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    在真空或低压环境中操作高压腔室且供观测的方法及装置
    103.
    发明授权
    在真空或低压环境中操作高压腔室且供观测的方法及装置 失效 转让

    公开(公告)号：CN100511568C

    公开(公告)日：2009-07-08

    申请号：CN200510070170.8

    申请日：2005-05-09

    申请人： 东捷科技股份有限公司

    发明人： 赵治宇 ,  谢文俊

    IPC分类号： H01J37/26 ,  H01J37/02 ,  B01L11/00 ,  B01L1/00

    CPC分类号： H01J37/20 ,  H01J2237/2002

    摘要： 本发明是有关一种在真空或低压环境中操作高压腔室且供观测的方法及装置，主要是于一壳体内部通过若干隔板由中央向外逐层形成一腔室，一蒸气室，一缓冲室或多缓冲室，并于该隔板上形成同轴的蒸气孔、内孔、外孔或缓冲孔，通过一加压装置对该腔室内注入较高压流体，而于该腔室外部则给予逐层气压降的环境，并通过控制该腔室与蒸气室间的压力差，以避免该腔室内的流体以液态形态自蒸气孔流出，可确保受高压的流体限制于该腔室内，通过此，可通过蒸气孔，内孔，外孔的同轴关是使探测源能够穿透腔室内的流体样品，以达到观测及分析的效果及目的。

    离子注入高温靶盘
    104.
    发明授权
    离子注入高温靶盘 失效

    公开(公告)号：CN100501907C

    公开(公告)日：2009-06-17

    申请号：CN200610031370.7

    申请日：2006-03-17

    申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

    发明人： 贾京英 ,  刘咸成 ,  王慧勇

    IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01L21/265 ,  H01L21/425

    摘要： 一种离子注入高温靶盘，包括带冷却水槽的靶盘座，靶盘座外周的晶片夹卡机构经支条同靶盘座相连，二点卡子经其连接角块固定在支条外端部，该支条上开有一条凹槽且其中置有移动板，装有硅衬板的支条的凹槽面有盖板，单点卡子固定在移动板的前部，位于所述支条内端部的夹紧弹簧的两端分别同该支条和移动板连接并在该夹紧弹簧的力作用下使移动板朝晶片中心移动；移动板上装有限位钉，支条上还装有位于移动板外端而顶端为斜面的晶片顶柱和可上、下运动的晶片顶杆；二点卡子和单点卡子用高纯硅制作，支条、移动板、盖板及所述各连接角块、螺钉用钼材料制作。本发明能使高温离子注入机在400℃-800℃的高温环境下对半导体晶片进行连续正常柱片。

    用于离子注入器的在线晶片电荷检测器和控制系统
    105.
    发明授权
    用于离子注入器的在线晶片电荷检测器和控制系统 失效

    公开(公告)号：CN100474494C

    公开(公告)日：2009-04-01

    申请号：CN01821192.5

    申请日：2001-12-18

    申请人： 艾克塞利斯技术公司

    发明人： A·M·哈林

    IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/304 ,  H01J37/02

    CPC分类号： H01J37/304 ,  H01J2237/31701

    摘要： 提供一种在线电荷检测器和控制系统(32)，其包括：(i)晶片支承件(22)，多个晶片(W)可以定位在该支承件上以便通过离子束(18)注入，所述支承件具有布置有直接邻接的晶片的部分，该部分比所述晶片的表面的导电性更强或更弱，所述晶片支承件(22)还具有中心(31)，多个晶片中的每个晶片离开该中心大致相同距离，所述晶片支承件还设置第一和第二开口(64、66)，该开口布置成离开所述中心(31)大致相同距离，(ii)用于接收分别通过所述第一和第二开口(64、66)的离子束的第一和第二部分(18a、18b)并且用于分别输出指示接收的离子束流大小的第一和第二输出信号(44、42)第一和第二电荷检测器(40、38)；以及(iii)用于比较所述第一和第二输出信号(44、42)并用于输出指示由第一和第二电荷检测器(40、38)接收的离子束流的差别的第三输出信号(48)的比较器(46)，所述第三输出信号(48)用来作为电荷中和系统(33)的输入以便控制所产生的低能量电子的供应。

    离子注入机的一维机械扫描装置
    106.
    发明授权
    离子注入机的一维机械扫描装置 失效

    公开(公告)号：CN100468606C

    公开(公告)日：2009-03-11

    申请号：CN200610076035.9

    申请日：2006-04-24

    申请人： 北京中科信电子装备有限公司

    发明人： 伍三忠 ,  彭立波 ,  戴习毛 ,  袁卫华 ,  钟新华

    IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01L21/265 ,  H01L21/425 ,  C30B31/22

