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公开(公告)号：CN105637417A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201480056864.3
申请日：2014-11-21
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325
Abstract: 感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及具有至少一个氧原子的化合物(C)。其中，所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。
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公开(公告)号：CN114072379B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202080045638.0
申请日：2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上
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公开(公告)号：CN112368640A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。
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公开(公告)号：CN109643061B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201780052785.9
申请日：2017-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN113168098A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006340.9
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110088679A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780077182.4
申请日：2017-12-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及光酸产生剂、以及使用这些的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过光化射线或放射线的照射而产生pKa为-1.40以上的酸的光酸产生剂、及(B)具有含有酸分解性基的重复单元的树脂，通过具有上述酸分解性基的重复单元的Et h灵敏度为5.64以下的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，尤其在形成超微细的图案时，粗糙性能、曝光宽容度及焦点裕度非常优异。
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公开(公告)号：CN113168098B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202080006340.9
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含：选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上；以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号：CN110088679B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN201780077182.4
申请日：2017-12-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及光酸产生剂、以及使用这些的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过光化射线或放射线的照射而产生pKa为‑1.40以上的酸的光酸产生剂、及(B)具有含有酸分解性基的重复单元的树脂，通过具有上述酸分解性基的重复单元的Et h灵敏度为5.64以下的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，尤其在形成超微细的图案时，粗糙性能、曝光宽容度及焦点裕度非常优异。
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公开(公告)号：CN112368640B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201980039802.4
申请日：2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：光产酸剂A，其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸；选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上；以及酸分解性树脂，在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下，光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114072379A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202080045638.0
申请日：2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～下述化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物混合而制造感光化射线性或感放射线性树脂组合物的方法。
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