反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法

    公开(公告)号:CN100377303C

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN03802357.1

    申请日:2003-06-19

    Inventor: 宫岛义一

    Abstract: 本申请公开了一种反射镜设备、曝光设备以及器件制造方法。在通过反射引导曝光光线的曝光设备中,用在反射光学系统中的反射镜设备具有:一个具有一个反射所述曝光光线的反射表面的反射镜;用于散热冷却的散热板,被设置在离开所述反射镜的外表面的位置。所述散热板的设置确保入射到所述反射表面上并从该反射表面反射的所述曝光光线的通道区域。另外,用流过冷却管的冷却液体对各散热板进行温度控制。这样,可以抑制用在曝光设备的反射光学系统中的反射镜的温度上升,保持反射镜反射面的面形状的精度。

    光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法

    公开(公告)号:CN105892231B

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201610086176.2

    申请日:2016-02-16

    Abstract: 本发明涉及光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法。该光刻装置具有被配置为分别在属于一个批次的多个基板上执行图案化的多个处理单元,以及控制器,该控制器被配置为基于指定该多个基板中的一个基板的特定信息来执行多个处理单元中的处理该多个基板中的该一个基板的一个处理单元的确定并控制该多个处理单元使得基于与批次对应的配方信息并行地使用多个处理单元分别在多个基板上执行图案化。

    光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法

    公开(公告)号:CN105892231A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201610086176.2

    申请日:2016-02-16

    Abstract: 本发明涉及光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法。该光刻装置具有被配置为分别在属于一个批次的多个基板上执行图案化的多个处理单元,以及控制器,该控制器被配置为基于指定该多个基板中的一个基板的特定信息来执行多个处理单元中的处理该多个基板中的该一个基板的一个处理单元的确定并控制该多个处理单元使得基于与批次对应的配方信息并行地使用多个处理单元分别在多个基板上执行图案化。

    光刻装置和物品制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105319861A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510293935.8

    申请日:2015-06-02

    Abstract: 一种光刻装置包括原版传送路线、基板传送路线和多个图形形成设备,每个图形形成设备被构造用于使用原版在基板上进行图形形成。所述多个图形形成设备布置成两列。基板传送路线在所述两列之间并沿所述两列提供。原版传送路线提供在两列中的每列上,在两列原版传送路线之间并沿着两列原版传送路线布置两列图形形成设备。一种物品制造方法。

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