    摘要： 本发明公开了一种离子注入机的一维机械扫描装置，包括靶台、伺服电机和线性运动推动机构，线性运动推动机构的连杆和摆动扫描从动臂的两端分别与靶台和固定座活动连接，构成平行四边形，摆动扫描从动臂的固定座一端与摆动扫描驱动臂的一端固定连接，摆动扫描驱动臂的另一端与线性驱动机构活动连接，线性驱动机构通过丝杆副与伺服电机连接。本发明消除了机械扫描对系统真空的影响，具有结构简单，成本低，扫描精准度高的特点。

    提供感应耦合射频电浆浸没枪的技术
    107.
    发明公开
    提供感应耦合射频电浆浸没枪的技术 无效

    公开(公告)号：CN101341570A

    公开(公告)日：2009-01-07

    申请号：CN200680047763.5

    申请日：2006-12-13

    申请人： 瓦里安半导体设备公司

    发明人： 彼得·F·库鲁尼西 ,  拉塞尔·罗 ,  艾力克斯恩德·S·培尔 ,  艾利克·R·科步 ,  伊桑·亚当·莱特

    IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/317

    摘要： 本发明是有关于一种用于提供感应耦合射频电浆浸没枪的技术。在一个特定例示性实施例中，可将所述技术实现为离子植入系统中的电浆浸没枪。所述电浆浸没枪可包含：具有一或多个孔径的电浆腔室；能够将至少一气态物质供应至所述电浆腔室的气体源；以及能够将射频电功率感应耦合至所述电浆腔室中以激发所述至少一气态物质从而产生电浆的电源。所述电浆腔室的整个内表面可不含金属材料，且所述电浆不可暴露至电浆腔室内的任何含金属组件。另外，所述一或多个孔径可足够宽以用于来自所述电浆的带电粒子的至少一部分流过。

    离子注入系统中用于等离子体发生的薄磁控管结构
    109.
    发明公开
    离子注入系统中用于等离子体发生的薄磁控管结构 失效

    公开(公告)号：CN1809910A

    公开(公告)日：2006-07-26

    申请号：CN200480017294.3

    申请日：2004-06-18

    申请人： 艾克塞利斯技术公司

    发明人： V·班威尼斯特 ,  W·迪佛吉利欧 ,  B·梵德伯格

    IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/02

    CPC分类号： H01J37/32082 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/3266 ,  H01J2237/0041

    摘要： 一种用于离子束的空间电荷中和的等离子体发生器被披露且置于可操作以产生离子束且沿射束线路径引导所述离子束的离子注入系统内。所述等离子体发生器包括可操作以在一部分所述射束线路径中产生电场的电场发生系统和可操作以在所述射束线路径的所述部分中产生磁场的磁场发生系统，其中所述磁场垂直于所述电场。所述等离子体发生器进一步包括可操作以将气体引入由所述电场和所述磁场占据的区域中的气体源。所述区域中的电子分别由于所述电场和所述磁场而在所述区域中移动，且至少一些所述电子与所述区域中的所述气体碰撞以使一部分所述气体离子化，由此在所述区域中产生等离子体。

    用于等离子抽取孔的安装机构
    110.
    发明公开
    用于等离子抽取孔的安装机构 失效

    公开(公告)号：CN1723527A

    公开(公告)日：2006-01-18

    申请号：CN200480001844.2

    申请日：2004-01-07

    申请人： 艾克塞利斯技术公司

    发明人： V·本威尼斯特

    IPC分类号： H01J37/02 ,  H01J37/317 ,  H01J27/18

    CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J2237/31701

    摘要： 提供了一种用于离子注入机的改进的电极组件。该组件包括：(i)位于第一平面内并具有第一孔的第一大致平面的电极；(ii)位于大致平行于第一平面的第二平面内并具有与第一孔对准的第二孔的第二大致平面的电极；以及(iii)将第一大致平面的电极连接到第二平面的电极上的一对连杆。连杆允许第二大致平面的电极相对于第一大致平面的电极以大致平行且可滑动的方式运动。连杆以彼此非平行的关系设置，使得在经历热膨胀时第一和第二电极可在这些非平行连杆上彼此间相对地滑动，以便增大或减少其间的距离，并同时维持平行的关系。