制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法

    公开(公告)号:CN101316790A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200680044605.4

    申请日:2006-09-27

    IPC分类号: B81C1/00

    CPC分类号: G02B26/0841

    摘要: 本发明公开了制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法。通过将诸如支撑柱和可动铰链之类的非反射元件布置在像素的反射表面后面,可以增强空间光调制器器件所提供的对比度。根据一个实施例,由牺牲层中的间隙所限定的反射材料的一体的肋将反射表面悬挂在下层的包含铰链的层之上。根据可替换的实施例,由在诸如氧化物之类的介入层中形成的间隙将反射表面与下层铰链分离。在任一实施例中,将相邻像素区域分离的壁可以在反射表面之下凹进,以进一步减少对入射光的不期望的散射并从而增强对比度。

    使用划线及折断工艺对光学器件进行晶片级封装的方法和装置

    公开(公告)号:CN101073144A

    公开(公告)日:2007-11-14

    申请号:CN200580042247.9

    申请日:2005-12-05

    IPC分类号: H01L21/30 H01L21/46

    摘要: 一种多层集成光学和电路装置具有包括至少一个集成电路芯片的第一衬底(101),所述集成电路芯片包括单元区域(107)和周边区域(106)。优选地,周边区域具有包括具有一个或多个接合焊盘(115)的接合焊盘区域(109)和围绕所述一个或多个接合焊盘(115)中各个接合焊盘的抗粘着区域(112)。该装置具有耦合到第一衬底(101)的第二衬底(114),第二衬底上带有至少一个或多个偏转器件(103)。将第一衬底(101)上至少一个或多个接合焊盘(115)暴露。该装置具有透明部件(201),透明部件覆盖于第二衬底(114)上方并同时形成空腔区域以形成夹层结构,空腔区域允许所述一个或多个偏转器件(103)在部分空腔区域中运动,夹层结构包括至少部分第一衬底(101)、部分第二衬底(114)、以及部分透明部件(201)。使所述一个或多个接合焊盘(115)以及抗粘着区域(112)暴露,而将所述一个或多个偏转器件(103)保持在所述的部分空腔区域中。

    反射式空间光调节器的结构

    公开(公告)号:CN1732506A

    公开(公告)日:2006-02-08

    申请号:CN03801745.8

    申请日:2003-05-30

    CPC分类号: G02B26/0841

    摘要: 本发明是空间光调节器(100),具有选择性地反射的可偏转微镜阵列(103)板(202),由第一衬底(105)制造。在另一衬底上,有用于微镜阵列(103)的寻址和控制电路(106),其使得控制电路(106)控制施加到与微镜板(204)相关的选定的电极(126)的电压。通常,控制电路(106)包括显示控制(108)、线路存储缓存(110)、脉宽调制阵列(112)和用于视频信号(120)和图形信号(122)的输入。镜阵列衬底(105)进一步具有隔离支持框架(210)和铰链(206),其中当静电力施加到微镜阵列板(204)时,与其相连的铰链使得镜板(204)相对于隔离支持框架(210)旋转。该旋转在选定的方向为反射光产生角度偏转。第一衬底和第二衬底压焊到一起。

    用于防止微机械系统中抗粘连的优先沉积润滑剂

    公开(公告)号:CN101573792B

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN200780049134.0

    申请日:2007-11-01

    IPC分类号: H01L21/00 B81C1/00

    摘要: 本发明涉及用于防止微机械系统中抗粘连的优先沉积润滑剂。本发明的实施例大体设计由于存在润滑剂而改善了可用寿命的器件,该润滑剂减小了机电器件中的各个运动部件之间发生粘连的可能性。本发明的实施例还大体包括器件及形成器件的方法,该器件具有一个或多个表面或区域,所述表面或区域上布置有某体积的润滑剂,用作“新鲜”润滑剂的现成供应以防止器件内的相互作用元件之间发生粘连。在一个方面,该体积的润滑剂内的成分形成气相或蒸气相,降低了所形成的器件中与粘连相关的失效的几率。在一种示例中,本发明的各方面特别有利于制造和使用微机械器件,例如MEMS器件、NEMS器件或其他类似的热学或流体器件。

    制造反射像素的方法及反射结构

    公开(公告)号:CN101316790B

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN200680044605.4

    申请日:2006-09-27

    IPC分类号: B81C1/00

    CPC分类号: G02B26/0841

    摘要: 本发明公开了制造具有高对比率的反射空间光调制器的方法。通过将诸如支撑柱和可动铰链之类的非反射元件布置在像素的反射表面后面,可以增强空间光调制器器件所提供的对比度。根据一个实施例,由牺牲层中的间隙所限定的反射材料的一体的肋将反射表面悬挂在下层的包含铰链的层之上。根据可替换的实施例,由在诸如氧化物之类的介入层中形成的间隙将反射表面与下层铰链分离。在任一实施例中,将相邻像素区域分离的壁可以在反射表面之下凹进,以进一步减少对入射光的不期望的散射并从而增强对比度。

    反射式空间光调节器
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101093282B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200710128466.X

    申请日:2003-05-30

    IPC分类号: G02B26/08

    摘要: 一种包括微镜阵列的反射式空间光调节器的制造。在一个实施例中,微镜阵列是通过仅使用两个主要蚀刻步骤由单晶材料的衬底制造而成的。第一步蚀刻在材料的第一侧中形成空穴。第二步蚀刻形成支持柱、垂直铰链和镜板。在第一和第二步蚀刻之间,可以将衬底压焊到寻址和控制电路上。