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公开(公告)号：CN113168099A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006354.0
申请日：2020-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含：树脂A，通过酸的作用而极性增大；树脂B，包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上；以及化合物，通过光化射线或辐射线的照射而产生酸，通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上，其中，上述树脂B1～上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN111902773A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980021461.8
申请日：2019-03-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物及其制造方法以及使用上述感光性树脂组合物而成的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光性树脂组合物包含烯属不饱和化合物、通过酸的作用而极性增大的树脂及金属原子，上述金属原子的含量的合计相对于感光性树脂组合物的总质量为1ppt以上且30ppb以下，上述烯属不饱和化合物的含量相对于感光性树脂组合物的总质量为0.0001质量％以上且1质量％以下。
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公开(公告)号：CN106605174B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201580047686.2
申请日：2015-09-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种负型图案形成方法、保护膜形成用组合物及电子元件制法，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组合物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由保护膜被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物(A)，以及树脂(X)。
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公开(公告)号：CN106605174A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201580047686.2
申请日：2015-09-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法及该图案形成方法中适合使用的保护膜形成用组合物，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组合物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由所述保护膜被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；所述保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物(A)，以及树脂(X)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104364716A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201380030755.X
申请日：2013-06-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/405
Abstract: 图案形成方法包括：(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物(I)形成第一膜的步骤，(ii)将所述第一膜曝光的步骤，(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤，(iv)通过使用特定组合物(II)在所述负型图案上形成第二膜的步骤，(v)增加在所述第二膜中存在的所述特定化合物的极性的步骤，以及(vi)通过使用含有有机溶剂的移除剂移除所述第二膜的特定区域的步骤。
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公开(公告)号：CN118020024A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280064908.1
申请日：2022-09-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其在将所形成的抗蚀剂图案用作掩膜而进行蚀刻处理的情况下，所形成的图案不易产生缺陷，并且保存稳定性优异。另外，本发明的课题也在于提供一种抗蚀剂图案的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过酸的作用而极性增大的树脂、光酸产生剂、选自由式(1)表示的化合物及由式(2)表示的化合物所组成的组中的至少一种的化合物Y、以及金属原子，上述化合物Y的含量相对于上述金属原子的含量的质量比为1.0×10～1.0×109。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113168098B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202080006340.9
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号：CN113366081A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011046.7
申请日：2020-01-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种长期保存时的保存稳定性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)。
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公开(公告)号：CN108139691A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680057969.X
申请日：2016-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0388 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案崩塌的发生和抗蚀剂C/H图案中的遗漏不良的发生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液为用于对由感光化射线性或感放射线性树脂组合物得到的抗蚀剂膜进行显影及清洗中的至少一种且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液含有相对介电常数为4.0以下的第1有机溶剂和相对介电常数为6.0以上的第2有机溶剂。
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