波尔多大学

Inventor： 格扎维埃·勒韦克 ,  维尔日勒·维亚诺夫 ,  让-巴普蒂斯特·西巴里塔 ,  文森特·斯蒂德 ,  雷米·加朗

IPC: G02B21/06

CPC classification number: G02B21/06 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/6458 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0638 ,  G01N2201/10 ,  G02B21/16 ,  G02B21/241 ,  G02B21/361 ,  G02B27/0068

Abstract: 根据一个方面，本发明涉及一种用于通过对样品的片照明而进行的对设置于样品支撑上的厚样品的显微镜方法。具体而言，所述方法包括：发射至少一个照明束(1)；从照明束形成照明表面；为了形成位于基本上与显微镜透镜的光轴成直角的平面中的横向照明表面，借助于显微镜透镜(120)聚焦样品中的照明表面并且偏转源自显微镜透镜的照射表面。所述方法还包括：在检测设备(130)的检测表面(131)上借助于所述显微镜透镜(120)形成通过横向照明表面照明的样品的区域的图像；扫描照明束，从而允许横向照明表面沿显微镜透镜的光轴移动；并通过包括与用于显微镜透镜和样品的相对轴向移动的装置分开的装置的聚焦装置重叠物体成像表面与横向照明表面。